JPH03157837A - 光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はオーバーライド可能な磁界変調方式の光磁気記
録媒体の媒体構成及び光磁気ディスクを収納するカート
リッジに関するものであも従来の技術 通紙　光磁気ディスクは高密度記録メディアとして注目
さね、一部商品化されている。

光磁気ディスクは半導体レーザなどの光を用いて記録再
生を行う記録メディアであム 垂直磁化膜である光磁気記録膜（ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＦ
ｅＣｏなどの希土類−遷移金属非晶質合金）にレーザ光
を照射して局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の
保磁力が減少すも　この隊　外部磁化を印加して磁化の
向きを変え　情報の書き込へ　消去を行う。

情報の再生ζよ　カー効果やファラデー効果などの磁気
光学効果を利用する。

さて、記録方法に（友　前記レーザ光の照射及び外部印
加磁界のいずれを変調するかにより、光変調方式と磁界
変調方式があム 前記光変調方式は外部印加磁界の向きを固定しレーザ光
の強度変調を行う。通象　消去と書き込みを同時に行う
オーバーライドはでき哄　消去モードと書き込みモード
が必要であり、情報の転送速度が遅いという課題がある
。

前記光変調方式のオーバーライドを行うため番へ磁気交
換結合を用いた２層膜方式（例えば特開昭６２−１７５
９４８）や磁壁エネルギーを制御する方式（例えばデー
、ルーガー、ジェ−シー。

スウィツ、アンド　シー、　ジェー、　リン：　熱誘導
磁壁エネルギー勾配を利用したテリビュウム鉄の熱磁気
ダイレクトオーバーライド、アプライドフィジックス　
レター、　５２巻（１８）、　　２号１５３７ｊｔ　　
１９８８年５月［Ｄ、Ｒｕｇｅｒ。

Ｊ、　　Ｃ，５ｕｉｔｓ、　　ａｎｄ　　Ｃ，−Ｊ、　
　Ｌｉｎ：Ｔｈｅｒｍｏ−ｍａｇｎｅｔｉｃ　　　ｄｉ
ｒｅｃｔｏｖｅｒｗｒｉｔｅ　　　ｉｎ　　　ＴｂＦｅ
　　　ｕｓｉｎｇ　　　ｔｈｅｒｍａｌｌｙ　　　　１
ｎｄｕｃｅｄ　　　ｄ。

ｍａｉｎ　　　ｗａｌｌ　　ｅｎｅｒｇｙｇｒａｄｉｅ
ｎｔ、　　Ａｐｐｌ、　　Ｐｈｙｓ、　　Ｌｅｔｔ、　
　　５２　　（１８）、２．　　ｐ、　　１５３７．Ｍ
ａｙ　　１９８８］）が考案されている力（前者は３Ｋ
Ｏｅから５ＫＯｅという大きな外部印加磁界が必要であ
り、光磁気ディスクドライブ装置の小型４ａ　　低コス
ト化が困難であるという課題を有している。また　後者
はその制御性の困難さから、まだ実用化に至っていな１
１〜 前記磁界変調方式はレーザ光の強度を固定し外部印加磁
界の向きを変調する方式であも　変調した外部印加磁界
を発生する手段として、例えば光磁気ディスク装置に用
いられている浮動型磁気ヘッドがある（例えば公開特許
公報昭６３−２２９６４３）。磁気ヘッドのコイルに流
す電流を変調し　外部印加磁界の変調を行うことができ
もしかしなかペ　レーザ光により局部的に加熱された光
磁気記録層の磁化を反転する為に必要な磁界（よ　磁気
ヘッドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気
記録層の距離はできる限り近づける必要があも 浮動型磁気ヘッド（上　気体潤滑作用を利用して低浮上
（例えば数μｍ以下）できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクトスタートストップ（以下Ｃ８
Ｓと略す）方式が必須であも光磁気ディスクにおいてＣ
８Ｓ方式を行うために（よ ｌ、光磁気ディスク静止時く　ディスク面と磁気ヘッド
　スライダー面が吸着しないこと、２、光磁気ディスク
の回転始動及び停止時の磁気ヘッド　接触走行時へ　磁
気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気　記録層を破壊しな
いこと、３、磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッド
のスライダー面に付着しないこと、が必要であａ上述し
た条件を満たすためへ　基板上へ　第１保護風　光磁気
記録層及び第２保護膜を順次形成し　第２保護膜上く　
熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性樹脂を配合し　
かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂組成物を設けた光
磁気ディスクが提案されている。　（例えば公開特許公
報昭６３２２９６４３） 以下、図面を参照しなか収　上述した従来の光磁気ディ
スクの一例について説明すも 第５図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図であ
る。第５図において、　１１はガラス基板１２はプリグ
ループパターンを持つ紫外線硬化性樹脂膜（通常厚さ１
０〜１００μｍ）、　１３はＺｎＳまたはＳｉＮで構成
される第１保護膜（通常厚さ６（１−１５０ｎｍ）、　
１４はＴｂＦｅＣｏ光磁気記録膜（通常厚さ２０〜１５
０ｎｍ）、　１５はＺｎＳまたはＳｉＮで構成される第
２保護膜（通常厚さ６０〜１５０　ｎｍ）、　１６はア
ルミナ扮ポリビニルメチルエーテル樹豚　熱硬化性エポ
キシ樹脂で構成される混合樹脂組成物を塗布したクラッ
シュ防止膜（厚さ１μｍ）、　１７はフッ化カーボン系
オイノ）、１９はスライダー、　２０はスライダー１９
の一端に設置される磁気ヘッド、　２１は対物ｌノンズ
、　２２はレーザ光　２３はディスク回転駆動装置であ
る。

