JPH0476353B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0476353B2 JPH0476353B2 JP19411588A JP19411588A JPH0476353B2 JP H0476353 B2 JPH0476353 B2 JP H0476353B2 JP 19411588 A JP19411588 A JP 19411588A JP 19411588 A JP19411588 A JP 19411588A JP H0476353 B2 JPH0476353 B2 JP H0476353B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium carbide
- single crystal
- melt
- weight
- single crystals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 36
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 11
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 2
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta+5] WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は融液法による炭化チタン単結晶の育成
法の改良に関する。
法の改良に関する。
炭化チタンは融点(3100℃)、硬度(ビツカー
ス硬度3000Kg/mm2)が高く、各種の超硬工具や表
面保護材として広く実用に供せられている。最近
では炭化チタンの格子定数(4.328Å)が耐環境
素子材料などとして注目されている炭化ケイ素の
格子定数(4.3596Å)に近く、かつ高温で安定な
ことから、その基板結晶としての利用も検討され
ている。そのためには大型で高品質な単結晶が要
望されている。
ス硬度3000Kg/mm2)が高く、各種の超硬工具や表
面保護材として広く実用に供せられている。最近
では炭化チタンの格子定数(4.328Å)が耐環境
素子材料などとして注目されている炭化ケイ素の
格子定数(4.3596Å)に近く、かつ高温で安定な
ことから、その基板結晶としての利用も検討され
ている。そのためには大型で高品質な単結晶が要
望されている。
従来技術
従来の炭化チタン単結晶の育成法としては、溶
液法、気相法、固相法、融液法が知られている。
その中で、大型単結晶を育成するには融液法が適
している。融液法としては引き上げ法、アークベ
ルヌイ法、フローテイングゾーン法があるが、高
品質の単結晶を育成するにはフローテイングゾー
ン法が適している。
液法、気相法、固相法、融液法が知られている。
その中で、大型単結晶を育成するには融液法が適
している。融液法としては引き上げ法、アークベ
ルヌイ法、フローテイングゾーン法があるが、高
品質の単結晶を育成するにはフローテイングゾー
ン法が適している。
融液法による炭化チタン単結晶の育成法におい
ては、従来単結晶の育成が容易なように高純度の
炭化チタン原料が用いられてきた。しかし、この
方法で育成された単結晶中には多くの欠陥(例え
ば粒界密度で103cm/cm2)が存在する欠点があつ
た。
ては、従来単結晶の育成が容易なように高純度の
炭化チタン原料が用いられてきた。しかし、この
方法で育成された単結晶中には多くの欠陥(例え
ば粒界密度で103cm/cm2)が存在する欠点があつ
た。
発明の目的
本発明は前記の従来法における欠点を解消せん
とするものであり、その目的は炭化チタン単結晶
中の欠陥(特に粒界密度)を少なくし、大型で良
質の炭化チタン単結晶を育成する方法を提供する
にある。
とするものであり、その目的は炭化チタン単結晶
中の欠陥(特に粒界密度)を少なくし、大型で良
質の炭化チタン単結晶を育成する方法を提供する
にある。
発明の構成
本発明者らは前記目的を達成すべく研究の結
果、融液法によつて炭化チタン単結晶を育成する
に際し、炭化チタンに対しタンタルまたはニオブ
もしくはそれらの混合物を0.2〜10重量%含有さ
せて出発原料として使用すると、単結晶中の中心
部分で粒界がなくなり全体における粒界密度が
102cm/cm2と従来の値(103cm/cm2)より1桁も少
なくなることを知見し得た。この知見に基づいて
本発明を完成した。
果、融液法によつて炭化チタン単結晶を育成する
に際し、炭化チタンに対しタンタルまたはニオブ
もしくはそれらの混合物を0.2〜10重量%含有さ
せて出発原料として使用すると、単結晶中の中心
部分で粒界がなくなり全体における粒界密度が
102cm/cm2と従来の値(103cm/cm2)より1桁も少
なくなることを知見し得た。この知見に基づいて
本発明を完成した。
本発明の要旨は、炭化チタン単結晶を融液法に
よつて育成する方法において、0.2〜10重量%の
タンタルまたはニオブもしくはそれらの混合物を
含有させた炭化チタンを出発原料として使用する
ことを特徴とする炭化チタン単結晶の育成法にあ
る。タンタルまたはニオブもしくはこれらの混合
物が0.2重量%より少なく、また10重量%を超え
ると、共に粒界密度がふえる。従つて、0.2〜10
重量%の範囲であることが必要である。
よつて育成する方法において、0.2〜10重量%の
タンタルまたはニオブもしくはそれらの混合物を
含有させた炭化チタンを出発原料として使用する
ことを特徴とする炭化チタン単結晶の育成法にあ
る。タンタルまたはニオブもしくはこれらの混合
物が0.2重量%より少なく、また10重量%を超え
ると、共に粒界密度がふえる。従つて、0.2〜10
重量%の範囲であることが必要である。
本発明の方法を大型で高品位の単結晶が育成し
易いフローテイングゾーン法(以下FZ法と言う)
によつて図面に基づいて実施態様を説明する。
易いフローテイングゾーン法(以下FZ法と言う)
によつて図面に基づいて実施態様を説明する。
第1図はFZ法育成炉の概念図で、1は上軸、
1′は下軸、2,2′はホルダー、3は焼結棒、
3′は初期融帯形成用材、4は育成した単結晶、
5は融帯、6は高周波ワークコイルを示す。
1′は下軸、2,2′はホルダー、3は焼結棒、
3′は初期融帯形成用材、4は育成した単結晶、
5は融帯、6は高周波ワークコイルを示す。
炭化チタン粉末にタンタルまたはニオブ粉末を
0.2〜10重量%混合し、これに結合剤として少量
の樟脳を加えてラバープレス(1000Kg/cm2)によ
り圧粉棒を作る。この圧粉棒を真空中または不活
性ガス雰囲気中で2000℃に加熱して焼結棒を得
る。この際焼結棒の組成を厳密に制御するには、
焼結体の組成分析を行い、配合組成と焼結組成の
対応を行うことが好ましい。
0.2〜10重量%混合し、これに結合剤として少量
の樟脳を加えてラバープレス(1000Kg/cm2)によ
り圧粉棒を作る。この圧粉棒を真空中または不活
性ガス雰囲気中で2000℃に加熱して焼結棒を得
る。この際焼結棒の組成を厳密に制御するには、
焼結体の組成分析を行い、配合組成と焼結組成の
対応を行うことが好ましい。
得られた焼結棒3を上軸1にホルダー2を介し
てセツトし、その下部に初期融帯形成用材3′と
して炭化チタン単結晶または焼結棒をホルダー
2′を介して固定支持する。次に初期融帯形成用
材3′の端を高周波ワークコイル6からの誘導加
熱により溶融させ融帯5を形成させ、上軸1と下
軸1′をゆつくり下方に移動させて結晶を育成す
る。
てセツトし、その下部に初期融帯形成用材3′と
して炭化チタン単結晶または焼結棒をホルダー
2′を介して固定支持する。次に初期融帯形成用
材3′の端を高周波ワークコイル6からの誘導加
熱により溶融させ融帯5を形成させ、上軸1と下
軸1′をゆつくり下方に移動させて結晶を育成す
る。
その時の育成速度は0.2〜5cm/h、好ましく
は0.7〜2cm/hである。雰囲気は数気圧のアル
ゴン、ヘリウム等の不活性ガスが用いられる。こ
れは蒸発の抑制と高周波ワークコイル間及び該コ
イルと試料間の放電を抑制する作用をする。
は0.7〜2cm/hである。雰囲気は数気圧のアル
ゴン、ヘリウム等の不活性ガスが用いられる。こ
れは蒸発の抑制と高周波ワークコイル間及び該コ
イルと試料間の放電を抑制する作用をする。
本発明の方法を実施するには、前記のフローテ
イングゾーン法に限らず、融液から引き上げるこ
とによる引き上げ法、アークベルヌイ法及びゾー
ンレベリング法(上下軸に固定された試料間に炭
素または金属円板をはさみ、この円板と初期融帯
形成材を溶かし融帯を形成させる。)によつても
行うことができる。
イングゾーン法に限らず、融液から引き上げるこ
とによる引き上げ法、アークベルヌイ法及びゾー
ンレベリング法(上下軸に固定された試料間に炭
素または金属円板をはさみ、この円板と初期融帯
形成材を溶かし融帯を形成させる。)によつても
行うことができる。
実施例1 TiC0.95の単結晶の育成
TiC0.95単結晶の育成には融帯組成をC/Ti=
1.3、供給焼結棒の組成をC/Ti=1.02に制御す
るのがよいことを予備実験で確かめた。
1.3、供給焼結棒の組成をC/Ti=1.02に制御す
るのがよいことを予備実験で確かめた。
炭化チタン粉末に3原子%の炭素粉及び0.5重
量%のタンタル粉末を添加し混合後、結合剤とし
て樟脳を少量加えて再び混合した。この混合物を
直径10φのゴム袋に詰め円柱状にし、これを1000
気圧でラバープレスして圧粉体を得た。この圧粉
体を黒鉛サセプターに納め、真空中2000℃で加熱
して焼結体を得た。
量%のタンタル粉末を添加し混合後、結合剤とし
