JPH0477353A - セラミックス複合材料及びその製造方法 - Google Patents
セラミックス複合材料及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0477353A JPH0477353A JP2190841A JP19084190A JPH0477353A JP H0477353 A JPH0477353 A JP H0477353A JP 2190841 A JP2190841 A JP 2190841A JP 19084190 A JP19084190 A JP 19084190A JP H0477353 A JPH0477353 A JP H0477353A
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- Japan
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- grains
- particle size
- tic
- sic whiskers
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- Pending
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、特殊構造のセラミックス材料及びその製法に
関する。更に、詳しくは、特殊な構造を有し、高強度、
耐熱性の高性能の複合セラミックス材料及びその製法に
関する。
関する。更に、詳しくは、特殊な構造を有し、高強度、
耐熱性の高性能の複合セラミックス材料及びその製法に
関する。
[従来の技術]
A1.0.は、すぐれた耐熱性、耐食性、電気絶縁性を
有するが、高温強度、破壊靭性、耐熱衝撃性は乏しく、
構造材料として使用するには、強度面において、不十分
である。
有するが、高温強度、破壊靭性、耐熱衝撃性は乏しく、
構造材料として使用するには、強度面において、不十分
である。
一般に、材料のマトリックス中(例えば、アルミナ粒子
中)に第2相として微粒子(T i C1Si、N、等
)を分散し、焼結することで、大幅な物理的緒特性を改
善すること、特に、高い強度を得ることが、可能になる
ことが、文献等で多く報告されている。これらの報告で
は、SiCによる複合化に伴うA 110 mの強度増
加は、SiC微粒子が、Al2O3粒界に偏在するため
に、生じるクラックデフラクションによるクラックの進
展の妨害が、寄与していると結論ずけている。
中)に第2相として微粒子(T i C1Si、N、等
)を分散し、焼結することで、大幅な物理的緒特性を改
善すること、特に、高い強度を得ることが、可能になる
ことが、文献等で多く報告されている。これらの報告で
は、SiCによる複合化に伴うA 110 mの強度増
加は、SiC微粒子が、Al2O3粒界に偏在するため
に、生じるクラックデフラクションによるクラックの進
展の妨害が、寄与していると結論ずけている。
また、アルミナのようなセラミックス焼結体では、異方
性粒子で、マトリックスが形成されており、そのため、
粒子境界で隣接粒子の熱膨張差により歪みが発生し、こ
のために、粒界が破壊源となり、強度低下になることが
周知である。
性粒子で、マトリックスが形成されており、そのため、
粒子境界で隣接粒子の熱膨張差により歪みが発生し、こ
のために、粒界が破壊源となり、強度低下になることが
周知である。
このように、マトリックス中に、粒子を分散した場合、
クラックの進展が阻止され、このため、靭性の向上が期
待されるものである。この考えでは、破壊の発生源であ
る粒界の欠陥は、変化がなく、その欠点は、残存してい
るため、強度の大きな向上は、望めなかった。
クラックの進展が阻止され、このため、靭性の向上が期
待されるものである。この考えでは、破壊の発生源であ
る粒界の欠陥は、変化がなく、その欠点は、残存してい
るため、強度の大きな向上は、望めなかった。
[発明が解決しようとする間組点〕
本発明は、上記のような欠点を解消するため、A I
s Osマトリックス粒子中にTiC微粒子及びSiC
ウィスカーを複合化した構造セラミックス材料として、
高い強度のセラミックスコンポジットを提供することを
目的とする。従って、本発明は、A1=Osの特性の改
善を試みたセラミックス複合体を提供することを目的に
する。更に、耐火、耐熱材料、電子セラミックス材料に
おいては、A ] t Os粒成長を制御し、耐熱衝撃
性のある、また、使用中の破壊特性が著しく改善された
材料を提供することを目的にする。
s Osマトリックス粒子中にTiC微粒子及びSiC
ウィスカーを複合化した構造セラミックス材料として、
高い強度のセラミックスコンポジットを提供することを
目的とする。従って、本発明は、A1=Osの特性の改
善を試みたセラミックス複合体を提供することを目的に
する。更に、耐火、耐熱材料、電子セラミックス材料に
おいては、A ] t Os粒成長を制御し、耐熱衝撃
性のある、また、使用中の破壊特性が著しく改善された
材料を提供することを目的にする。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、0.5μm−100μmの結晶粒子を有する
AI、0.マトリックスの結晶粒内に粒子径2.0μm
以下のTiC微粒子3〜40重量%及び00Q5−2μ
mのSiCウィスカー3〜40重量%を分散させたこと
を特徴とするセラミックス複合材料である。そして、そ
の製法は、5μm以下の粒子径のAIto、及び2.0
μm以下の粒子径のTiC3〜40重量%を混合し、更
に、0.05−2.umのSiCウィスカー3〜40重
量%を混合し、成形した後、1500℃以上で焼成する
こと、又はホットプレス、HIP (熱間等方性圧プレ
ス)で作製するものである。
AI、0.マトリックスの結晶粒内に粒子径2.0μm
以下のTiC微粒子3〜40重量%及び00Q5−2μ
mのSiCウィスカー3〜40重量%を分散させたこと
を特徴とするセラミックス複合材料である。そして、そ
の製法は、5μm以下の粒子径のAIto、及び2.0
μm以下の粒子径のTiC3〜40重量%を混合し、更
に、0.05−2.umのSiCウィスカー3〜40重
量%を混合し、成形した後、1500℃以上で焼成する
こと、又はホットプレス、HIP (熱間等方性圧プレ
ス)で作製するものである。
[作用コ
本発明によるセラミックスコンポジットは、AI z
Osマトリックスゲレーン中に、TiC微粒子及びSi
Cウィスカーを分散した、所謂、ナノオーダーの複合化
を行なうことにより、セラミックス体の特性の強化、改
善を得ようとするものである。
Osマトリックスゲレーン中に、TiC微粒子及びSi
Cウィスカーを分散した、所謂、ナノオーダーの複合化
を行なうことにより、セラミックス体の特性の強化、改
善を得ようとするものである。
即ち、個々のA I s Os結晶粒子内に、TiC微
粒子を分散することで、A l xOsとTiCの熱膨
張係数の差による残留応力を生じさせる。この残留応力
により、隣接する粒子の粒界に、圧縮応力場を生じさせ
ておき、進行しようとするクラック先端をトラップした
り、デフラクションすることにより、クラックの進展を
防止するものである。
粒子を分散することで、A l xOsとTiCの熱膨
張係数の差による残留応力を生じさせる。この残留応力
により、隣接する粒子の粒界に、圧縮応力場を生じさせ
ておき、進行しようとするクラック先端をトラップした
り、デフラクションすることにより、クラックの進展を
防止するものである。
更に、SiCウィスカーによる引き抜き効果やクラック
デフラクション効果により、高靭性化が一層向上する。
デフラクション効果により、高靭性化が一層向上する。
TiC及び0.05−2μmのSiCウィスカーを用い
て、これらを混合し、成形、焼成することにより、前記
のセラミックス複合材料が製造される。
て、これらを混合し、成形、焼成することにより、前記
のセラミックス複合材料が製造される。
セラミックス複合体中のAl*O+マトリックス粒子径
は、0,5μm−100μmとする理由は、焼結体の強
度が最大となる範囲であるためであり、TiC微粒子を
、粒子径1.0μm以下にする理由は、A1.O,マト
リックス結晶粒子内に取り込まれる最適の粒度範囲であ
るためである。
は、0,5μm−100μmとする理由は、焼結体の強
度が最大となる範囲であるためであり、TiC微粒子を
、粒子径1.0μm以下にする理由は、A1.O,マト
リックス結晶粒子内に取り込まれる最適の粒度範囲であ
るためである。
本発明は、マトリックスとしてA l * OI、分散
粒子としてTiC微粒子及びSiCウィスカーを用いる
ことが、特長である。そして、そのAI。
粒子としてTiC微粒子及びSiCウィスカーを用いる
ことが、特長である。そして、そのAI。
0、マトリックス粒子径は、0.5μm−100μmで
あり、T i C微粒子は、粒子径1.0μm以下、S
iCウィスカーは径0.05〜2μmをA1.0.マト
リックス中に均一にを分散させた構造のものである。そ
の原料としては、5μm以下の粒子径のA 1 m O
s及び2μm以下の粒子径のまた、その原料として用い
るA1.0.を、5μm以下の粒子径にする理由は、焼
結し易いためであり、原料TiCを2.0μm以下の粒
子径のものを用いる理由は、2.0μmを超えるとマイ
クロクラックが発生すること、マトリックス粒内にTi
Cが取り込まれ易いこと、そして、残留応力がある限界
以上になってもマイクロクラックが発生しない範囲であ
ること等である。SiCウィスカーは、現在工業的に製
造されているものを用いることができる。
あり、T i C微粒子は、粒子径1.0μm以下、S
iCウィスカーは径0.05〜2μmをA1.0.マト
リックス中に均一にを分散させた構造のものである。そ
の原料としては、5μm以下の粒子径のA 1 m O
s及び2μm以下の粒子径のまた、その原料として用い
るA1.0.を、5μm以下の粒子径にする理由は、焼
結し易いためであり、原料TiCを2.0μm以下の粒
子径のものを用いる理由は、2.0μmを超えるとマイ
クロクラックが発生すること、マトリックス粒内にTi
Cが取り込まれ易いこと、そして、残留応力がある限界
以上になってもマイクロクラックが発生しない範囲であ
ること等である。SiCウィスカーは、現在工業的に製
造されているものを用いることができる。
本発明によるマトリックスA]*Osは、焼結工程で、
緻密に焼結される必要があり、この粒子内に分散相のT
iC及びSiCウィスカーが、均一に分散されているこ
とが、必要である。
緻密に焼結される必要があり、この粒子内に分散相のT
iC及びSiCウィスカーが、均一に分散されているこ
とが、必要である。
また、焼結過程で、マトリックス粒子内に取り込まれる
ものでなければならない。
ものでなければならない。
焼結温度については、1500℃以上の焼成が望ましい
。また、HIP処理、ホットプレスによる焼結処理が好
適である。
。また、HIP処理、ホットプレスによる焼結処理が好
適である。
本発明により得られるセラミックス複合体は、耐熱材料
として、その他、1食、熱間高強度、耐熱衝撃性等の耐
火材として、特に、好適である。
として、その他、1食、熱間高強度、耐熱衝撃性等の耐
火材として、特に、好適である。
次に、本発明のセラミックス複合体の製造とその得られ
る特性を測定した結果について説明するが、本発明は、
次の実施例に限定されるものではない。
る特性を測定した結果について説明するが、本発明は、
次の実施例に限定されるものではない。
[実施例]
[試料粉末の調製]
マトリックスには、昭和軽金属株式会社製AltOsU
A−5105(平均粒径0.25μ、純度99.99%
)を用い、添加するTiCとしては、日本新金属株式会
社製のTiC(#0O7)を用いて、マトリックス材料
に対して、3重量%〜40重量%の割合で添加し、更に
タテホ化学社製のSiCウィスカー(SCW)を3〜4
0重量%添加混合し、アルミナボールミルで、12時間
粉砕混合を行なった。これを十分に乾燥した後に、アル
ミナボールミルで乾式解砕混合を5時間行なったものを
、試料粉砕して使用した。
A−5105(平均粒径0.25μ、純度99.99%
)を用い、添加するTiCとしては、日本新金属株式会
社製のTiC(#0O7)を用いて、マトリックス材料
に対して、3重量%〜40重量%の割合で添加し、更に
タテホ化学社製のSiCウィスカー(SCW)を3〜4
0重量%添加混合し、アルミナボールミルで、12時間
粉砕混合を行なった。これを十分に乾燥した後に、アル
ミナボールミルで乾式解砕混合を5時間行なったものを
、試料粉砕して使用した。
[焼結処理]
焼結処理には、誘導加熱式ホットプレス装置(富士電波
工業製)を用いた。前記のように調製した試料粉末的3
5gを黒鉛ダイス(内径55M)に充填し、10MPa
に予備圧縮した後に焼結処理した。このとき、充填した
試料が、ダイス内壁、パンチ捧のプレス面に直接接触し
、反応しないように、これらの面にBNパウダーをコー
ティングし、更にこの上にグラファイトホイル(厚さ0
.38mm)を置き、この中に試料を充填した。
工業製)を用いた。前記のように調製した試料粉末的3
5gを黒鉛ダイス(内径55M)に充填し、10MPa
に予備圧縮した後に焼結処理した。このとき、充填した
試料が、ダイス内壁、パンチ捧のプレス面に直接接触し
、反応しないように、これらの面にBNパウダーをコー
ティングし、更にこの上にグラファイトホイル(厚さ0
.38mm)を置き、この中に試料を充填した。
ホットプレス条件は、焼結温度まで昇温させた後、1時
間保持し、プレス圧は、30MPaで、雰囲気ガスには
アルゴンガスを用いた。
間保持し、プレス圧は、30MPaで、雰囲気ガスには
アルゴンガスを用いた。
「νり曽已咋〕乍」Kコ
得られた焼結体のプレス両面をダイヤモンドホイールで
研削し、#1000の粗さに仕上げ、これをダイヤモン
ドカッターで直方体に切り出した。試料はJIS R
1601規定に準じて、3X4M角長さ36mo程度に
し、3点曲げ試験片の大きさとした。
研削し、#1000の粗さに仕上げ、これをダイヤモン
ドカッターで直方体に切り出した。試料はJIS R
1601規定に準じて、3X4M角長さ36mo程度に
し、3点曲げ試験片の大きさとした。
[賞ユ里淀]
曲げ強度は、3点曲げ試験法により、荷重速度0.5m
m/分、スパン長さ3Qmm、室温で、強度を測定した
。試験片はダイヤモンドペースト(3μ)を用いて、引
張面を鏡面仕上げし、そして、エツジ部分を45°の角
度で約0.1mmの幅で面取り加工したものについて、
測定した。
m/分、スパン長さ3Qmm、室温で、強度を測定した
。試験片はダイヤモンドペースト(3μ)を用いて、引
張面を鏡面仕上げし、そして、エツジ部分を45°の角
度で約0.1mmの幅で面取り加工したものについて、
測定した。
破壊靭性は、荷重1 kgで、保持時rIIJ]O秒間
で、1M法により測定した。
で、1M法により測定した。
[測定結果の説明]
第1表に、3点曲げ強度とTiC及びSiCウィスカー
添加量との関係を示す。この測定値から、A 1 tO
、T iC2成分系での1700℃焼結体では、平均9
00MPa程度の強度であった。それに対して、SiC
ウィスカー添加(3成分系)5重量%から30重量%で
は、大きな強度の向上が見られた。これらの試料の破断
面を観察すると、非常に複雑な面を呈していたことから
、AIto、が高い強度になったことは、TiC及びS
iCウィスカー添加によるクラックデフラクションが発
生し、靭性強度が改善されたものと考えられる。
添加量との関係を示す。この測定値から、A 1 tO
、T iC2成分系での1700℃焼結体では、平均9
00MPa程度の強度であった。それに対して、SiC
ウィスカー添加(3成分系)5重量%から30重量%で
は、大きな強度の向上が見られた。これらの試料の破断
面を観察すると、非常に複雑な面を呈していたことから
、AIto、が高い強度になったことは、TiC及びS
iCウィスカー添加によるクラックデフラクションが発
生し、靭性強度が改善されたものと考えられる。
[発明の効果]
本発明によるTiC3〜40重量%及び0.05〜2μ
mのSiCウィスカー3〜40重量%を添加したA ]
t O*複合マトリックスは、次のような顕著な技術
的な効果が得られるものである。
mのSiCウィスカー3〜40重量%を添加したA ]
t O*複合マトリックスは、次のような顕著な技術
的な効果が得られるものである。
第1に、以上の説明で明らかなように、構造材料として
利用性を有するA I *Os/ T i C/ S
iCウィスカーの複合体材料を提供できる。
利用性を有するA I *Os/ T i C/ S
iCウィスカーの複合体材料を提供できる。
第2に、本発明の製造方法で得られたA l *Osマ
トリックスセラミックス複合体は、大幅な特性改善と、
高い強度にすることのできるものである。
トリックスセラミックス複合体は、大幅な特性改善と、
高い強度にすることのできるものである。
第3に、本発明のセラミックス複合体は、Al2O3の
特性をそのまま生かして、且つ高強度、高靭性の特性を
有する材料を提供することができたものである。
特性をそのまま生かして、且つ高強度、高靭性の特性を
有する材料を提供することができたものである。
特許出願人 三菱鉱業セメント株式会社(外1名)代理
人 弁理士 倉 持 裕
人 弁理士 倉 持 裕
Claims (2)
- (1)0.5μm〜100μmの結晶粒子を有するAl
_2O_3マトリックスの結晶粒内に粒子径2.0μm
以下のTiC微粒子3〜40重量%及び0.05〜2μ
mのSiCウィスカー3〜40重量%を分散させたこと
を特徴とするセラミックス複合材料。 - (2)5μm以下の粒子径のAl_2O_3及び2.0
μm以下の粒子径のTiC3〜40重量%を混合し、更
に、0.05〜2μmのSiCウィスカー3〜40重量
%を混合し、成形した後、 1500℃以上で焼成することを特徴とする請求項1記
載のセラミックス複合材料の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2190841A JPH0477353A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | セラミックス複合材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2190841A JPH0477353A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | セラミックス複合材料及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0477353A true JPH0477353A (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=16264665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2190841A Pending JPH0477353A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | セラミックス複合材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0477353A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112341164A (zh) * | 2020-10-27 | 2021-02-09 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种用于玻璃热弯成型的陶瓷模具及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61174165A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-05 | 株式会社 リケン | 切削工具用チップ及びその製造方法 |
| JPH01188454A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-27 | Koichi Niihara | 高強度複合セラミック焼結体 |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP2190841A patent/JPH0477353A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61174165A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-05 | 株式会社 リケン | 切削工具用チップ及びその製造方法 |
| JPH01188454A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-27 | Koichi Niihara | 高強度複合セラミック焼結体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112341164A (zh) * | 2020-10-27 | 2021-02-09 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种用于玻璃热弯成型的陶瓷模具及其制备方法 |
| CN112341164B (zh) * | 2020-10-27 | 2021-12-21 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种用于玻璃热弯成型的陶瓷模具及其制备方法 |
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