以上のように構成された従来の光磁気ディスクについで
−以下第５図を参照ｊ７ながらその動作について説明す
る。

ディスク回転駆動装置２３が静止時はスライダー１９は
光磁気ディスクのクラッシュ防止膜１６にフッ化カーボ
ン系オイル１７を介ｌ、て接触している。

ディスク回転駆動装置２３が駆動するとスライダー１９
はフッ化カーボン系オイル１７上を滑走する。ディスク
回転駆動装置２３の回転速度が上昇し　スライダー１９
とクラッシュ防止膜１６の相対速度が概略１　ｍ　／　
ｓ以上に達すると、スライダー１９及び磁気ヘッド２０
はフッ化カーボン系オイル１７から浮上する。

磁気ヘッド２０が浮−Ｌ後、磁気ヘッド２０と対物ｌノ
ンズ２１及びレーザ光２２はアクセス駆動系（図示せず
）により、ディスク上の任意の位置に移動し　レーザ光
２２で光磁気記録膜１４を局所的に加熱し　磁気ヘッド
２０のヘッドコイル（図示せず）に変調電流を流すこと
により、光磁気記録膜１４に情報を書き込む。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置２３を停止する場合、スライダー１９及び磁
気ヘッド２０は浮上走行から滑走走行に移り、フッ化カ
ーボン系オイル１７を潤滑剤として接触走行し　クラッ
シュ防止膜１６上に静止する。

発明が解決（７ようとする課題 しかしながら上記のような構成でζ友　光磁気記録膜１
４の記録再生特性の経年劣化が部分的に生じるという課
題を有していた 幾多の実験を重ねた結果　この経年劣化はクラッシュ防
止膜１６中に含有されるアルミナ粉が第２保護膜１５に
接触し　第２保護膜１５の接触部分の保護性が劣化し　
光磁気記録膜１４の酸化が進へ　この影響により発生し
ていることが判明しム まｉ、、ｃｓｓ試験を繰り返すとクラッシュ防止膜１６
ＪＸ−のフッ化カーボン系オイル１７に人気中を浮遊す
る塵が付着し　この塵がスライダー１９及び磁気ヘッド
２０に再４１着Ｌ　　磁気ヘッド２０の浮上走行が妨げ
られ　光磁気記録膜１４への印加磁Ｗの強度が安定せＪ
−情報の書き込みが完全に行われないという課題も有１
７てい池ざらに　多湿状態のＣ８Ｓ試験で（よ　クラッ
シュ防止膜１６と磁気ヘッド２０との吸着耘　非定常的
ながら発生ずる々いう課題も有してい九本発明は上記課
題に鑑へ　光磁気記録膜１４の記録再生特性の経年劣化
がなく、スライダー１９及び磁気ヘッド２０への塵伺着
がなく、磁気ヘッド２０の光磁気ディスクへの吸着もな
い光磁気ディスクを提供するものである。

課題を解決するための手段 り記課題を解決するために本発明の光磁気ディスク？１
　　基板上に第１保護風　光磁気記録風　第２保護膜を
順次形成し　前記第２保護膜」二に紫外線硬化性樹脂膜
を形成１−　更に研磨剤と静電防止剤と潤滑剤を混合し
た複合熱硬化性樹脂膜を順次形成する力＼　または複合
熱硬化性樹脂膜の代わりに研磨剤と静電防止剤と潤滑剤
を混合した複合紫外線硬化性樹脂膜とを順次形成して光
磁気ディスクを得収　次いで複合熱硬化性樹脂膜または
複合紫外線硬化性樹脂膜の表面に凹凸を形成するという
構成と、光磁気ディスクのディスク面に略平行な光磁気
ディスクカートリッジ内壁と、磁気ヘッド設置側の表面
との空間に　不織布で構成されたライナーを備えた構成
の光磁気ディスクカートリッジである。

作用 本発明は上記した構成すなわち紫外線硬化樹脂膜を設け
ることによって、複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線
硬化性樹脂中に含有されるアルミラー粉（研磨剤）が直
接第２保護膜に接触しない構成となり、光磁気記録膜の
記録再生特性の経年劣化がない光磁気ディスクを提供で
きも また　複合熱硬化性樹脂膜中または複合紫外線硬化性樹
脂中に含まれる潤滑剤により複合熱硬化性樹脂膜表面ま
たは複合紫外線硬化性樹脂膜表面Ｑ− １〇− と磁気ヘッド、スライダーの動摩擦係数を低減して、磁
気ヘッドの複合熱硬化性樹脂膜上または複合紫外線硬化
性樹脂膜上の滑走を滑らかにしている。

さらに複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹脂
膜に含まれる静電防止剤により複合熱硬化性樹脂膜上ま
たは複合紫外線硬化性樹脂膜上への塵の静電吸着を低減
し　複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹脂膜
に含まれる研磨剤により、スライダー及び磁気ヘッドに
付着した塵を清浄する効果をもたせ、清浄した塵を光磁
気ディスクカートリッジ内壁へ　磁気ヘッド設置側に設
置したライナーにより捕捉する構成とすることにより、
安定した磁気ヘッド浮上が達成可能な光磁気ディスクを
提供できる。

実施例 以下本発明の一実施例の光磁気ディスクについて、図面
を参照しながら説明すも 第１図（よ　本発明の第１の実施例における光磁気ディ
スクの構成を示す断面図である。第１図に於いて、　１
は基板、　１３はＺｎＳ、Ｚｎ５ｅ−Ｓｉ０２またはＳ
ｉＮで構成される第１保護膜（厚さ８０　ｎｍ）、　１
４はＴｂＦｅＣｏ光磁気記録膜（厚さ１０１００ｎ、１
５はＺｎ５Ｓ　Ｚｎ５ｅ−ＳｉＯａまたはＳｉＮで構成
される第２保護膜（厚さ８０　ｎｍ）、２は紫外線硬化
性樹脂膜（厚さ５μｍ）、　３は研磨剤として粒径０．
５μｍのＡｌ２Ｏ３微粒子、潤滑剤としてステアリン酸
、ノルマルブチルスタレート、静電防止剤としてカーボ
ン粒子を混入した複合熱硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）、
１９はＭｎＺｎフェライトで構成されたスライダー、　
２０はスライダー１９の一端に取り付けられたＭ　ｎ　
Ｚ　ｎフェライトで構成された磁気ヘッド、２１は対物
レンＸ　　２２はレーザ光　２３はディスク回転駆動装
置であも 以上のように構成された本発明の第１の実施例による光
磁気ディスクについて、以下第１図を用いてその動作を
説明すも ディスク回転駆動装置２３が静止時はスライダー１９は
光磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜３＝１１− １２− に接触していも 複合熱硬化性樹脂３に含有している潤滑剤が複合熱硬化
性樹脂膜３の表面ににじみ出し　複合熱硬化性樹脂膜３
とスライダー１９の動摩擦係数は０、　３〜０．５とな
ム　ディスク回転駆動装置２３が駆動するとスライダー
１９は複合熱硬化性樹脂膜３上を滑らかに滑走すも　デ
ィスク回転駆動装置２３の回転速度が上昇し　スライダ
ー１９と複合熱硬化性樹脂膜３の相対速度が概略１ｍ／
ｓ以上に達すると、スライダー１９及び磁気ヘッド２０
は複合熱硬化性樹脂膜３から浮上すも磁気ヘッド２０が
浮上抵　磁気ヘッド２０と対物レンズ２１及びレーザ光
２２はアクセス駆動系（図示せず）により、ディスク上
の任意の位置に移動し　レーザ光２２で光磁気記録膜１
４を局所的に加熱し　磁気ヘッド２０のヘッドコイル（
図示せず）に変調電流を流すことにより、光磁気記録膜
１４に情報を書き込払 光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置２３を停止した場合、スライダー１９および
磁気ヘッド２０は浮上走行から滑走走行に移り、複合熱
硬化性樹脂膜３上に静止すも 光磁気記録膜１４の記録再生特性の経時変化を第２図に
描く。第２図は６０℃８０％ＲＨ環境下で、　１回／１
５分の割合でＣＳ　Ｓ、　　記録再生を繰り返した場合
の経過時間に対する再生Ｓ／Ｎの変化を示す。第２図に
於いて、Ｂは従来の構成による光磁気ディスクの再生Ｓ
／Ｎの変化　Ａは本実施例に於ける構成による光磁気デ
ィスクの再生Ｓ／Ｎの変化であ翫　第２図から明らかな
ように従来例にみられる劣化は認められな（〜 また　複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる静電防止剤によ
り複合複合熱硬化性樹脂膜３上への塵の静電吸着は低減
され　熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤によりスライ
ダー１９及び磁気ヘッド２０に付着した塵を清浄する効
果があり、磁気ヘッド２０は安定した浮上走行を行うこ
とができ、磁気ヘッド２０による光磁気記録膜１４への
磁界印加が安定する。

１３− 一１４＝ 以上のよ−うに本実施例によれば　基板１上に第１保護
膜１３、光磁気記録層１４及び第２保護膜１５を順次形
成Ｌ　第２保護膜１５上に紫外線硬化性樹脂膜２、紫外
線硬化性樹脂２七に研磨剤とし２て粒径０．５μｒ口の
Ａｌ２Ｏ８微粒子、潤滑剤としてステアリン酸　ノルマ
ルブチルスタ１ノー４、及び静電防止剤としてカーボン
粒子を混入した複合熱硬化性樹脂膜：１を設けることに
より、複合熱硬化性樹脂膜３中の研磨粒子Ａｌ３Ｏ＊が
第２保護膜１５に直接接触しないこととなり、光磁気記
録膜１４の記録再生特性の経時劣化がなく、安定した記
録が実現できる光磁気ディスクを提供することができも なれ　本実施例で（よ　複合熱硬化性樹脂Ｍ３に混入す
る研磨剤としてＡＩｔｏｓ微粒子を用いた力（この研磨
剤はＺｒＯや５ｉｆｔの微粒子としてもよ１、％ この場合、スライダー１９の材質がＭ　ｎ　Ｚ　ｎフェ
ライトより低硬度のガラスを用いた場合で仮スライダー
１９の表面を傷つけることがないとい５− う特徴を有する。

また　本実施例でｌ；ｔ、、　　紫外線硬化性樹脂膜２
上に塗布する樹脂として、研磨前　潤滑前　静電防止剤
を混入した複合熱硬化性樹脂膜３を用いた力（紫外線硬
化樹脂膜２上に塗布する樹脂として、研磨前　潤滑前　
静電防止剤を混入した複合紫外線硬化性樹脂膜としても
よ（ｔ この場合、本実施例の効果と共へ　紫外線硬化樹脂の採
用によって樹脂の硬化時間を数１０秒に短縮できるとい
う効果を合わせ持つことができａさらζＱ　本実施例で
（よ　紫外線硬化性樹脂膜２と複合熱硬化性樹膜３の厚
みを５μｍとした力（紫外線硬化性樹脂膜２の厚みをＨ
ｌ、複合熱硬化性樹脂膜３の厚みをＲ２と（７たとき、
Ｈ１≧１μ亀Ｈ２≧ｌμｒｒｈ　　Ｈ１＋Ｈ２≦１０．
４ｍの範囲であれば同様な効果を実現できん そして、本実施例で用いたＡｌ！ｏｓ微粒子、ＺｒＯ微
粒子やＳ　ｉ　Ｏ２微粒子等の研磨剤の粒径は複合熱硬
化性樹脂膜３の厚みをＲ２，各微粒子の粒径をＲ１とし
たとき、 ６− ０．２μｎ’ｌ≦Ｒ１≦Ｈ２の範囲であれ（渋　同様な
効果を得ることができん また　本実施例では複合熱硬化性樹脂膜３に混入する潤
滑剤としてステアリン酸　ノルマルブチルスタレートを
用いた力（潤滑剤はラウリン隈ミリスチン醜　オレイン
隈　ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと、ノル
マルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果が得ら
れもそして、本実施例では第２保護膜１５上に紫外線硬
化樹脂膜２を塗布１．て得た力（第２保護膜上に反射膜
を設（す、この反射膜上に紫外線硬化樹脂膜２及び研磨
前　潤滑前　静電防止剤を混入！７た複合熱硬化性樹脂
膜３を塗布した構成に於いても同様の効果が得られも また　本実施例で（戴　光磁気記録膜１４が第１保護膜
１３と第２保護膜１５の間に設けられている力（光磁気
記録層工４及び反射膜を第１保護膜１３と第２保護膜１
５の間に設けた構成に於いても同様な効果が獲られる。

　　以下本発明の第２の実施例について図面を参照しな
がら説明ず４第３図（瓜　本発明の第２の実施例におけ
る光磁気ディスクの構成を示す断面図であも　第１図に
於いて、　１は基板　１３はＺｎＳ、Ｚｎ５ｅ−８１０
２またはＳｉＮで構成される第１保護膜（厚さ８０　ｎ
ｍ）、　１４はＴｂＦｅＣｏ光磁気記録膜（厚さ１０１
００ｎ、１５はＺｎＳ、Ｚｎ５ｅ−ＳｉＯ２またはＳｉ
Ｎで構成される第２保護膜（厚さ８０ｎｍ）、　２は紫
外線硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）、　４は研磨剤として
粒径０゜　５μｍのＡＩｓ。

８微粒子、潤滑剤としてステアリン隈　ノルマルブヂル
スタレート、静電防止剤としてカーボン粒子を混入した
複合熱硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）であり表面に高低差
１μｍの凹凸処理を施している。

１９はスライダー、　２０は磁気ヘッド、　２１は対物
レンλ　２２はレーザ光　２３はディスク回転駆動装置
である。

以上のように構成された本発明の第２の実施例による光
磁気ディスクについて、以下第３図を用いてその動作を
説明する。

ディスク回転駆動装置２３が静止時はスライダ７ −１９は光磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜４上に形
成された凸面を介して接触している。

複合熱硬化性樹脂膜４に含有している潤滑剤が複合熱硬
化性樹脂膜４の表面ににじみ出し　複合熱硬化性樹脂膜
４とスライダー１９の動摩擦係数は０．２〜０．４とな
る。ディスク回転駆動装置２３が駆動するとスライダー
１９は熱硬化性樹脂膜４上を滑らかに滑走すも　ディス
ク回転駆動装置２３の回転速度が上昇し　スライダー１
９と熱硬化性樹脂４の相対速度が概略１ｍ／ｓ以上に達
すると、スライダー１９及び磁気ヘッド２ｏは複合熱硬
化性樹脂４の凸面上から浮上すａ磁気ヘッド２０が浮上
徽　磁気ヘッド２ｏと対物レンズ２１及びレーザ光２２
はアクセス駆動系（図示せず）により、ディスク上の任
意の位置に移動し　レーザ光２２で光磁気記録膜１４を
局所的に加熱し　磁気ヘッド２ｏのヘッドコイル（図示
せず）に変調電流を流すことにより、光磁気記録膜１４
に情報を書き込む。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置２３を停止する場合、スライダー１９及び磁
気ヘッド２０は浮上走行から滑走走行に移り、複合熱硬
化性樹脂膜４の凸面上に静止する。

光磁気ディスクは可搬性メディアであるた取低温環境や
多湿環境に放置される可能性がある。

本実施例の構成による光磁気ディスクを低温環境から多
湿環境に移し　光磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜４
上が露結した際へ　スライダー１９が複合熱硬化性樹脂
膜４上に接触した場合で転スライダー１９と複合熱硬化
性樹脂膜４の吸着は発生しなり〜 これ（よ　複合熱硬化性樹脂膜４の表面に凹凸処理を施
すことにより、接触面積が小さくなり吸着防止に効果的
であったことによる。

以上のように本実施例によれば　基板１上に第１保護膜
１３、光磁気記録層１４及び第２保護膜１５を順次形成
し　第２保護膜１５上に紫外線硬化樹脂膜２、紫外線硬
化性樹脂膜２上へ　研磨剤として粒径０．５μｍのＡｌ
ｅ’ｓ微粒子、潤滑剤９− 一加一 としてステアリン阪　ノルマルブチルスタレート、及び
静電防止剤としてカーボン粒子を混入した複合熱硬化性
樹脂膜４を投法　前記の複合熱硬化性樹脂膜４の表面に
高低差１μｍの凹凸処理を施すことにより、スライダー
１９と複合熱硬化性樹脂膜４の接触面積が小さくなり、
前記スライダー１９と複合熱硬化性樹脂膜４の吸着がな
い光磁気ディスクを提供することができる。

な抵　本実施例でＬ　　複合熱硬化性樹脂膜４の凹凸処
理の高低差を１μｍとした力丈　凹凸処理の高低差Ｒ４
戴０．　１μｍ≦Ｒ≦２μｍの範囲であれば同様な効果
が獲られる。

また　本実施例でζよ　複合熱硬化性樹脂膜４に混入す
る研磨剤としてＡＩｔｏｓ微粒子を用いた力（この研磨
剤はＺｒＯや５ｉｎｓの微粒子としてもよ１、％ この場合、スライダー１９の材質がＭｎＺｎフェライト
より低硬度のガラスを用いた場合で杖スライダー１９の
表面を傷つけることがないという特徴を有する。

そして、本実施例では　紫外線硬化性樹脂膜２上に塗布
する樹脂として、研磨前　潤滑前　静電防止剤を混入し
た複合熱硬化性樹脂膜４を用いため（紫外線硬化樹脂膜
２上に塗布する樹脂として、研磨前　潤滑前　静電防止
剤を混入した紫外線硬化性樹脂膜としてもよ（〜 この場合、本実施例の効果と共鳳　樹脂の硬化時間を短
縮できるという効果を合わせ持つことができも ざらへ　本実施例では　紫外線硬化性樹脂膜２と複合熱
硬化性樹脂膜４の厚みを５μｍとした低紫外線硬化性樹
脂膜２の厚みをＨｌ、複合熱硬化性樹脂４膜の厚みをＲ
２としたとき、Ｈ１≧１μ瓜Ｈ２≧１μｍ、　　Ｈ１＋
Ｈ２≦ｌＯ１，ｔｍの範囲であれば同様な効果を実現で
きる。

そして、本実施例で用いたＡＩｔｏｓ微粒子、Ｚｒｏ微
粒子や５ｉ０２微粒子等の研磨剤の粒径（よ複合熱硬化
性樹脂膜４の厚みをＲ２，各研磨微粒子の粒径をＲ１と
したとき、 ０．２μｍ≦Ｒ１≦Ｈ２の範囲であれば　同様な効２１ −ρ− 果を得ることかできる。

まメ、′−本実施例では熱硬化性樹脂膜４に混入する潤
滑剤としてステアリン酸、ノルマルブヂルスタ１ノート
を用いた力（潤滑剤はラウリン酸、　ミリスヂン阪　オ
レイン醜　ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと
、ノルマルブチルスタレ−１・との混合剤でも同様な効
果が得られる。

以下本発明の第３の実施例について図面を参照しながら
説明する。

第４図（友　本発明の第３の実施例にお＋′ｊる光磁気
ディスク及び光磁気ディスクカートリッジの構成を示す
断面図であも　第４図に於いて、　ｌは基板、　１３は
ＺｎＳ、Ｚｎ５ｅ−８ｉｄＰまたはＳｉＮで構成される
第１保護膜（厚さ８０ｎｍ）、　１４はＴｂＦｅＣｏ光
磁気記録Ｍ（厚さ１０１００ｎ、１５はＺｎＳ、Ｚｎ５
ｅ−３ｉＯＰまたはＳｉＮで構成される第２保護膜（厚
さ８０ｎｍ）、　２は紫外線硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ
）、　３は研磨剤として粒径０．５７１ｍのＡＩ２’ｓ
微粒子、潤滑剤としてステアリン酸　ノルマルブチルメ
タ１ノート、静電防止剤としてカーボン粒子を混入した
複合熱硬化性樹脂膜（厚さ５　／−ｔ　ｍ　）であム　
１９はスライダー、　２０は磁気ヘッド、　２１は対物
１ノンズ、２２はレーザ光　２３はディスク回転駆動装
置２４は光磁気ディスクカートリッジ、　２５はレーヨ
ン等の不織布で構成されたライナーであも以上のＪ：う
に構成された本発明の第３の実施例による光磁気ディス
クについて、以下第４図を用いてその動作を説明すも ディスク回転駆動装置２３が静止時はスライダー１９は
光磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜３上に接触してい
る。

複合熱硬化性樹脂膜３に含有している潤滑剤が複合熱硬
化性樹脂膜３の表面ににじみ出し　複合熱硬化性樹脂膜
３とスライダー１９の動摩擦係数は０．３〜０．５とな
る。ディスク回転駆動装置２３が駆動するとスライダー
１９は複合熱硬化性樹脂膜３七を滑らかに泪走すも　デ
ィスク回転駆動装置２３の回転速度が上昇し　スライダ
ー１９と複合熱硬化性樹脂膜３の相対速度が概略１ｍ／
−幻一 一冴 Ｓ以」―に達すると、スライダー１９及び磁気ヘッド２
０は複合熱硬化性樹脂膜３上から浮−卜する。

磁気ヘッド２０が浮上後、磁気ヘッド２０と対物１ノン
ズ２１及びレーザ光２２はアクセス駆動系（図示せず）
により、ディスク」二の任意の位置に移動し　レーザ光
２２で光磁気記録膜１４を局所的に加熱し　磁気ヘッド
２０のヘッドコイル（図示せず）に変調電流を流すこと
により、光磁気記録膜１４に情報を書き込む。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置２３を停止する場合、磁気ヘッド２０は浮上
走行から滑走走行に移り、複合熱硬化性樹脂膜３」二に
静止する。

スライダー１９が複合熱硬化性樹脂膜３上を滑走走行す
る際に　複合熱硬化性樹脂膜３」−に存在する若Ｔの塵
や、複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤によりスラ
イダー１９や磁気ヘッド２０から削り落とされた塵ＩＬ
　　ライナー２５の繊維間に入り、複合熱硬化性樹脂膜
３やスライダー１９、磁気ヘッド２０に再付着すること
がなく、　４万回以上のＣ８Ｓ試験に対してＬ　スライ
ダー１９に塵付着はなく、磁気ヘッド２０は安定した浮
上走行を続けることができも 以上のように本実施例によれ（′Ｌ　基板１上に第１保
護膜１３、光磁気記録層１４及び第２保護膜１５を順次
形成Ｌ　第２保護膜１５上に紫外線硬化樹脂膜２、紫外
線硬化性樹脂膜２上に　研磨剤として粒径０．５μｍの
ＡＩＰ’ｓ微粒子、潤滑剤としてステアリン酸　ノルマ
ルブヂルスタレート、及び静電防止剤としてカーボン粒
子を混入１７た複合熱硬化性樹脂膜３を投法　光磁気デ
ィスクカートリッジ２４の複合熱硬化性樹脂膜３に面す
る内壁にライナー２５を設置することにより、複合熱硬
化性樹脂膜３やスライダー１９、磁気ヘッド２０に付着
した塵が再刊着することを防止１−　磁気ヘッド２０の
安定した浮上走行を行うことができ、光磁気記録膜１４
への磁界印加を確実に行うことができ、記録再生の信頼
性が高い光磁気ディスクを提供することができる。

な抵　本実施例でＣ社　　複合熱硬化性樹脂膜３に５− 一か〜 −人する研磨剤としてＡｌ２Ｏ５微粒子を用いた戟この
研磨剤はＺｒＯや５ｉｆ２の微粒子としてもよし℃ この場合、スライダー１９の材質がＭ　ｎ　Ｚ　ｎフェ
ライトより低硬度のガラスを用いた場合でにスライダー
１９の表面を傷つけることがないという特徴を有する。

また　本実施例で（友　紫外線硬化性樹脂膜２上に塗布
する樹脂として、研磨前　潤滑前　静電防止剤を混入し
た複合熱硬化性樹脂膜３を用いた力（紫外線硬化樹脂膜
２上に塗布する樹脂として、研磨前　潤滑前　静電防止
剤を混入した複合紫外線硬化性樹脂膜としてもよ（− この場合、本実施例の効果と共く　紫外線樹脂の採用で
樹脂の硬化時間を数１０秒短縮でき、低コスト光磁気デ
ィスクを作製することができるという効果を合わせ持つ
ことができも さらく　本実施例で（よ　紫外線硬化性樹脂膜２と複合
熱硬化性樹脂膜３の厚みを５μｍとしたバ紫外線硬化性
樹脂膜２の厚みをＨｌ、複合熱硬化性樹脂膜３の厚みを
Ｒ２としたとき、Ｈ１≧１μ瓜Ｈ２≧ｌμｎ、　　Ｈ１
＋Ｈ２≦１０μｍの範囲であれば同様な効果を実現でき
る。

そして、本実施例で用いたＡｌ２Ｏ５微粒子、Ｚｒｏ微
粒子やＳｉＯ２微粒子等の研磨剤の粒径（よ複合熱硬化
性樹脂膜３の厚みをＲ２，各微粒子の粒径をＲ１とした
とき、 ０．２μｍ≦Ｒ１≦Ｈ２の範囲であれ（ｆ、同様な効果
を得ることができる。

また　本実施例では複合熱硬化性樹脂膜３に混入する潤
滑剤としてステアリン酸　ノルマルブチルスタレートを
用いため（潤滑剤はラウリン浪ミリスチン醜　オレイン
醜　ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと、ノル
マルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果が得ら
れも発明の効果 以上のように本発明１よ　基板上に第１保護風光磁気記
録層及び第２保護膜を順次形成し　第２保護膜上に紫外
線硬化性樹脂膜を形成し　前記紫外線硬化性樹脂膜上に
　研磨前　潤滑前　及び静２７− −田− 電防止剤を混入した複合熱硬化性樹脂風　または研磨前
　潤滑前　及び静電防止剤を混入した複合紫外線硬化性
樹脂膜を設けることにより、光磁気ディスク停止時圏　
ディスク面と磁気ヘッド、スライダー面が吸着しないこ
と、光磁気ディスクの回転始動及び停止時の磁気ヘッド
が光磁気ディスクの光磁気記録部を破壊しないことの課
題が解決すると共に　さらに光磁気ディスクカートリッ
ジの内壁にライナーを設置することにより、複合熱硬化
性樹脂風 磨粒子が第２保護膜に直接接触しないこととなり、光磁
気記録膜の記録再生特性の経時劣化がなく、複合熱硬化
性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹脂風　スライダー、
磁気ヘッドに付着した塵が再付着することを防止し　磁
気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライダー面
に付着しないので安定した浮上走行を行うことができ、
光磁気記録膜１４への磁界印加を確実に行え　記録再生
の信頼性が高い光磁気ディスクを提供することができる
。

また　複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化樹脂膜
の表面に凹凸処理を施すことにより、スライダーと複合
熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹脂膜の接触面
積が小さくなることにより、複合熱硬化性樹脂風　また
は複合紫外線硬化性樹脂膜上に露結が発生した場合に於
いて耘　前記スライダーと複合熱硬化性樹脂膜または複
合紫外線硬化性樹脂膜の吸着がない光磁気ディスクを提
供することができも

【図面の簡単な説明】

第１図（よ　本発明の第１の実施例における光磁気ディ
スクの構成を示す断面飄　第２図は本発明の第１の実施
例における光磁気ディスクのＣ８Ｓを繰り返した場合へ
　経過時間に対する再生Ｓ／Ｎの変化を示す図　第３図
る上　本発明の第２の実施例における光磁気ディスクの
構成を示す断面医第４図は本発明の第３の実施例におけ
る光磁気ディスク及び光磁気ディスクカートリッジの構
成を示す断面図　第５図は従来例における光磁気ディス
クの構成を示す断面図であも 一四一 −ｘ〜

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に第１保護膜、光磁気記録膜、第２保護膜
   を順次形成し、前記第２保護膜上に紫外線硬化性樹脂膜
   を形成し、更に研磨剤と静電防止剤と潤滑剤とを含有す
   る複合熱硬化性樹脂膜を順次形成したことを特徴とする
   光磁気ディスク。
2. （２）複合熱硬化性樹脂膜を複合紫外線硬化性樹脂膜と
   したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁
   気ディスク。
3. （３）熱硬化性樹脂膜に混合する研磨剤として、Ａｌ＿
   ３Ｏ＿４微粒子、ＺｒＯ微粒子、ＳｉＯ＿２微粒子を用
   いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁
   気ディスク。
4. （４）熱硬化性樹脂膜の表面に凹凸を形成したことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気ディスク。
5. （５）光磁気ディスクカートリッジ内壁と、磁気ヘッド
   設置側の表面との空間に、不織布で構成されたライナー
   を備えたことを特徴とする光磁気ディスクカートリッジ
   。