て樟脳を少量加えて再び混合した。この混合物を
直径10φのゴム袋に詰め円柱状にし、これを1000
気圧でラバープレスして圧粉体を得た。この圧粉
体を黒鉛サセプターに納め、真空中2000℃で加熱
して焼結体を得た。
これをFZ育成炉の上軸にホルダーを介して固
定し、下軸には炭化チタン単結晶<100>を固定
し、両者の間に炭素円盤(約0.1g)を挟んだ。
育成炉に7気圧のヘリウムを充填後、高周波加熱
によりTiCと黒鉛円盤を溶かし初期融帯を形成
し、1.5cm/hで下方に移動させて<100>方向に
単結晶を育成した。
定し、下軸には炭化チタン単結晶<100>を固定
し、両者の間に炭素円盤(約0.1g)を挟んだ。
育成炉に7気圧のヘリウムを充填後、高周波加熱
によりTiCと黒鉛円盤を溶かし初期融帯を形成
し、1.5cm/hで下方に移動させて<100>方向に
単結晶を育成した。
得られた炭化チタン単結晶は、直径09cm、長さ
6cmで、分析の結果、始端部、中央部、終端部の
炭素含量はそれぞれ19.32,19.25,19.37重量%で
あり、組成にしてC/Ti=0.955,0.951,0.958で
あつた。タンタルは結晶中に均一に分布してお
り、濃度は炭化チタンの蒸発のため少し増加し、
0.53重量%であつた。単結晶中の粒界密度は
(100)面をエツチングして測定した結果、200
cm/cm2でタンタルを含有させない場合のそれに比
較して一桁近く低くなつた。
6cmで、分析の結果、始端部、中央部、終端部の
炭素含量はそれぞれ19.32,19.25,19.37重量%で
あり、組成にしてC/Ti=0.955,0.951,0.958で
あつた。タンタルは結晶中に均一に分布してお
り、濃度は炭化チタンの蒸発のため少し増加し、
0.53重量%であつた。単結晶中の粒界密度は
(100)面をエツチングして測定した結果、200
cm/cm2でタンタルを含有させない場合のそれに比
較して一桁近く低くなつた。
実施例2 TiC0.95単結晶の育成
出発物質は炭化チタン粉末に3原子%の炭素粉
及び0.5重量%のニオブ粉末を添加混合して作製
した。
及び0.5重量%のニオブ粉末を添加混合して作製
した。
単結晶の育成は実施例1と同様の手順により行
つた。
つた。
得られた炭化チタン単結晶は、直径0.9cm、長
さ6cmで、分析の結果、始端部、中央部、終端部
の炭素含量はそれぞれ、19.20,19.21,19.30重量
%であり、組成にしてC/Ti=0.948,0.948,
0.945であつた。
さ6cmで、分析の結果、始端部、中央部、終端部
の炭素含量はそれぞれ、19.20,19.21,19.30重量
%であり、組成にしてC/Ti=0.948,0.948,
0.945であつた。
ニオブは結晶中に均一に分布しており、濃度は
炭化チタンの蒸発のため約2%増加し、0.51重量
%であつた。単結晶中の粒界密度は、(100)面を
エツチングして測定した結果、250cm/cm2で、ニ
オブを含有させない場合のそれに比較して一桁近
く低くなつた。
炭化チタンの蒸発のため約2%増加し、0.51重量
%であつた。単結晶中の粒界密度は、(100)面を
エツチングして測定した結果、250cm/cm2で、ニ
オブを含有させない場合のそれに比較して一桁近
く低くなつた。
発明の効果
本発明の方法によると、炭化チタン単結晶中の
欠陥を少なくし、大型で良質の炭化チタン単結晶
を育成することができる。
欠陥を少なくし、大型で良質の炭化チタン単結晶
を育成することができる。
第1図はFZ法の概念図である。
1……上軸、1′……下軸、2,2′……ホルダ
ー、3……炭化チタン焼結棒、3′……初期融帯
形成用材、4……育成した炭化チタン単結晶、5
……融帯、6……高周波ワークコイル。
ー、3……炭化チタン焼結棒、3′……初期融帯
形成用材、4……育成した炭化チタン単結晶、5
……融帯、6……高周波ワークコイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 炭化チタン単結晶を融液法によつて育成する
方法において、0.2〜10重量%のタンタルまたは
ニオブもしくはそれらの混合物を含有させた炭化
チタンを出発原料として使用することを特徴とす
る炭化チタン単結晶の育成法。 2 融液法がフローテイングゾーン法である特許
請求の範囲第1項の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19411588A JPH0244100A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 炭化チタン単結晶の育成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19411588A JPH0244100A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 炭化チタン単結晶の育成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244100A JPH0244100A (ja) | 1990-02-14 |
