JPH0478530B2 - - Google Patents
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- JPH0478530B2 JPH0478530B2 JP59267040A JP26704084A JPH0478530B2 JP H0478530 B2 JPH0478530 B2 JP H0478530B2 JP 59267040 A JP59267040 A JP 59267040A JP 26704084 A JP26704084 A JP 26704084A JP H0478530 B2 JPH0478530 B2 JP H0478530B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hanger
- guide
- processing tank
- hanger guide
- processing
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はめつき処理装置に適したワーク処理装
置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a work processing device suitable for a plating processing device.
(従来の技術)
一般にめつき処理装置には、前処理槽、めつき
槽、後処理槽から成る処理槽群と、それらの処理
槽にワーク(被処理物)を順々に漬けるためのワ
ーク輸送装置とが設けてある。(Prior art) Generally, a plating processing apparatus includes a group of processing tanks consisting of a pre-processing tank, a plating tank, and a post-processing tank, and a workpiece for sequentially dipping the workpiece (object to be processed) into these processing tanks. A transport device is provided.
(発明が解決しようとする問題点)
ところが従来のめつき装置では、1種類のめつ
き処理工程には1個のめつき槽しか設けられてい
ないので、めつき液が汚れた場合には、やむを得
ず、ワークの輸送を中止してめつき液の交換を行
つている。そのために処理能率が低いという問題
がある。(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional plating apparatus, only one plating tank is provided for one type of plating process, so if the plating solution becomes dirty, We had no choice but to stop transporting the workpiece and replace the plating solution. Therefore, there is a problem that processing efficiency is low.
無論そのような問題を解決するためには、1種
類の処理工程に2個のめつき槽を設置し、両めつ
き槽を択一的に使いわけすればよいが、従来のワ
ーク輸送装置では、ワークを一定ピツチずつ順々
に送ることしかできないので、2個のめつき槽に
択一的にワークを送ることは不可能である。 Of course, in order to solve such problems, it is possible to install two plating tanks for one type of processing process and use both plating tanks selectively, but with conventional workpiece transportation equipment, this is not possible. Since it is only possible to feed the workpieces one after another at a fixed pitch, it is impossible to feed the workpieces to the two plating tanks alternatively.
(問題点を解決するための手段)
上記問題を解決するために、本発明は、前処理
槽、少なくとも2つの第1処理槽及び第2処理槽
並びに後処理槽を順次縦列状に配置した処理槽
群、
被処理ワーク保持治具を懸吊する、複数のハン
ガー、
上記各ハンガーに対応して設けられ、ハンガー
を上昇及び下降位置間で上下移動可能に案内しか
つ支持するとともに上記処理槽群に沿つて延びる
軌道上を移動可能に間隔をもつて配置された、複
数のハンガーガイド、
上記処理槽群の各処理槽の前及び後端部位置で
各ハンガーガイドに装着されたハンガーを昇降さ
せて該ハンガーを下降又は上昇位置に設定し、下
降位置においてハンガーに取り付けられたワーク
を当該ハンガーガイドの下方の処理槽内に浸漬さ
せて処理状態に設定する一方、上昇位置において
該ワークを該処理槽の外部上方に位置させて非処
理状態に設定する、ハンガー昇降機構、
上記処理槽群に沿つて配置され、ハンガーが下
降位置に設定されたハンガーガイドを上記軌道上
で上記前処理槽から後処理槽に向かつて所定ピツ
チづつ断続的に移送する、順送り機構、及び
上記第1及び第2処理槽の側部に配置され、該
両処理槽のうち上記ハンガー昇降機構により選択
的に上昇位置設定操作が行われる処理槽の前端部
位置に到来したハンガーガイドを、上記順送り機
構によるハンガーガイドの1ピツチ移送期間内に
当該ハンガーガイドの下方の処理槽の前端部から
後端部まで一気に移送する、ハンガーガイド移送
機構により構成したことを特徴とする。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention provides a treatment method in which a pre-treatment tank, at least two first treatment tanks, a second treatment tank, and a post-treatment tank are sequentially arranged in tandem. A group of tanks, a plurality of hangers for suspending workpiece holding jigs, and a plurality of hangers provided corresponding to each of the above hangers to guide and support the hangers so that they can move up and down between raised and lowered positions, as well as the group of processing tanks. a plurality of hanger guides arranged at intervals so as to be movable on a track extending along the above-mentioned treatment tank group; a hanger attached to each hanger guide at the front and rear end positions of each treatment tank of the treatment tank group is raised and lowered; to set the hanger in the lowered or raised position, and in the lowered position, the workpiece attached to the hanger is immersed in the processing tank below the hanger guide and set to the processing state, while in the raised position, the workpiece is placed in the processing state. a hanger elevating mechanism located above the exterior of the tank and set in a non-processing state; a hanger guide arranged along the group of processing tanks and with the hanger set in the lowered position; a progressive mechanism that intermittently transfers the pieces at a predetermined pitch toward the processing tank; and a progressive mechanism that is arranged on the sides of the first and second processing tanks, and selectively sets the raised position of the two processing tanks by the hanger lifting mechanism. The hanger guide that has arrived at the front end position of the processing tank where the operation is to be performed is transferred at once from the front end to the rear end of the processing tank below the hanger guide within one pitch transfer period of the hanger guide by the sequential feeding mechanism. It is characterized by being constructed by a hanger guide transfer mechanism.
(作 用)
上記装置によると、ワークを装着した治具をハ
ンガーが保持した状態で昇降機構と順送り機構が
作動し、それにより、ワークは所定ピツチずつ下
流側へ前進しながら、前処理槽、第1処理槽又は
第2処理槽、後処理槽に漬けられる。(Function) According to the above device, the elevating mechanism and the sequential feed mechanism operate while the hanger holds the jig on which the workpiece is attached, and as a result, the workpiece advances downstream by a predetermined pitch while moving the workpiece into the pretreatment tank, It is soaked in a first treatment tank, a second treatment tank, or a post-treatment tank.
そして第1及び第2処理槽の内、第1処理槽を
使用する場合には、移送機構が第1移送状態に切
換えられる。この状態では、ワークは、順送り機
構及び昇降機構により、前処理槽から第1処理槽
へ移されて第1処理槽内を1ピツチずつ下流側へ
送られる。そしてワークが第1処理槽から引上げ
られると、他のワークが順送り機構により1ピツ
チだけ送られる間に、移送機構により後処理槽ま
で送られ、以後、順送り機構により後処理槽内を
送られる。 When using the first processing tank among the first and second processing tanks, the transfer mechanism is switched to the first transfer state. In this state, the workpiece is transferred from the pretreatment tank to the first processing tank by the sequential feeding mechanism and the lifting mechanism, and is sent to the downstream side one pitch at a time in the first processing tank. When the workpiece is lifted from the first processing tank, the workpiece is sent to the post-processing tank by the transfer mechanism while the other workpieces are sent by one pitch by the progressive feeding mechanism, and thereafter sent through the post-processing tank by the sequential feeding mechanism.
又第2処理槽を使用する場合には、移送機構が
第2移送状態に切換えられる。この状態では、ワ
ークは前処理処理槽から引上げられると、他のハ
ンガーが順送り機構により1ピツチだけ送られる
間に、移送機構により前処理処理槽から第2処理
槽まで送られ、以後、順送り機構及び昇降機構に
より第2処理槽及び後処理槽内を送られる。 Further, when using the second processing tank, the transfer mechanism is switched to the second transfer state. In this state, when the workpiece is lifted from the pretreatment tank, the transfer mechanism transports the workpiece from the pretreatment tank to the second processing tank while the other hanger is sent one pitch by the progressive mechanism, and then and is sent through the second processing tank and the post-processing tank by the lifting mechanism.
(実施例)
平面略図である第1図において、処理槽群Tは
1列に並べた多数の処理槽、すなわち前処理槽
m,M、第1めつき槽A、第2めつき槽B、後処
理槽N,nで構成されており、これらの処理槽は
例えばU字形に配列されている。処理槽群Tの両
平行部分の間には搬送装置1が設けてある。矢印
Fはワーク搬送方向であり、搬送装置1の上流端
にローデイング部2(ワーク装着部)が設けら
れ、下流端にアンローデイング部3(ワーク取外
部)が設けてある。上記第1めつき槽Aは処理槽
群Tの下流寄りに位置しており、前処理槽Mに後
続している。第2めつき槽Bは第1めつき槽Aに
後続し、第2処理槽Bに後処理槽Nが後続してい
る。第1めつき槽A及び第2めつき槽Bには同一
のめつき液が溜めてあり、後述する如く第1めつ
き槽Aと第2めつき槽Bを択一的に使用してめつ
き処理を行うようになつている。(Example) In FIG. 1, which is a schematic plan view, a treatment tank group T includes a large number of treatment tanks arranged in a row, namely, pretreatment tanks m, M, a first plating tank A, a second plating tank B, It is composed of post-processing tanks N and n, and these processing tanks are arranged, for example, in a U-shape. A transport device 1 is provided between both parallel parts of the processing tank group T. Arrow F indicates the workpiece conveyance direction, and a loading section 2 (workpiece mounting section) is provided at the upstream end of the conveyance device 1, and an unloading section 3 (workpiece unloading section) is provided at the downstream end. The first plating tank A is located downstream of the treatment tank group T and follows the pretreatment tank M. The second plating tank B follows the first plating tank A, and the second processing tank B is followed by a post-processing tank N. The same plating solution is stored in the first plating tank A and the second plating tank B, and as described later, the first plating tank A and the second plating tank B can be used alternatively. It is now possible to perform the processing.
第1図の−断面拡大部分図である第2図の
如く、ワークWは板状で治具Jに装着されてお
り、治具Jの上端を搬送装置1のハンガーアーム
5により吊下げるようになつている。搬送装置1
の左右両側にそれぞれハンガー6が設けられ、各
ハンガー6から処理槽群Tの上方部にハンガーア
ーム5が突出している。 As shown in FIG. 2, which is an enlarged partial cross-sectional view of FIG. It's summery. Conveying device 1
Hangers 6 are provided on both the left and right sides of the tank, and a hanger arm 5 projects from each hanger 6 to the upper part of the processing tank group T.
上記ハンガー6はローラ8を介して垂直なハン
ガーガイド7に昇降自在に支持されている。第2
図の左部には、ハンガー6が下降した状態、すな
わちワークWを前処理槽mに漬けた状態が示さ
れ、第2図の右部には、ハンガー6が上昇した状
態、すなわちワークWを第1めつき槽Aから引上
げた状態が示されている。 The hanger 6 is supported via rollers 8 on a vertical hanger guide 7 so as to be able to rise and fall. Second
The left part of the figure shows a state in which the hanger 6 is lowered, that is, a state in which the workpiece W is immersed in the pretreatment tank m, and the right part of FIG. The state in which it has been pulled up from the first plating tank A is shown.
