JPH0244100A - 炭化チタン単結晶の育成法 - Google Patents
炭化チタン単結晶の育成法Info
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- JPH0244100A JPH0244100A JP19411588A JP19411588A JPH0244100A JP H0244100 A JPH0244100 A JP H0244100A JP 19411588 A JP19411588 A JP 19411588A JP 19411588 A JP19411588 A JP 19411588A JP H0244100 A JPH0244100 A JP H0244100A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は融液法による炭化チタン単結晶の育成法の改良
に関する。
に関する。
炭化チタンは融点(3100°C)、硬度(ビッカース
硬度3000 kg/w”)が高く、各種の超硬工具や
表面保護材として広く実用に供せられている。最近では
炭化チタンの格子定数(4,328人)が耐環境素子材
料などとして注目されている炭化ケイ素の格子定数(4
,3596人)に近く、かつ高温で安定なことから、そ
の基板結晶としての利用も検討されている。そのために
は大型で高品質な単結晶が要望されている。
硬度3000 kg/w”)が高く、各種の超硬工具や
表面保護材として広く実用に供せられている。最近では
炭化チタンの格子定数(4,328人)が耐環境素子材
料などとして注目されている炭化ケイ素の格子定数(4
,3596人)に近く、かつ高温で安定なことから、そ
の基板結晶としての利用も検討されている。そのために
は大型で高品質な単結晶が要望されている。
従来技術
従来の炭化チタン単結晶の育成法としては、溶液法、気
相法、固相法、融液法が知られている。
相法、固相法、融液法が知られている。
その中で、大型単結晶を育成するには融液法が適してい
る。融液法としては引き上げ法、アークヘルヌイ法、フ
ローティングゾーン法があるが、高品質の単結晶を育成
するにはフローティングゾーン法が適している。
る。融液法としては引き上げ法、アークヘルヌイ法、フ
ローティングゾーン法があるが、高品質の単結晶を育成
するにはフローティングゾーン法が適している。
融液法による炭化チタン単結晶の育成法においては、従
来単結晶の育成が容易なように高純度の炭化チタン原料
が用いられてきた。しかし、この方法で育成された単結
晶中には多くの欠陥(例えば粒界密度で10” C11
/CI” )が存在する欠点があった。
来単結晶の育成が容易なように高純度の炭化チタン原料
が用いられてきた。しかし、この方法で育成された単結
晶中には多くの欠陥(例えば粒界密度で10” C11
/CI” )が存在する欠点があった。
発明の目的
本発明は前記の従来法における欠点を解消せんとするも
のであり、その目的は炭化チタン単結晶中の欠陥(特に
粒界密度)を少なくし、大型で良質の炭化チタン単結晶
を育成する方法を提供するにある。
のであり、その目的は炭化チタン単結晶中の欠陥(特に
粒界密度)を少なくし、大型で良質の炭化チタン単結晶
を育成する方法を提供するにある。
発明の構成
本発明者らは前記目的を達成すべく研究の結果、融液法
によって炭化チタン単結晶を育成するに際し、炭化チタ
ンに対しタンタルまたはニオブもしくはそれらの混合物
を0.2〜10重量%含有させて出発原料として使用す
ると、単結晶中の中心部分で粒界がなくなり全体におけ
る粒界密度が10”cts / cm ”と従来の値(
10’ cts/cm” )より1桁も少な(なること
を知見し得た。この知見に基づいて本発明を完成した。
によって炭化チタン単結晶を育成するに際し、炭化チタ
ンに対しタンタルまたはニオブもしくはそれらの混合物
を0.2〜10重量%含有させて出発原料として使用す
ると、単結晶中の中心部分で粒界がなくなり全体におけ
る粒界密度が10”cts / cm ”と従来の値(
10’ cts/cm” )より1桁も少な(なること
を知見し得た。この知見に基づいて本発明を完成した。
本発明の要旨は、炭化チタン単結晶を融液法によって育
成する方法において、0.2〜10重量%のタンタルま
たはニオブもしくはそれらの混合物を含有させた炭化チ
タンを出発原料として使用することを特徴とする炭化チ
タン単結晶の育成法にある。タンタルまたはニオブもし
くはこれらの混合物が0.2重量%より少なく、また1
0重量%を超えると、共に粒界密度がふえる。従って、
0.2〜10重量%の範囲であることが必要である。
成する方法において、0.2〜10重量%のタンタルま
たはニオブもしくはそれらの混合物を含有させた炭化チ
タンを出発原料として使用することを特徴とする炭化チ
タン単結晶の育成法にある。タンタルまたはニオブもし
くはこれらの混合物が0.2重量%より少なく、また1
0重量%を超えると、共に粒界密度がふえる。従って、
0.2〜10重量%の範囲であることが必要である。
本発明の方法を大型で高品位の単結晶が育成し易いフロ