| JPH0476353B2 true JPH0476353B2 (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=16319172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19411588A Granted JPH0244100A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 炭化チタン単結晶の育成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244100A (ja) |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP19411588A patent/JPH0244100A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0244100A (ja) | 1990-02-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Otani et al. | Preparation of TiCx single crystals with maximum carbon content by a floating zone technique | |
| Otani et al. | Preparation of HfB2 and ZrB2 single crystals by the floating-zone method | |
| Otani et al. | Preparation of NbCx single crystals by a floating zone technique | |
| US5069743A (en) | Orientation control of float-zone grown TiC crystals | |
| JPH0476352B2 (ja) | ||
| Ginley et al. | Preparation and czochralski crystal growth of the iron titanates, FeTiO3, Fe2TiO4, and Fe2TiO5 | |
| JPH0244100A (ja) | 炭化チタン単結晶の育成法 | |
| JPH0686358B2 (ja) | 硼化セリウム系単結晶とその育成法 | |
| JPS63256598A (ja) | 炭化チタン単結晶の育成法 | |
| JPS5812240B2 (ja) | 炭化ハフニウム結晶体の製造法 | |
| KR102961656B1 (ko) | 순도가 높은 맥스를 얻는 맥스의 제조방법 | |
| JPS63185898A (ja) | 高抵抗CdTe結晶及びその作成方法 | |
| JPH0477397A (ja) | 硼化ランタン系単結晶とその育成法 | |
| JPS5812239B2 (ja) | 炭化ジルコニウムの結晶体の製造法 | |
| JPS5860699A (ja) | 炭化チタン単結晶の育成法 | |
| JP2929007B1 (ja) | Va族二ホウ化物単結晶の育成法 | |
| CN1195717A (zh) | 金绿宝石族装饰宝石的生长方法及其装置 | |
| JP3612187B2 (ja) | ルツボ用サセプタ | |
| JPH02164787A (ja) | 遷移金属炭化物単結晶の製造法 | |
| RU2296824C1 (ru) | Способ получения шихты для выращивания монокристаллов на основе оксидов редкоземельных, рассеянных и тугоплавких металлов или кремния | |
| JP2997761B2 (ja) | 二ホウ化レニウム単結晶の製造方法 | |
| JPH0232237B2 (ja) | Chitantanchitsukabutsunotanketsushonoseizoho | |
| JPH0891995A (ja) | 二ホウ化チタン単結晶の育成法 | |
| JPH0688874B2 (ja) | 硼化ランタン系単結晶とその育成法 | |
| JPS6247000A (ja) | タングステン・カ−バイドの結晶体の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |