JPH0478154B2 - - Google Patents

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JPH0478154B2
JPH0478154B2 JP27893784A JP27893784A JPH0478154B2 JP H0478154 B2 JPH0478154 B2 JP H0478154B2 JP 27893784 A JP27893784 A JP 27893784A JP 27893784 A JP27893784 A JP 27893784A JP H0478154 B2 JPH0478154 B2 JP H0478154B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
thin film
vacuum
ray
gas
Prior art date
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Expired
Application number
JP27893784A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61155982A (ja
Inventor
Yoshio Makita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP27893784A priority Critical patent/JPS61155982A/ja
Publication of JPS61155982A publication Critical patent/JPS61155982A/ja
Publication of JPH0478154B2 publication Critical patent/JPH0478154B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、真空鏡体内から発生したX線をガス
雰囲気又は大気側へ取り出すためのX線透過膜へ
導電性物質を蒸着する方法に関する。
[従来の技術] X線マイクロアナライザーにおいては、真空に
保持された鏡筒内で試料に電子線を照射し、その
結果試料より発生した特性X線を検出して試料の
分析を行なつている。このX線の検出のため、例
えばガスフロー型の計数管を使用する装置におい
ては、鏡筒に窓を設け、この窓を通過させてX線
を大気側に配置されたガスフロー型計数管に導く
ようにしている。第3図はこのような場合に使用
される、鏡筒側とガス雰囲気にある計数管内を遮
断するためのX線透過膜ユニツトUを示すもの
で、図中1はポリプロピレン、マイラー等の耐真
空性を有しX線の吸収減衰効果の少ない材質より
成る薄膜であり、この薄膜1は座金2に接着剤3
により接着されて保持されており、又、座金2に
はX線通過用の開口2aが設けられている。
ところで、試料への電子線の照射に伴つて、試
料よりX線の他に反射電子等も発生する。上記薄
膜1は導電性を有していないため、そのままでは
反射電子等の照射によつてチヤージアツプを起
し、特に低濃度の超軽元素を検出する際に測定が
不安定になることが知られている。そのため、こ
のようなX線透過膜ユニツトを真空蒸着を行なう
ためのベルジヤー内に配置し、薄膜に金属等の導
電性物質を蒸着するようにしている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、従来においてはこのようにして
蒸着を行なつた膜を耐真空X線透過膜として装置
に装着すると、薄膜を境界として一方の側は真空
なのに対して、他方の側はガス雰囲気にあるた
め、薄膜はガス圧によつて第3図において1′で
示すように弛んでしまう。その結果、薄膜の表面
に付着していた導電性蒸着膜が島状に細かく分離
してしまい、チヤージアツプを防げなくなり、比
較的短い期間で膜を交換しなければならない。
本発明はこのような従来の問題を解決し、導電
性物質膜の分離を抑制することのできるX線透過
膜の蒸着方法を提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] このような目的を達成するため、本発明は耐真
空性を有しX線透過特性の良好な薄膜に導電性物
質を蒸着させる方法において、該薄膜によつて真
空空間とガスが存在する空間とを遮断し、該薄膜
の一方の面からのみ該薄膜に該ガスの圧力を印加
して該膜を弛ました後、該薄膜に該導電性物質を
蒸着するようにしたことを特徴としている。
[実施例] 以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述す
る。
第1図は本発明を実施するための装置の一例を
示すもので、図中第3図と同一の構成要素に対し
ては同一番号を付している。図中4は上部4aと
底部4bとより成る真空ベルジヤーであり、真空
ベルジヤー4内は排気管5により排気できるよう
になつている。真空ベルジヤー4内にはタングス
テン等より成るフイラメント6が備えられてお
り、フイラメント6には金属性の被蒸着物質より
成るワイヤー7が巻回されている。ベルジヤーの
底部4bの大気側には筒状の凹部9が設けられて
おり、この凹部9は開口10を介してベルジヤー
内に連通できるようになつている。この凹部9の
側面には雌ネジ11が刻設されており、この雌ネ
ジ11には押え金具12が螺合できるようになつ
ている。13は膜1を熱的に保護するためのシヤ
ツター板であり、シヤツター板13は移動軸14
を介して摘子15に接続されており、摘子15を
移動させることにより矢印Kの方向に移動できる
ようになつている。シヤツター板13には前記座
金2に設けられた開口2aと略同一大きさの通過
孔13aが設けられている。8,16,17は真
空シール用のOリングである。
このような構成の装置を用いて、まず、押え金
具12を外し、薄膜1を張つたX線透過膜ユニツ
トUをその薄膜1がOリング17と接触するよう
にして凹部9内に配置した後、押え金具12をネ
ジ込み、X線透過膜ユニツトUとOリング17の
接触によつて開口10が大気側と完全に遮断され
るようにする。その結果、膜1を境界として一方
の側は真空雰囲気にあり他方の側は大気圧にある
ため、膜1は大気圧によりベルジヤー4側へ押さ
れて弛む。そこで摘子15を操作して、シヤツタ
ー板13を図示のように開口13aが開口10の
位置に一致するまで移動させる。その結果、フイ
ラメント6への通電によつてワイヤー7から蒸発
した粒子がシヤツター板13の開口13a及び開
口10を通過して膜1まで飛来して被着し、膜1
には前記金属の蒸着膜が形成される。このように
して蒸着を終えた後、押え金具12を凹部9より
外してX線透過膜ユニツトUを装置に装着すれ
ば、膜1は既にガス圧によつて伸び切つているた
め、膜1にガス圧あるいは大気圧が印加されて
も、膜の伸びは緩慢となるため、蒸着膜が島状に
細かく分離することを抑制できる。
尚、上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎ
ず幾多の他の態様を取り得る。
例えば、第2図に示すように筒状容器18内に
X線透過膜ユニツトを配置した後、容器18の側
面に設けられた雌ネジ部に蓋体部材19を螺合し
て、容器18と膜1との接触部をOリング20に
よつて真空シールすると共に、容器18と部材1
9との接触部をOリング21によつて真空シール
すれば、膜1と部材19で囲まれた開口2aの部
分は気密な空間となる。そこで、この状態でユニ
ツトを蒸着用ベルジヤー内に配置すれば気密な空
間に閉じ込められた空気の圧力により膜1が弛む
ため、この段階で蒸着を行なうようにしても良
い。
更に又、上述した一実施例においては、膜の一
方の面からのみ大気圧を印加して膜を弛ますため
の作業を蒸着用真空ベルジヤーを利用して行なう
ようにしたが、別個の装置により膜の一方の面か
らのみ大気圧を印加して膜を予め弛ました後、真
空蒸着装置内に配置して蒸着を行なうようにして
も良い。
又、上述した実施例においては、座金に取り付
けられた薄膜から成るユニツトUを真空ベルジヤ
ーの凹部に配置し、薄膜の一方の側からのみ大気
圧が印加されるようにしたが、ガスフロー型計数
管にユニツトUが取り付けられた状態のまま凹部
に配置して蒸着を行なうようにしても良い。
更に又、上述した実施例においては、鏡筒内と
ガスフロー型X線計数管との境界となるX線透過
膜に蒸着を施す場合について説明したが、鏡筒内
からX線を大気側に取り出すためのX線透過膜に
蒸着を施す場合にも本発明は同様に適用できる。
[発明の効果] 上述した説明から明らかなように、本発明にお
いては膜の一方の側からのみガスあるいは大気圧
を印加して膜を予め弛ました後、蒸着を行なうよ
うにしているため、X線透過膜を装置に装着して
も膜の伸びは緩慢になり蒸着膜が島状に細かく分
離することを抑制でき、X線透過膜ユニツトの交
換間隔を延ばすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を実施するための装置の一例を
示すための図、第2図は本発明を実施するための
他の装置を説明するための図、第3図は従来の欠
点を説明するための図である。 1,1′:薄膜、2:座金、2a:開口、3:
接着剤、4:ベルジヤー、4a:上部、4b:底
部、5:排気管、6:フイラメント、7:ワイヤ
ー、8,16,17,20,21:Oリング、
9:凹部、10:開口、11:雌ネジ、12:押
え金具、13:シヤツター板、13a:開口、1
4:移動軸、15:摘子、18:筒状容器、1
9:蓋体部材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 耐真空性を有しX線透過特性の良好な薄膜に
    導電性物質を蒸着させる方法において、該薄膜に
    よつて真空空間とガスが存在する空間とを遮断
    し、該薄膜の一方の面からのみ該薄膜に該ガスの
    圧力を印加して該薄膜を弛ました後、該薄膜に該
    導電性物質を蒸着するようにしたことを特徴とす
    るX線透過膜の蒸着方法。
JP27893784A 1984-12-28 1984-12-28 X線透過膜の蒸着方法 Granted JPS61155982A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27893784A JPS61155982A (ja) 1984-12-28 1984-12-28 X線透過膜の蒸着方法

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27893784A JPS61155982A (ja) 1984-12-28 1984-12-28 X線透過膜の蒸着方法

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Publication Number Publication Date
JPS61155982A JPS61155982A (ja) 1986-07-15
JPH0478154B2 true JPH0478154B2 (ja) 1992-12-10

Family

ID=17604145

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JP27893784A Granted JPS61155982A (ja) 1984-12-28 1984-12-28 X線透過膜の蒸着方法

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JPS61155982A (ja) 1986-07-15

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