ーティングゾーン法(以下FZ法と言う)によって図面
に基づいて実施BMAを説明する。
ーティングゾーン法(以下FZ法と言う)によって図面
に基づいて実施BMAを説明する。
第1図はFZ法育成炉の概念図で、1は上軸、1′は下
軸、2.2′はホルダー、3は焼結棒、3′は初期融帯
形成用材、4は育成した単結晶、5は融帯、6は高周波
ワークコイルを示す。
軸、2.2′はホルダー、3は焼結棒、3′は初期融帯
形成用材、4は育成した単結晶、5は融帯、6は高周波
ワークコイルを示す。
炭化チタン粉末にタンタルまたはニオブ粉末を0.2〜
10重量%混合し、これに結合剤として少量の樟脳を加
えてラバープレス(1000kg/c+az)により圧
粉体を作る。この圧粉体を真空中または不活性ガス雰囲
気中で2000°Cに加熱して焼結棒を得る。この際焼
結棒の組成を厳密に制御するには、焼結体の組成分析を
行い、配合組成と焼結組成の対応を行うことが好ましい
。
10重量%混合し、これに結合剤として少量の樟脳を加
えてラバープレス(1000kg/c+az)により圧
粉体を作る。この圧粉体を真空中または不活性ガス雰囲
気中で2000°Cに加熱して焼結棒を得る。この際焼
結棒の組成を厳密に制御するには、焼結体の組成分析を
行い、配合組成と焼結組成の対応を行うことが好ましい
。
得られた焼結棒3を上軸1にホルダー2を介してセット
し、その下部に初期融帯形成用材3′として炭化チタン
単結晶または焼結棒をホルダー2′を介して固定支持す
る。次に初期融帯形成用材3′の端を高周波ワークコイ
ル6からの誘導加熱により溶融させ融帯5を形成させ、
上軸1と下軸1′をゆっくり下方に移動させて結晶を育
成する。
し、その下部に初期融帯形成用材3′として炭化チタン
単結晶または焼結棒をホルダー2′を介して固定支持す
る。次に初期融帯形成用材3′の端を高周波ワークコイ
ル6からの誘導加熱により溶融させ融帯5を形成させ、
上軸1と下軸1′をゆっくり下方に移動させて結晶を育
成する。
その時の育成速度は0.2〜5cm/h、好ましくは0
.7〜2cm/hである。雰囲気は散気圧のアルゴン。
.7〜2cm/hである。雰囲気は散気圧のアルゴン。
ヘリウム等の不活性ガスが用いられる。これは蒸発の抑
制と高周波ワークコイル間及び該コイルと試料間の放電
を抑制する作用をする。
制と高周波ワークコイル間及び該コイルと試料間の放電
を抑制する作用をする。
本発明の方法を実施するには、前記のフローティングゾ
ーン法に限らず、融液から引き上げることによる引き上
げ法、アークベルタイ法及びゾーンレベリング法(上下
軸に固定された試料間に炭素または金属円板をはさみ、
この円板と初期融帯形成材を溶かし融帯を形成させる。
ーン法に限らず、融液から引き上げることによる引き上
げ法、アークベルタイ法及びゾーンレベリング法(上下
軸に固定された試料間に炭素または金属円板をはさみ、
この円板と初期融帯形成材を溶かし融帯を形成させる。
)によっても行うことができる。
実施例1. T1Co、vsの単結晶の育成T1Co
、*s単結晶の育成には融帯組成をC/Ti−1,3,
供給焼結棒の組成をC/Ti−1,02に制御するのが
よいことを予備実験で確かめた。
、*s単結晶の育成には融帯組成をC/Ti−1,3,
供給焼結棒の組成をC/Ti−1,02に制御するのが
よいことを予備実験で確かめた。
炭化チタン粉末に3原子%の炭素粉及び0.5重量%の
タンタル粉末を添加し混合後、結合剤として樟脳を少量
加えて再び混合した。この混合物を直径10φのゴム袋
に詰め円柱状にし、これを1000て゛ 気圧弁ラバープレスして圧粉体を得た。この圧粉体を黒
鉛サセプターに納め、真空中2000°Cで加熱して焼
結体を得た。
タンタル粉末を添加し混合後、結合剤として樟脳を少量
加えて再び混合した。この混合物を直径10φのゴム袋
に詰め円柱状にし、これを1000て゛ 気圧弁ラバープレスして圧粉体を得た。この圧粉体を黒
鉛サセプターに納め、真空中2000°Cで加熱して焼
結体を得た。
これをFZ育成炉の上軸にホルダーを介して固定し、下
軸には炭化チタン単結晶<100 >を固定し、両者の
間に炭素円盤(約0.1 g)を挟んだ。
軸には炭化チタン単結晶<100 >を固定し、両者の
間に炭素円盤(約0.1 g)を挟んだ。
育成炉に7気圧のヘリウムを充填後、高周波加熱により
Ticと黒鉛円盤を溶かし初期融帯を形成し、1.5c
■/hで下方に移動させて<100 >方向に単結晶を
育成した。
Ticと黒鉛円盤を溶かし初期融帯を形成し、1.5c
■/hで下方に移動させて<100 >方向に単結晶を
育成した。
得られた炭化チタン単結晶は、直径0.9C11,長さ
6C■で、分析の結果、始端部、中央部、終端部の炭素
含量はそれぞれ19.32 、19.25 、19.3
7重貴簡であり、組成にしてC/Ti−0,955、0
,9510.958であった。タンタルは結晶中に均一
に分布しており、濃度は炭化チタンの蒸発のため少し増
加し、0.53重量%であった。単結晶中の粒界密度は
(100)面をエツチングして測定した結果、200c
m / cm ”でタンタルを含有させない場合のそれ