左右のハンガー6の間にはハンガー6を上昇位
置で前述した処理槽群の最後部の後処理槽に向つ
て走行自在に支持するための昇降機構10が設け
てある。昇降機構10は左右に間隔を隔てた垂直
なガイド11を備えており、ガイド11により昇
降ビーム12がローラ13を介して昇降自在に案
内支持されている。ハンガー6には昇降ビーム1
2側へ突出したローラ15が設けてあり、昇降ビ
ーム12にはローラ15の下側を搬送装置1の長
手方向(第1図の搬送方向F)に延びるレール1
4が設けてある。又図示されていないが、昇降機
構10は昇降ビーム12を昇降させるため、例え
ば電気モータとチエーンとで構成される駆動機構
を有し、昇降ビーム12が上昇した状態におい
て、ローラ15がレール14上を走行可能とされ
る。 An elevating mechanism 10 is provided between the left and right hangers 6 to support the hanger 6 in a raised position so as to be movable toward the rearmost post-processing tank of the processing tank group. The elevating mechanism 10 includes vertical guides 11 spaced from side to side, and an elevating beam 12 is guided and supported by the guides 11 via rollers 13 so as to be movable up and down. Lifting beam 1 is attached to hanger 6
A roller 15 protruding toward the 2 side is provided, and the lifting beam 12 is provided with a rail 1 extending below the roller 15 in the longitudinal direction of the conveying device 1 (conveying direction F in FIG. 1).
4 is provided. Although not shown, the elevating mechanism 10 has a drive mechanism composed of, for example, an electric motor and a chain in order to raise and lower the elevating beam 12. When the elevating beam 12 is raised, the rollers 15 move on the rails 14. It is said that it is possible to drive.
上記ガイド11の上端と下端はそれぞれ搬送装
置1の上部フレーム16と下部フレーム17に固
定されている。両フレーム16,17の両側部に
は搬送装置1の長手方向に延びるレール20,2
1が取付けてある。前記ハンガーガイド7は上下
両端部がローラ22,23を介してレール20,
21に支持されており、順送り機構25によりハ
ンガーガイド7をレール20,21に沿つて移送
するようになつている。 The upper and lower ends of the guide 11 are fixed to an upper frame 16 and a lower frame 17 of the conveying device 1, respectively. Rails 20, 2 extending in the longitudinal direction of the transport device 1 are provided on both sides of the frames 16, 17.
1 is installed. The hanger guide 7 has both upper and lower ends connected to the rail 20 through rollers 22 and 23.
21, and the hanger guide 7 is transported along the rails 20, 21 by a progressive feeding mechanism 25.
順送り機構25はレール21の近傍をレール2
1と平行に延びるラツク26を備え、ラツク26
に爪27が連結されている。爪27はラツク26
からレール21側へ突出しており、爪27の先端
がハンガーガイド7の下端の受け28に係合する
うになつている。上記ラツク26には、後述する
如く、ラツク26の長手方向に所定ストロークを
もつて往復動させる駆動機構が取り付けられてい
る。このようにラツク26を往復動させることに
より、爪27、受け28を介してハンガーガイド
7が所定ピツチづつ前方に歩進させられる。 The progressive mechanism 25 moves the vicinity of the rail 21 to the rail 2.
1 and a rack 26 extending parallel to the rack 26.
A claw 27 is connected to. Claw 27 is easy 26
The hook 27 protrudes toward the rail 21 side, and the tip of the claw 27 engages with a receiver 28 at the lower end of the hanger guide 7. As will be described later, a drive mechanism is attached to the rack 26 for reciprocating the rack 26 with a predetermined stroke in the longitudinal direction. By reciprocating the rack 26 in this manner, the hanger guide 7 is moved forward by a predetermined pitch via the claw 27 and the receiver 28.
上記受け28の上端には位置決め機構30の爪
31が係合するようになつている。位置決め機構
30は、詳細に後述するように、ハンガー6が上
昇位置に設定されたハンガーガイド7を下記のハ
ンガーガイド移送機構(以下、単に移送機構とい
う)35によりいわゆる“一気送り又は特送”を
行つた際、該ハンガーガイド7を所定位置に停止
させるための機構で、順送り機構25により前進
させられたハンガーガイド7が慣性力により所定
位置を越えて前進することを、位置決め機構30
により防止するようになつている。 A claw 31 of a positioning mechanism 30 is adapted to engage with the upper end of the receiver 28 . As will be described in detail later, the positioning mechanism 30 allows the hanger guide 7 with the hanger 6 set in the raised position to be transported in one go or special transport by the hanger guide transport mechanism (hereinafter simply referred to as transport mechanism) 35. The positioning mechanism 30 is a mechanism for stopping the hanger guide 7 at a predetermined position when the hanger guide 7 is moved.
This is now being prevented.
更に、搬送装置1は第1めつき槽A及び第2め
つき槽Bの側方部に移送機構35を備えている。
第1図の−矢視拡大部分略図である第3図の
如く、移送機構35は前処理槽Mの後端部位置か
ら第1めつき槽A及び第2めつき槽Bを通つて後
処理槽Nの前端部位置まで延びる無端チエーン3
6を備え、該無端チエーン36に適当な間隔をも
つて複数のフツク機構が装着されている。該フツ
ク機構は無端チエーン36に固定したブラケツト
に装着されたピン37と該ピン37を介して一方
向に回転容易としたフツク38とから構成され
る。 Further, the conveyance device 1 includes a transfer mechanism 35 on the side of the first plating tank A and the second plating tank B.
As shown in FIG. 3, which is an enlarged partial diagram of FIG. Endless chain 3 extending to the front end position of tank N
6, and a plurality of hook mechanisms are attached to the endless chain 36 at appropriate intervals. The hook mechanism is comprised of a pin 37 attached to a bracket fixed to an endless chain 36 and a hook 38 which is easily rotatable in one direction via the pin 37.
移送機構35の駆動時、即ち、図示しない駆動
機(モータ等)により一対のチエーンホイール4
0を介して無端チエーン36が駆動されると、第
3図中矢印Fで示す方向に各フツク機構が進行す
る。該フツク機構のフツク38がハンガーガイド
7の下端の受け39にその後方から衝突すると、
フツク38はピン37を介して第3図中に示す矢
印gと逆向き、即ち右回りに回転しようとする
が、該フツク38のもう一方の端部が無端チエー
ン36の表面と接触して右回りの回転が阻止さ
れ、従つて、ハンガーガイド7の受け39は該フ
ツク38により押されてF方向に前進させられ
る。 When the transfer mechanism 35 is driven, that is, the pair of chain wheels 4 are
When the endless chain 36 is driven through 0, each hook mechanism advances in the direction shown by arrow F in FIG. When the hook 38 of the hook mechanism collides with the receiver 39 at the lower end of the hanger guide 7 from behind,
The hook 38 tries to rotate in the opposite direction to the arrow g shown in FIG. Therefore, the receiver 39 of the hanger guide 7 is pushed by the hook 38 and moved forward in the F direction.
一方、移送機構35の非駆動時、即ち無端チエ
ーン36が静止した状態において、詳細に後述す
る順送り機構25によりハンガーガイド7が1ピ
ツチF方向に移送されて該ハンガーガイド7の下
端の受け39がフツク38にその後方から衝突す
ると、該フツク38はピン37を介して矢印gの
方向に回転してハンガーガイド7の受け39と係
合することなく該ハンガーガイド7を通過させ
る。ハンガーガイド7が通過した後、フツク38
は自重によりピン37を介して逆方向に回転して
元の状態に復帰する。受け39やチエーンホイー
ル40の具体的な位置等は第2図に明確に示され
ている。 On the other hand, when the transfer mechanism 35 is not driven, that is, when the endless chain 36 is stationary, the hanger guide 7 is transferred one pitch in the F direction by the sequential feed mechanism 25, which will be described in detail later, so that the receiver 39 at the lower end of the hanger guide 7 is moved. When the hook 38 collides with the hook 38 from behind, the hook 38 rotates in the direction of the arrow g via the pin 37 and passes through the hanger guide 7 without engaging with the receiver 39 of the hanger guide 7. After the hanger guide 7 has passed, the hook 38
is rotated in the opposite direction through the pin 37 due to its own weight and returns to its original state. The specific positions of the receiver 39 and the chain wheel 40 are clearly shown in FIG.
第2図の−断面部分詳細図である第4図の
如く、前記順送り機構25は、ラツク26を駆動
するためのピニオンギヤ45ならびにギヤ45を
駆動するためのギヤ機構46、クランク機構4
7、減速機48及びモータ(図示せず)を備えて
いる。減速機48及びモータはフレーム17内に
設置されており、減速機48の垂直な出力軸49
の上端にクランクアーム50の基端部が固定され
ている。クランクアーム50の先端にはピン51
が取り付けられ、該ピン51がアーム52の溝5
3に嵌合している。アーム52は軸54に固定さ
れており、この軸54がギヤ機構46を介してギ
ヤ45に連結している。 As shown in FIG. 4, which is a detailed cross-sectional view of FIG. 2, the progressive mechanism 25 includes a pinion gear 45 for driving the rack 26, a gear mechanism 46 for driving the gear 45, and a crank mechanism
7, a reduction gear 48 and a motor (not shown). The reducer 48 and the motor are installed within the frame 17, and the vertical output shaft 49 of the reducer 48
A base end portion of a crank arm 50 is fixed to the upper end of the crank arm 50 . A pin 51 is located at the tip of the crank arm 50.
is attached, and the pin 51 is inserted into the groove 5 of the arm 52.
3 is fitted. The arm 52 is fixed to a shaft 54, and this shaft 54 is connected to a gear 45 via a gear mechanism 46.
第4図の−矢視部分図である第5図の如
く、上記溝53はアーム52の長手方向に延びて
おり、クランクアーム50が回転することにより
アーム52が軸54を中心にして一定の角度を揺
動し、それによりギヤ機構46を介してギヤ45
が所定角度だけ回転させられ、ラツク26を所定
ストロークだけ前進させるようになつている。 As shown in FIG. 5, which is a partial view of FIG. oscillates the angle, thereby causing the gear 45 to rotate through the gear mechanism 46.
is rotated by a predetermined angle to advance the rack 26 by a predetermined stroke.
第4図の如く、減速機48の出力軸49には小
径のチエーンホイール56が取付けてある。チエ
ーンホイール56はチエーン57を介して大径の
チエーンホイール58に連結している。チエーン
ホイール58は垂直な軸59に固定されており、
軸59の上端が傘歯歯車機構60を介して軸61
に連結している。軸61は搬送方向Fに沿つて延
びている。 As shown in FIG. 4, a small diameter chain wheel 56 is attached to the output shaft 49 of the reducer 48. The chain wheel 56 is connected to a large diameter chain wheel 58 via a chain 57. The chain wheel 58 is fixed to a vertical shaft 59,
The upper end of the shaft 59 connects to the shaft 61 via a bevel gear mechanism 60.
is connected to. The shaft 61 extends along the conveying direction F.
第4図の−断面拡大部分図である第6図の
如く、軸61にはカム62が取付けてあり、カム
62に両側からローラ65(第6図で左側のみ図
示)が当接している。ローラ65は前記順送り機
構25の一部を構成する部品で、斜めに延びるレ
バー66の下端に取付けてある。レバー66は中
間部が軸61と平行な軸67により回転自在に支
持されており、上端にガイドレール68を備えて
いる。ガイドレール68はローラ69の下側に位
置しており、ローラ65によりレバー66が軸6
7を中心にして揺動させられると、ガイドレール
68はローラ69を上下に移動させるようになつ
ている。ローラ69の支持アーム70は軸61と
平行な軸71を介してラツク26のブラケツトに
可動自在に連結されている。前記爪27はこのア
ーム70(又は軸71)に固定されており、ロー
ラ69が上述の如く上昇させられた場合、爪27
は受け28と係合しない位置まで上昇し、従つて
ラツク26が駆動されても、爪27はハンガーガ
イド7を前進させないようになつている。又ロー
ラ69が下降させられた場合、爪27は下降して
受け28と係合し、従つてラツク26が駆動され
ると、爪27はハンガーガイド7を前進させる。 As shown in FIG. 6, which is an enlarged cross-sectional view of FIG. 4, a cam 62 is attached to the shaft 61, and rollers 65 (only the left side is shown in FIG. 6) are in contact with the cam 62 from both sides. The roller 65 is a component that constitutes a part of the progressive feeding mechanism 25, and is attached to the lower end of a lever 66 that extends diagonally. The lever 66 has an intermediate portion rotatably supported by a shaft 67 parallel to the shaft 61, and is provided with a guide rail 68 at the upper end. The guide rail 68 is located below the roller 69, and the lever 66 is moved by the roller 65 to the shaft 6.
7, the guide rail 68 moves the roller 69 up and down. The support arm 70 of the roller 69 is movably connected to the bracket of the rack 26 via an axis 71 parallel to the axis 61. The pawl 27 is fixed to this arm 70 (or shaft 71), and when the roller 69 is raised as described above, the pawl 27
is raised to a position where it does not engage with the receiver 28, so that even if the rack 26 is driven, the pawl 27 does not advance the hanger guide 7. Also, when roller 69 is lowered, pawl 27 descends and engages receiver 28, so that when rack 26 is driven, pawl 27 advances hanger guide 7.
更に軸61には別のカム63が取付けてあり、
カム63に両側からローラ74(第6図で右側の
み図示)が当接している。該ローラ74は前記昇
降機構10と協働してハンガーガイド7に装着さ
れたハンガー6を上昇位置又は下降位置に設定す
るようにハンガーの昇降制御を行う昇降制御機構
75の一構成部品で、上下に延びるアーム76の
下端に取付けてある。アーム76は中間部が軸6
1と平行な軸79により回動自在に支持されてい
る。アーム76の上端部には上下に延びるガイド
77の下端部に固定されており、ガイド77の外
側(ハンガー6側)にローラ78が位置してい
る。昇降ビーム12に固定した軸受ブラケツトに
前記軸61と平行な軸81が装着され、該軸81
にレバー機構80の中間部が装着される。レバー
機構80の下端に前記ローラ78が、該レバー機
構80の上端部にガイド82が取り付けられてい
る。ガイド82は前記レール14の長手方向にお
ける適宜位置、即ち各処理槽の前及び後端部と対
応する位置にそれぞれ設けられたとぎれた部分に
配置される。 Furthermore, another cam 63 is attached to the shaft 61,
Rollers 74 (only the right side is shown in FIG. 6) are in contact with the cam 63 from both sides. The roller 74 is a component part of a lifting control mechanism 75 that cooperates with the lifting mechanism 10 to control the lifting and lowering of the hanger so that the hanger 6 attached to the hanger guide 7 is set in the raised position or the lowered position. It is attached to the lower end of an arm 76 that extends to. The arm 76 has a shaft 6 in the middle.
It is rotatably supported by a shaft 79 parallel to 1. The upper end of the arm 76 is fixed to the lower end of a guide 77 that extends vertically, and a roller 78 is located outside the guide 77 (on the hanger 6 side). A shaft 81 parallel to the shaft 61 is attached to a bearing bracket fixed to the lifting beam 12, and the shaft 81 is parallel to the shaft 61.
The intermediate portion of the lever mechanism 80 is attached to the lever mechanism 80 . The roller 78 is attached to the lower end of the lever mechanism 80, and the guide 82 is attached to the upper end of the lever mechanism 80. The guides 82 are disposed at appropriate positions in the longitudinal direction of the rail 14, that is, at discontinuous portions provided at positions corresponding to the front and rear ends of each processing tank.
上記ガイド77はカム62の回転にともなつて
揺動するが、その場合に、ガイド77がハンガー
6側に移動すると、ローラ78が押されてレバー
機構80は実線位置へ回動し、該レバー機構80
に取り付けられたガイド82の先端がハンガー6
のローラ15に対し内側に傾動する。この場合、
昇降ビーム12が上昇すると、該昇降ビーム12
に取り付けられたレバー機構80のガイド82も
上昇するが、該ガイド82の先端はハンガー6の
ローラ15と係合せず、該ハンガー6は置き去り
にされて上昇しない。一方、ガイド77が内側に
移動すると、レバー機構80及びガイド82は自
重により回動し、ローラ15の真下までガイド8
2が移動する、従つて、この状態で昇降ビーム1
2と共にガイド82が上昇すると、ガイド82が
ローラ15に係合し、ハンガー6は上昇させられ
る。 The guide 77 swings as the cam 62 rotates. In this case, when the guide 77 moves toward the hanger 6, the roller 78 is pushed and the lever mechanism 80 rotates to the solid line position, and the lever Mechanism 80
The tip of the guide 82 attached to the hanger 6
tilts inward with respect to the rollers 15 of. in this case,
When the lifting beam 12 rises, the lifting beam 12
The guide 82 of the lever mechanism 80 attached to the lever mechanism 80 also rises, but the tip of the guide 82 does not engage with the roller 15 of the hanger 6, and the hanger 6 is left behind and does not rise. On the other hand, when the guide 77 moves inward, the lever mechanism 80 and the guide 82 rotate due to their own weight, and the guide 82 moves to the position directly below the roller 15.
2 moves, therefore, in this state the lifting beam 1
When the guide 82 is raised together with 2, the guide 82 engages with the roller 15, and the hanger 6 is raised.
前記位置決め機構30は、爪31に連結するリ
ンク機構85とリンク機構85を駆動するシリン
ダ86とを備える。上記移送機構35によりハン
ガーガイド7が一気送りされたとき、シリンダ8
6が図示しない空気圧駆動源から空気圧を受けて
作動させられて伸長すると、該シリンダ86はリ
ンク機構85を介してその先端部の爪31をハン
ガーガイド7の下端部に取り付けられた受け28
と係合可能な位置に設定し、該爪31の設定位置
に一気送りされたハンガーガイド7を停止させ
る。その後、公知の方法でシリンダ86が収縮
し、リンク機構85により爪31は元の状態に復
帰させられ、上記受け28との係合位置から外さ
れる。 The positioning mechanism 30 includes a link mechanism 85 connected to the claw 31 and a cylinder 86 that drives the link mechanism 85. When the hanger guide 7 is fed all at once by the transfer mechanism 35, the cylinder 8
When the cylinder 86 is actuated and expanded by receiving air pressure from a pneumatic drive source (not shown), the cylinder 86 connects the claw 31 at the tip of the cylinder 86 to the receiver 28 attached to the lower end of the hanger guide 7 via the link mechanism 85.
The hanger guide 7 is set at a position where it can be engaged with the claw 31, and the hanger guide 7, which has been fed at once to the set position of the claw 31, is stopped. Thereafter, the cylinder 86 is contracted in a known manner, and the link mechanism 85 causes the pawl 31 to return to its original state and disengage from the engagement position with the receiver 28.
前述の如く、上記昇降機構10は搬送装置1の
楕円形無端軌道、即ち、下部及び上部フレーム1
7及び16に敷設されたレール21及び22に沿
つて延びており、該無端軌道上の各処理槽m,
M,A,B,N,nの前端部もしくは入口位置及
び後端部もしくは出口位置に対応する位置に昇降
制御機構75が設けられている。順送り機構25
は上記楕円形軌道上で各ハンガーガイド7を1ピ
ツチづつ断続的に移送する。このようにして移送
されるハンガーガイド7が第1めつき槽Aの前端
部位置に到達したとき、該第1めつき槽Aは使用
せず、第2めつき槽Bを使用する場合には、該ハ
ンガーガイド7に装着されたハンガー6が上記昇
降機構10及び当該前端部位置に設置された昇降
制御機構75により上昇位置に設定される。この
とき、ハンガー6のワーク保持治具に取り付けら
れたワークWは第1めつき槽Aの外部上方に位置
させられる。次いで、移送機構35は上記順送り
機構25による1ピツチ移送期間内に第2めつき
槽Bの前端部位置まで該上昇位置に設定したハン
ガーガイド7を一気に移送する。このとき、一気
移送されるハンガーガイド7は位置決め機構30
により使用される第2めつき槽Bの前端部位置で
停止させられる。次いで、該ハンガーガイド7の
ハンガー6が上記昇降機構10により下降位置ま
で降ろされ、該ハンガー6のワーク保持治具に取
り付けられたワークWは第2めつき槽B内の処理
液内に浸漬されてめつき処理状態に設定される。
次いで、該ハンガーガイド7は上記順送り機構2
5により1ピツチづつ断続的に移送され、該移送
期間中、ハンガー6に懸吊されるワークWがめつ
き処理に付される。この場合、上記ハンガー6に
取り付けられたワークWは第1図中実線bで示す
ような経路をたどつて移送される。 As mentioned above, the elevating mechanism 10 has an elliptical endless track of the conveying device 1, that is, the lower and upper frames 1.
7 and 16, and each treatment tank m, on the endless track.
An elevation control mechanism 75 is provided at a position corresponding to the front end or entrance position and the rear end or exit position of M, A, B, N, and n. Progressive feed mechanism 25
The hanger guides 7 are intermittently transferred one pitch at a time on the elliptical orbit. When the hanger guide 7 transferred in this way reaches the front end position of the first plating tank A, the first plating tank A is not used and the second plating tank B is used. The hanger 6 attached to the hanger guide 7 is set to the raised position by the lifting mechanism 10 and the lifting control mechanism 75 installed at the front end position. At this time, the work W attached to the work holding jig of the hanger 6 is positioned outside and above the first plating tank A. Next, the transfer mechanism 35 transfers the hanger guide 7 set at the raised position all at once to the front end position of the second plating tank B within one pitch transfer period by the sequential transfer mechanism 25. At this time, the hanger guide 7 that is transferred all at once is moved by the positioning mechanism 30.
It is stopped at the front end position of the second plating tank B used. Next, the hanger 6 of the hanger guide 7 is lowered to the lowered position by the lifting mechanism 10, and the work W attached to the work holding jig of the hanger 6 is immersed in the processing liquid in the second plating tank B. It is set to the tematsuki processing state.
Next, the hanger guide 7 is moved to the sequential feed mechanism 2.
During the transfer period, the work W suspended from the hanger 6 is subjected to plating processing. In this case, the workpiece W attached to the hanger 6 is transferred along a path as shown by the solid line b in FIG.
一方、第1めつき槽Aを使用し、第2めつき槽
Bを使用しない場合には、上述したと同様にし
て、第1めつき槽Aの前端部位置に到達したハン
ガーガイド7に装着されたハンガー6は当該位置
に設置された昇降制御機構75及び昇降機構10
により下降位置に設定され、次いで順送り機構2
5により1ピツチづつ断続的に移送され、該ハン
ガー6に取り付けられたワークWが第1めつき槽
A内でめつき処理に付される。その後、ハンガー
ガイド7が第1めつき槽Aの後端部位置、即ち第
2めつき槽Bの前端部位置に到達したとき、当該
位置に設置された昇降制御機構75及び昇降機構
10によりハンガー6は上昇位置に設定される。
次いで、上述したと同様にして、該ハンガーガイ
ド7は上記移送機構35により第2めつき槽Bの
後端部位置まで一気に移送される。この場合、上
記ハンガー6に取り付けられたワークWは第1図
中実線aで示す経路をたどつて移送される。 On the other hand, if the first plating tank A is used and the second plating tank B is not used, the hanger guide 7 is attached to the hanger guide 7 that has reached the front end position of the first plating tank A in the same manner as described above. The hanger 6 that has been placed is connected to the lift control mechanism 75 and lift mechanism 10 installed at the position
is set to the lowered position by
5, the work W attached to the hanger 6 is intermittently transferred one pitch at a time, and is subjected to plating treatment in the first plating tank A. Thereafter, when the hanger guide 7 reaches the rear end position of the first plating tank A, that is, the front end position of the second plating tank B, the hanger 6 is set in the raised position.
Next, in the same manner as described above, the hanger guide 7 is transferred all at once to the rear end position of the second plating tank B by the transfer mechanism 35. In this case, the workpiece W attached to the hanger 6 is transferred along the path shown by the solid line a in FIG.
前述したように、ワークWを第1めつき槽A又
は第2めつき槽Bのいずれか一方を使用して所定
のめつき処理を行つた後、上記順送り機構25、
昇降機構10及び昇降制御機構75により各ハン
ガーガイド7に装着されたハンガー6の昇降させ
て、所定の後処理が実行される。 As described above, after the work W is subjected to a predetermined plating process using either the first plating tank A or the second plating tank B, the sequential feeding mechanism 25,
The hanger 6 attached to each hanger guide 7 is raised and lowered by the lifting mechanism 10 and the lifting control mechanism 75, and predetermined post-processing is executed.
以上のようにして、各ハンガーガイド7が搬送
装置1の楕円形軌道上を断続的に移送させつつ該
各ハンガーガイド7のハンガー6に取り付けられ
たワークWは各処理槽で所定の処理に付され、最
後の後処理槽mでの所定の処理を完了した後、順
次アンローデーイング部3に搬送される。 As described above, while each hanger guide 7 is intermittently transferred on the elliptical trajectory of the transport device 1, the work W attached to the hanger 6 of each hanger guide 7 is subjected to predetermined processing in each processing tank. After completing a predetermined process in the last post-processing tank m, the pieces are sequentially transported to the unloading section 3.
(発明の効果)
以上説明したように本発明によると、2個のめ
つき槽A,B(処理槽)を択一的に使用できるの
で、一方の処理槽(例えば第1めつき槽A)の処
理液を交換する場合でも、他方の処理槽(例えば
第2めつき槽B)を使用して一連の処理を続行す
ることができる。従つて従来構造に比べ、処理効
率を高めることができる。又移送機構35のワー
ク移送動作は、順送り機構25のワーク順送り動
作に連動しているので、例えば使用していないめ
つき槽(A又はB)の上方において、他の区間と
同様に、ワークWを1ピツチずつ順々に送る場合
に比べ、高速で処理を行うことができる。(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, two plating tanks A and B (processing tanks) can be used alternatively, so one of the processing tanks (for example, the first plating tank A) Even when exchanging the treatment liquid, the series of treatments can be continued using the other treatment tank (for example, second plating tank B). Therefore, processing efficiency can be improved compared to the conventional structure. Further, the workpiece transfer operation of the transfer mechanism 35 is linked to the sequential workpiece transfer operation of the progressive mechanism 25, so that, for example, above the unused plating tank (A or B), the workpiece W The processing can be performed at a higher speed than when the data is sent one pitch at a time.
第1図は本発明を採用しためつき装置全体の平
面略図、第2図は第1図の−断面拡大部分
図、第3図は第1図の−矢視拡大部分略図、
第4図は第2図の−断面部分詳細図、第5図
は第4図の−矢視部分図、第6図は第4図の
−断面拡大部分図である。
6…ハンガー、7…ハンガーガイド、21,2
2…ハンガーガイドの案内レール、10…昇降機
構(ハンガー昇降機構部分)、25…順送り機構
(ハンガーガイド順送り機構)、30…(ハンガー
ガイド停止)位置決め機構、35…移送機構(ハ
ンガーガイド移送機構)、36…無端チエーン、
37…ピン、38…フツク、75…昇降制御機構
(ハンガー昇降機構部分)、A…第1めつき槽(第
1処理槽)、B…第2めつき槽(第2処理槽)、J
…治具、M,m…前処理槽、N,n…後処理槽、
T…処理槽群、W…ワーク。
FIG. 1 is a schematic plan view of the entire tamping device adopting the present invention, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged partial view of FIG.
FIG. 4 is a detailed view of a cross-sectional area shown in FIG. 6...Hanger, 7...Hanger guide, 21,2
2... Hanger guide guide rail, 10... Lifting mechanism (hanger lifting mechanism part), 25... Progressive feeding mechanism (hanger guide sequential feeding mechanism), 30... (hanger guide stop) positioning mechanism, 35... Transfer mechanism (hanger guide transferring mechanism) , 36...Endless chain,
37... Pin, 38... Hook, 75... Elevating control mechanism (hanger elevating mechanism part), A... First plating tank (first processing tank), B... Second plating tank (second processing tank), J
... jig, M, m... pre-treatment tank, N, n... post-treatment tank,
T...Treatment tank group, W...Work.
Claims (1)
槽A及び第2処理槽B並びに後処理槽N,nを順
次縦列状に配置した処理槽群T、 被処理ワーク保持治具を懸吊する、複数のハン
ガー6、 上記各ハンガー6に対応して設けられ、ハンガ
ー6を上昇及び下降位置間で上下移動可能に案内
しかつ支持するとともに上記処理槽群Tに沿つて
延びる軌道上を移動可能に間隔をもつて配置され
た、複数のハンガーガイド7、 上記処理槽群Tの各処理槽の前及び後端部位置
で各ハンガーガイド7に装着されたハンガー6を
昇降させて該ハンガー6を下降又は上昇位置に設
定し、下降位置においてハンガー6に取り付けら
れたワークWを当該ハンガーガイド7下方の処理
槽内に浸漬させて処理状態に設定する一方、上昇
位置において該ワークWを該処理槽の外部上方に
位置させて非処理状態に設定する、ハンガー昇降
機構10,75、 上記処理槽群Tに沿つて配置され、ハンガー6
が下降位置に設定されたハンガーガイド7を上記
軌道上で上記前処理槽m,Mから後処理槽N,n
に向かつて所定ピツチづつ断続的に移送する、順
送り機構25、及び 上記第1及び第2処理槽A及びBの側部に配置
され、該両処理槽A及びBのうち上記ハンガー昇
降機構10,75により選択的に上昇位置設定操
作が行われる処理槽A又はBの前端部位置に到来
したハンガーガイド7を、上記順送り機構25に
よるハンガーガイドの1ピツチ移送期間内に当該
ハンガーガイド7の下方の処理槽A又はBの前端
部から後端部まで一気に移送する、ハンガーガイ
ド移送機構35により構成した、ワーク処理装
置。 2 各処理槽m,M,A,B,N,nを略U字形
に配列し、該U字形配列処理槽群に沿つて各ハン
ガーガイド7を移送する無端軌道を設けた、第1
項記載の装置。 3 ハンガーガイド移送機構35が少なくとも第
1処理槽Aの前端部から該第1処理槽Aに後続の
第2処理槽Bの後端部にわたつて延びる無端チエ
ーン機構36,40と該無端チエーン機構の無端
チエーン36に所定間隔をもつて装着した複数の
フツク機構37,38とを備え、当該ハンガーガ
イド移送機構の駆動時、上記フツク機構のフツク
部材38がその前方に位置するハンガーガイド7
の下端部39と係合して該ハンガーガイド7を前
方に一気に移送する一方、非駆動時、上記各フツ
ク部材38が順送り機構25により前方に断続的
に移送されるハンガーガイド7の下端部39と衝
突した際該フツク機構のピン37を介して回転し
て該ハンガーガイドと係合しないように構成し
た、第1項又は第2項記載の装置。[Scope of Claims] 1. A treatment tank group T in which pre-treatment tanks m, M, at least two first treatment tanks A and second treatment tank B, and post-treatment tanks N, n are sequentially arranged in tandem; a workpiece to be processed; A plurality of hangers 6 for suspending the holding jigs are provided corresponding to each of the hangers 6, and guide and support the hangers 6 so as to be movable up and down between the raised and lowered positions, as well as to guide and support the hangers 6 along the processing tank group T. A plurality of hanger guides 7 are arranged at intervals so as to be movable on a track extending along the same line, and a hanger 6 is attached to each hanger guide 7 at the front and rear end positions of each processing tank of the processing tank group T. The hanger 6 is set in the lowered or raised position by raising and lowering, and the workpiece W attached to the hanger 6 is immersed in the processing tank below the hanger guide 7 in the lowered position and set in the processing state, while in the raised position. a hanger elevating mechanism 10, 75 for positioning the work W above the outside of the processing tank and setting it in a non-processing state; a hanger 6 disposed along the processing tank group T;
The hanger guide 7, which is set in the lowered position, is moved from the pre-treatment tanks m, M to the post-treatment tanks N, n on the above-mentioned orbit.
a progressive feeding mechanism 25, which intermittently transports the particles at a predetermined pitch toward the processing tank; The hanger guide 7 that has arrived at the front end position of the processing tank A or B where the raising position setting operation is selectively performed by the 75 is moved to the lower part of the hanger guide 7 within the one-pitch transfer period of the hanger guide by the sequential feeding mechanism 25. A workpiece processing device configured with a hanger guide transfer mechanism 35 that transfers the processing tank A or B from the front end to the rear end at once. 2. The processing tanks m, M, A, B, N, and n are arranged in a substantially U-shape, and an endless track is provided for transporting each hanger guide 7 along the U-shaped arrangement processing tank group.
Apparatus described in section. 3 Endless chain mechanisms 36, 40 in which the hanger guide transfer mechanism 35 extends from at least the front end of the first processing tank A to the rear end of the second processing tank B following the first processing tank A; and the endless chain mechanism. A hanger guide 7 comprising a plurality of hook mechanisms 37 and 38 attached at a predetermined interval to an endless chain 36 of the hanger guide 7, in which the hook member 38 of the hook mechanism is located in front of the hanger guide transfer mechanism when the hanger guide transfer mechanism is driven.
The lower end portion 39 of the hanger guide 7 is engaged with the lower end portion 39 of the hanger guide 7 to move the hanger guide 7 forward at once, while the lower end portion 39 of the hanger guide 7 is intermittently transferred forward by the sequential feeding mechanism 25 when the hook members 38 are not driven. 3. The device according to claim 1 or 2, wherein the device rotates through the pin 37 of the hook mechanism and does not engage with the hanger guide upon collision with the hanger guide.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26704084A JPS61145030A (en) | 1984-12-18 | 1984-12-18 | Work processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26704084A JPS61145030A (en) | 1984-12-18 | 1984-12-18 | Work processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61145030A JPS61145030A (en) | 1986-07-02 |
| JPH0478530B2 true JPH0478530B2 (en) | 1992-12-11 |
Family
ID=17439207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26704084A Granted JPS61145030A (en) | 1984-12-18 | 1984-12-18 | Work processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61145030A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103276423B (en) * | 2013-06-08 | 2016-01-20 | 苏州市金翔钛设备有限公司 | Plating after-treatment device |
-
1984
- 1984-12-18 JP JP26704084A patent/JPS61145030A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61145030A (en) | 1986-07-02 |
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