JPH0475798B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0475798B2 JPH0475798B2 JP6409386A JP6409386A JPH0475798B2 JP H0475798 B2 JPH0475798 B2 JP H0475798B2 JP 6409386 A JP6409386 A JP 6409386A JP 6409386 A JP6409386 A JP 6409386A JP H0475798 B2 JPH0475798 B2 JP H0475798B2
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- Japan
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- chlorine
- concentration
- water
- injection
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、浄水場の後塩素注入制御に係り、特
に、浄水中の遊離塩素濃度を維持し、塩素注入量
を最適化するのに好適な後塩素注入制御装置に関
する。
に、浄水中の遊離塩素濃度を維持し、塩素注入量
を最適化するのに好適な後塩素注入制御装置に関
する。
従来の後塩素注入制御は、浄水の遊離塩素濃度
を目標値に維持するために、浄水池の遊離塩素濃
度を測定し、目標値と測定値の偏差により注入制
御を行なつている。しかし、アンモニア性窒素を
含む原水に前塩素処理を行なつた場合、以後の処
理水中の遊離塩素濃度は、時間経過により変動
し、後塩素注入時にも変化している場合があり、
浄水中の遊離塩素濃度が測定点以後変動してしま
う点については言及されていなかつた。なお、後
塩素注入に関する文献として例えば「上水道工
学」国民科学社(昭和48年3月発行)の第356〜
357頁に記載されている。
を目標値に維持するために、浄水池の遊離塩素濃
度を測定し、目標値と測定値の偏差により注入制
御を行なつている。しかし、アンモニア性窒素を
含む原水に前塩素処理を行なつた場合、以後の処
理水中の遊離塩素濃度は、時間経過により変動
し、後塩素注入時にも変化している場合があり、
浄水中の遊離塩素濃度が測定点以後変動してしま
う点については言及されていなかつた。なお、後
塩素注入に関する文献として例えば「上水道工
学」国民科学社(昭和48年3月発行)の第356〜
357頁に記載されている。
上記従来技術は、アンモニア性窒素を含む原水
に、前塩素処理を行なつた場合の遊離塩素濃度の
時間的変化については言及されておらず、後塩素
注入により浄水中の遊離塩素濃度を遊離塩素濃度
測定点で目標値に合せたとしても、以後変化して
しまい遊離塩素濃度が上昇する場合があり、後塩
素注入が過大であつたり、逆に降下してしまい、
後塩素注入量が過少となつたりする問題があつ
た。
に、前塩素処理を行なつた場合の遊離塩素濃度の
時間的変化については言及されておらず、後塩素
注入により浄水中の遊離塩素濃度を遊離塩素濃度
測定点で目標値に合せたとしても、以後変化して
しまい遊離塩素濃度が上昇する場合があり、後塩
素注入が過大であつたり、逆に降下してしまい、
後塩素注入量が過少となつたりする問題があつ
た。
本発明の目的は、後塩素注入の目標値に、遊離
塩素濃度の変化を推定し、目標値を補正すること
により浄水中の遊離塩素濃度を安定させ、後塩素
注入量を最適化する後塩素注入制御装置を提供す
ることにある。
塩素濃度の変化を推定し、目標値を補正すること
により浄水中の遊離塩素濃度を安定させ、後塩素
注入量を最適化する後塩素注入制御装置を提供す
ることにある。
上記目的は、原水のアンモニア濃度と、前塩素
注入率と凝集水PHによる遊離塩素濃度変化をジヤ
ーテストによりパターンとしてメモリに蓄積し、
実測した原水アンモニア濃度、前塩素注入率、凝
集水PHによりパターンと照合して後塩素注入点で
の遊離塩素濃度と最終的に達する遊離塩素濃度の
差を時間遅れを考慮して後塩素注入率目標値に補
正を加えることにより達成される。
注入率と凝集水PHによる遊離塩素濃度変化をジヤ
ーテストによりパターンとしてメモリに蓄積し、
実測した原水アンモニア濃度、前塩素注入率、凝
集水PHによりパターンと照合して後塩素注入点で
の遊離塩素濃度と最終的に達する遊離塩素濃度の
差を時間遅れを考慮して後塩素注入率目標値に補
正を加えることにより達成される。
遊離塩素濃度は、第2図のようにアンモニア濃
度と、塩素注入率と、PHによりその変化を把握す
ることができる。そこで、アルカリ剤注入、凝集
剤注入後の安定したPH値を示す凝集水のPHと原水
アンモニア性窒素濃度と塩素注入量とにより遊離
塩素濃度の変化をジヤーテストにより把握し、パ
ターンとしてメモリに蓄積することができる。そ
れによつて、実測したアンモニア濃度、塩素注入
率、凝集水PHによりパターンと照合することによ
り、正確に後塩素注入点での遊離塩素濃度と給水
点で達する遊離塩素濃度の差を得ることができ
る。
度と、塩素注入率と、PHによりその変化を把握す
ることができる。そこで、アルカリ剤注入、凝集
剤注入後の安定したPH値を示す凝集水のPHと原水
アンモニア性窒素濃度と塩素注入量とにより遊離
塩素濃度の変化をジヤーテストにより把握し、パ
ターンとしてメモリに蓄積することができる。そ
れによつて、実測したアンモニア濃度、塩素注入
率、凝集水PHによりパターンと照合することによ
り、正確に後塩素注入点での遊離塩素濃度と給水
点で達する遊離塩素濃度の差を得ることができ
る。
遊離塩素濃度と給水点遊離塩素濃度の差を時間
遅れを考慮し、後塩素注入目標値に補正すること
により、過不足のない後塩素注入を行なうことが
できる。
遅れを考慮し、後塩素注入目標値に補正すること
により、過不足のない後塩素注入を行なうことが
できる。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明す
る。
る。
1は過水、2は浄水池、3は浄水、4は塩素
注入機、5は遊離塩素計、6は後塩素注入制御装
置を示す。後塩素注入制御装置6は、原水アンモ
ニア性窒素濃度信号7と前塩素注入率信号8と凝
集水PH9を入力し、後塩素注入点での遊離塩素濃
度と給水点での遊離塩素の差による補正信号24
を出力する回路11と回路11の差出力24を入
力し時間マツチングを行なう遅延回路12と遅延
回路12からの遅延補正信号25と目標遊離塩素
濃度信号10を比較する比較回路13と比較回路
13から出力される補正目標遊離塩素濃度信号2
7と遊離塩素計5からの遊離塩素濃度フイードバ
ツク信号28により比例積分演算を行ない塩素注
入機4へ操作信号29を出力する演算回路14よ
り成る。後塩素注入制御装置6中の演算回路14
からの操作信号29を入力し、塩素注入機4は操
作信号にあつた塩素を過水1へ注入する。
注入機、5は遊離塩素計、6は後塩素注入制御装
置を示す。後塩素注入制御装置6は、原水アンモ
ニア性窒素濃度信号7と前塩素注入率信号8と凝
集水PH9を入力し、後塩素注入点での遊離塩素濃
度と給水点での遊離塩素の差による補正信号24
を出力する回路11と回路11の差出力24を入
力し時間マツチングを行なう遅延回路12と遅延
回路12からの遅延補正信号25と目標遊離塩素
濃度信号10を比較する比較回路13と比較回路
13から出力される補正目標遊離塩素濃度信号2
7と遊離塩素計5からの遊離塩素濃度フイードバ
ツク信号28により比例積分演算を行ない塩素注
入機4へ操作信号29を出力する演算回路14よ
り成る。後塩素注入制御装置6中の演算回路14
からの操作信号29を入力し、塩素注入機4は操
作信号にあつた塩素を過水1へ注入する。
回路11は、原水アンモニア性窒素濃度信号7
と前塩素注入率信号8と凝集水PH9とを入力する
ことにより、予めメモリに蓄積したパターンか
ら、原水アンモニア性窒素濃度信号7、前塩素注
入率信号8、凝集水PH9に該当するパターンを選
択し後塩素注入地点での遊離塩素濃度と給水地点
での遊離塩素の差を補正信号24として出力す
る。補正信号24は一時遅延回路12に格納さ
れ、処理水が過池を通り過水となり後塩素注
入地点まで流下する時間遅れを補正し、遅延補正
信号25として出力される。遅延補正信号25
と、目標遊離塩素濃度信号10との差分を取り、
補正目標遊離塩素濃度信号27が比較回路13か
ら出力される。補正目標遊離塩素濃度信号27と
遊離塩素濃度サイードバツク信号28が、比例積
分回路14に入力され塩素注入機4へ操作信号2
9を出力する。
と前塩素注入率信号8と凝集水PH9とを入力する
ことにより、予めメモリに蓄積したパターンか
ら、原水アンモニア性窒素濃度信号7、前塩素注
入率信号8、凝集水PH9に該当するパターンを選
択し後塩素注入地点での遊離塩素濃度と給水地点
での遊離塩素の差を補正信号24として出力す
る。補正信号24は一時遅延回路12に格納さ
れ、処理水が過池を通り過水となり後塩素注
入地点まで流下する時間遅れを補正し、遅延補正
信号25として出力される。遅延補正信号25
と、目標遊離塩素濃度信号10との差分を取り、
補正目標遊離塩素濃度信号27が比較回路13か
ら出力される。補正目標遊離塩素濃度信号27と
遊離塩素濃度サイードバツク信号28が、比例積
分回路14に入力され塩素注入機4へ操作信号2
9を出力する。
本実施例によれば、後塩素注入点以後の遊離塩
素濃度の変化を考慮し、また、塩素の過不足のな
い注入を行なうことができる。
素濃度の変化を考慮し、また、塩素の過不足のな
い注入を行なうことができる。
本発明によれば、アンモニア性窒素を含む原水
に前塩素処理を行ない、遊離塩素濃度が時間的に
変化することによる後塩素注入後での遊離塩素濃
度の変動を抑え、安定した水質の浄水を給水し、
過不足のない後塩素注入が可能となる。
に前塩素処理を行ない、遊離塩素濃度が時間的に
変化することによる後塩素注入後での遊離塩素濃
度の変動を抑え、安定した水質の浄水を給水し、
過不足のない後塩素注入が可能となる。
第1図は本発明の一実施例の系統図、第2図a
はPHによる遊離塩素濃度の時間的変化図、第2図
bは塩素注入量による遊離塩素濃度の時間的変化
図である。 4……塩素注入機、5……遊離塩素計。
はPHによる遊離塩素濃度の時間的変化図、第2図
bは塩素注入量による遊離塩素濃度の時間的変化
図である。 4……塩素注入機、5……遊離塩素計。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 原水を取水し前記原水に塩素を注入する前塩
素注入設備と急速過処理後の過水に塩素を注
入し浄水として配水する浄水場において、 前記原水のアンモニア性窒素濃度と前塩素処理
後及び凝集剤注入後の凝集水のPHと遊離塩素濃度
により、後塩素注入以後の前記遊離塩素濃度の変
化量を推定し、後塩素注入率の目標値に補正を加
えることを特徴とする後塩素注入制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6409386A JPS62221492A (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | 後塩素注入制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6409386A JPS62221492A (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | 後塩素注入制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62221492A JPS62221492A (ja) | 1987-09-29 |
| JPH0475798B2 true JPH0475798B2 (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=13248113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6409386A Granted JPS62221492A (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | 後塩素注入制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62221492A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0818024B2 (ja) * | 1991-12-24 | 1996-02-28 | 株式会社栗本鐵工所 | 追塩自動制御装置 |
-
1986
- 1986-03-24 JP JP6409386A patent/JPS62221492A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62221492A (ja) | 1987-09-29 |
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