に比較して一桁近く低(なった。
6C■で、分析の結果、始端部、中央部、終端部の炭素
含量はそれぞれ19.32 、19.25 、19.3
7重貴簡であり、組成にしてC/Ti−0,955、0
,9510.958であった。タンタルは結晶中に均一
に分布しており、濃度は炭化チタンの蒸発のため少し増
加し、0.53重量%であった。単結晶中の粒界密度は
(100)面をエツチングして測定した結果、200c
m / cm ”でタンタルを含有させない場合のそれ
に比較して一桁近く低(なった。
実施例2. 7tCo、qs単結晶の育成出発物質は炭
化チタン粉末に3原子%の炭素粉及び0.5重量%のニ
オブ粉末を添加混合して作製した。
化チタン粉末に3原子%の炭素粉及び0.5重量%のニ
オブ粉末を添加混合して作製した。
単結晶の育成は実施例1と同様の手順により行った。
得られた炭化チタン単結晶は、直径0.9cm、長さ6
cmで、分析の結果、始端部、中央部、終端部の炭素含
量はそれぞれ、19.20 、19.21 、19.3
0重量%であり、組成にしてC/Ti=0.948 、
0.9480.945であった。
cmで、分析の結果、始端部、中央部、終端部の炭素含
量はそれぞれ、19.20 、19.21 、19.3
0重量%であり、組成にしてC/Ti=0.948 、
0.9480.945であった。
ニオブは結晶中に均一に分布しており、濃度は炭化チタ
ンの蒸発のため約2%増加し、0.51重量%であった
。単結晶中の粒界密度は、(100)面をエツチングし
て測定した結果、250 cm/cttr”で、ニオブ
を含有させない場合のそれに比較して一桁近く低くなっ
た。
ンの蒸発のため約2%増加し、0.51重量%であった
。単結晶中の粒界密度は、(100)面をエツチングし
て測定した結果、250 cm/cttr”で、ニオブ
を含有させない場合のそれに比較して一桁近く低くなっ
た。
発明の効果
本発明の方法によると、炭化チタン単結晶中の欠陥を少
なくし、大型で良質の炭化チタン単結晶を育成すること
ができる。
なくし、大型で良質の炭化チタン単結晶を育成すること
ができる。
第1図はFZ法の概念図である。
1:上軸、 1′ :下軸、2.2’
:ホルダー 3:炭化チタン焼結棒、3 :初期融帯
形成用材、 4:育成した炭化チタン単結晶、 5:融帯、 6:高周波ワークコイル。 特許出願人 科学技術庁無機材質研究所長瀬 高
信 雄 第 1 =55
:ホルダー 3:炭化チタン焼結棒、3 :初期融帯
形成用材、 4:育成した炭化チタン単結晶、 5:融帯、 6:高周波ワークコイル。 特許出願人 科学技術庁無機材質研究所長瀬 高
信 雄 第 1 =55
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)炭化チタン単結晶を融液法によって育成する方法に
おいて、0.2〜10重量%のタンタルまたはニオブも
しくはそれらの混合物を含有させた炭化チタンを出発原
料として使用することを特徴とする炭化チタン単結晶の
育成法。 2)融液法がフローティングゾーン法である特許請求の
範囲第1項の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19411588A JPH0244100A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 炭化チタン単結晶の育成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19411588A JPH0244100A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 炭化チタン単結晶の育成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244100A true JPH0244100A (ja) | 1990-02-14 |
| JPH0476353B2 JPH0476353B2 (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=16319172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19411588A Granted JPH0244100A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 炭化チタン単結晶の育成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244100A (ja) |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP19411588A patent/JPH0244100A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0476353B2 (ja) | 1992-12-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |