JPH0480896B2 - - Google Patents
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- JPH0480896B2 JPH0480896B2 JP19954183A JP19954183A JPH0480896B2 JP H0480896 B2 JPH0480896 B2 JP H0480896B2 JP 19954183 A JP19954183 A JP 19954183A JP 19954183 A JP19954183 A JP 19954183A JP H0480896 B2 JPH0480896 B2 JP H0480896B2
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Description
本発明は、光学活性アミノプロパンジオール類
の立体配置を反転する方法に関するものである。
更に詳しくは、一般式 （式中、＊は不斉炭素を示す。R1はC1〜C4の
低級アルキル基を示す。）で表わされる光学活性
アミノプロパンジオール類を、一般式 （式中、＊は不斉炭素を示す。R1はC1〜C4の
低級アルキル基を示す。R2はC1〜C4の低級アル
キル基、ベンジル基、または置換ベンジル基を示
す。）で表わされる光学活性エポキシ化合物に誘
導し、次いで水、あるいは塩基性水溶液と反応さ
せることを特徴とする、一般式 （式中、＊は不斉炭素を示す。R1はC1〜C4の
低級アルキル基を示す。）で表わされる光学活性
アミノプロパンジオール類に立体配置を反転する
方法に関するものである。 光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールに関
して、その立体配置が（Ｓ）体の化合物は光学活
性のβ−受容体遮断薬の有用な合成中間体である
ことが知られている。Ｎの置換基についてはイソ
プロピル基およびｔ−ブチル基が薬効の面から重
要である。 一般に、不斉炭素を有する化合物を、光学分
割、あるいは不斉加水分解によつて得た場合、工
業的には不必要な光学異性体をラセミ化させて、
もう一度利用するか、望ましくは不必要な光学異
性体を必要な光学異性体に反転させる方法が必須
である。一般式（）で表わされる光学活性Ｎ−
置換アミノプロパンジオールの有効な所望とする
光学活性体への反転方法の報告例はなく、さらに
有効なラセミ化方法さえ見出されていない。また
光学活性２−アミノアルコール類の立体配置を変
換する方法としては特開昭49−75545、特開昭55
−20785が知られているが、光学活性Ｎ−置換ア
ミノプロパンジオールには適用できなかつた。 本発明者らは、この点に関し検討し、光学活性
なＮ−置換アミノプロパンジオールから誘導され
るエポキシ化合物を水あるいは塩基性水溶液で処
理すると驚くべきことに不斉炭素の立体配置が反
転すると同時に、一挙に所望する立体配置を有す
るＮ−置換アミノプロパンジオールが生成するこ
とを見出して本発明を完成させた。 具体的に本発明の反転方法を式で示すと式１の
通りに表わされる。 （式中、記号は前記と同一） 本発明における反転工程の出発物質の化合物
（）、即ち一般式
の立体配置を反転する方法に関するものである。
更に詳しくは、一般式 （式中、＊は不斉炭素を示す。R1はC1〜C4の
低級アルキル基を示す。）で表わされる光学活性
アミノプロパンジオール類を、一般式 （式中、＊は不斉炭素を示す。R1はC1〜C4の
低級アルキル基を示す。R2はC1〜C4の低級アル
キル基、ベンジル基、または置換ベンジル基を示
す。）で表わされる光学活性エポキシ化合物に誘
導し、次いで水、あるいは塩基性水溶液と反応さ
せることを特徴とする、一般式 （式中、＊は不斉炭素を示す。R1はC1〜C4の
低級アルキル基を示す。）で表わされる光学活性
アミノプロパンジオール類に立体配置を反転する
方法に関するものである。 光学活性Ｎ−置換アミノプロパンジオールに関
して、その立体配置が（Ｓ）体の化合物は光学活
性のβ−受容体遮断薬の有用な合成中間体である
ことが知られている。Ｎの置換基についてはイソ
プロピル基およびｔ−ブチル基が薬効の面から重
要である。 一般に、不斉炭素を有する化合物を、光学分
割、あるいは不斉加水分解によつて得た場合、工
業的には不必要な光学異性体をラセミ化させて、
もう一度利用するか、望ましくは不必要な光学異
性体を必要な光学異性体に反転させる方法が必須
である。一般式（）で表わされる光学活性Ｎ−
置換アミノプロパンジオールの有効な所望とする
光学活性体への反転方法の報告例はなく、さらに
有効なラセミ化方法さえ見出されていない。また
光学活性２−アミノアルコール類の立体配置を変
換する方法としては特開昭49−75545、特開昭55
−20785が知られているが、光学活性Ｎ−置換ア
ミノプロパンジオールには適用できなかつた。 本発明者らは、この点に関し検討し、光学活性
なＮ−置換アミノプロパンジオールから誘導され
るエポキシ化合物を水あるいは塩基性水溶液で処
理すると驚くべきことに不斉炭素の立体配置が反
転すると同時に、一挙に所望する立体配置を有す
るＮ−置換アミノプロパンジオールが生成するこ
とを見出して本発明を完成させた。 具体的に本発明の反転方法を式で示すと式１の
通りに表わされる。 （式中、記号は前記と同一） 本発明における反転工程の出発物質の化合物
（）、即ち一般式
【式】（記号は前記
と同一）で表わされる光学活性Ｎ−置換アミノプ
ロパンジオール化合物は、本出願人の特許出願
（特開昭59−31692、同59−31693、同59−78696）
により得られる光学活性５−ヒドロキシメチル−
Ｎ−置換オキサゾリジン−２−オンをアルカリ加
水分解して容易に取得できる。 次に、立体配置の保持された光学活性エポキシ
化合物（）への変換方法は種々の公知の反応を
組み合わせて達成できる。例えば式２および式３
の方法によつて行われる。 即ち、式２に示すように、光学活性Ｎ−置換ア
ミノプロパンジオールをHBr−酢酸と反応させ、
次いでナトリウムメチラート等の塩基でエポキシ
誘導体に変換し、ついでクロル炭酸アルキルやク
ロル炭酸ベンジル等でアミノ基をカルバメート基
にして光学活性エポキシ化合物（）を得ること
ができる。式３では、HBr−酢酸の替りにｐ−
トルエンスルホニルクロリド等で光学活性のトシ
レート体に誘導し、ついでナトリウムメチラート
等の塩基で式２と同様のエポキシ誘導体に変換で
きる。これらの光学活性Ｎ−置換アミノプロパン
ジオールから化合物（）のエポキシ化合物に変
換する工程では不斉炭素の立体配置は保持されて
いる。 本発明における反転工程の原料の光学活性エポ
キシ化合物（）の置換基R1はC1〜C4の低級ア
ルキル基から選択することができる。たとえばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ｔ−ブチル基等が挙げられるが、薬効の高い
β−受容体遮断薬に対応するアルキル基としてイ
ソプロピル基とｔ−ブチル基が好適である。化合
物（）の置換基R2はアミノ基をカルバメート
基にする際の試薬により規定される。この試薬と
してはクロル炭酸メチル、クロル炭酸エチル、ク
ロル炭酸ベンジル又は、クロル炭酸置換ベンジル
が使用できる。これらに対応する置換基R2はメ
チル、エチル、ベンジルおよび置換ベンジル基で
ある。置換ベンジル基としてはｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−メトキシベンジ
ル、ｏ−ニトロベンジル等の置換ベンジル基が使
用できる。上記の光学活性エポキシ化合物（）
のアミノ基の置換基R2は反転工程において脱離
する基であり、工業的には、R2がメチルおよび
エチル基が好ましい。 これらの光学活性エポキシ化合物（）を水あ
るいは塩基性水溶液で処理することにより反転し
たＮ−置換アミノプロパンジオールに変換させる
ことができる。 本発明で使用する塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウム、水酸化アルミニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム等の無機塩基が使用でき
る。溶媒としては水が好ましいが、ベンゼン、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素；メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類；塩化メチレン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素；ジオキサン
エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル類およびジメチルフオルムアミド、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル等の極性溶媒と水
との混合系も使用できる。 反応は均一系でも不均一系でも進行し、反応温
度は室温から使用する溶媒の還流温度まで選択す
ることができる。好ましくは室温から約50℃の範
囲である。 本反応において塩基を使用する場合は、反応系
の規定度が約３規定まで使用できる。これらの反
応条件で本反応を実施すると、反応は数時間から
48時間の範囲で終了できる。反応後、反応液を水
酸化ナトリウム水溶液などのアルカリ水溶液でア
ルカリ性にして、塩化メチレンや酢酸エチルなど
の有機溶媒で反応物を抽出できる。分液した有機
層を減圧下に濃縮することにより目的とする立体
配置が反転した光学活性Ｎ−置換アミノプロパン
ジオールが得られる。目的物が結晶の場合は、析
出する結晶を過することにより容易に取得する
ことができる。必要によつてはアセトン等の溶媒
で再結晶し精製することもできる。また、目的物
が液体の場合は、そのままでは純度の高いものが
得られるが、必要に応じて蒸留あるいはカラムに
より精製することもできる。 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 参考例 １ （5R）−３−ｔ−ブチル−５−ヒドロキシメチ
ル−オキサゾリジン−２−オン〔ａ〕20 D＝−44.7°
（Ｃ＝１、CHCl3）3.0ｇを6N−NaOH 30mlに溶
かし、95℃で３時間撹拌する。反応後、反応液を
塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減
圧留去すると（Ｒ）−３−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶2.4ｇが得
られる。 〔ａ〕20 D＝＋31°（Ｃ＝１，1N HCl） ｍ・ｐ＝84°〜85℃ 1H NMR（CDCl3，90MHz）δ ppm 1.15（9H，Ｓ，Ｃ（CH3）3）， 2.45〜2.80（2H，−CH2−Ｈ Ｎ −）， 2.80〜3.20（3H，HO−CH2−CH（OH）−
CH2−NH−），3.45〜3.75（3H，HOCH2−
CH（OH）−） 参考例 ２ （5R）−３−イソプロピル−５−ヒドロキシメ
チル−オキサゾリジン−２−オン〔ａ〕20 D＝−
57.6°（Ｃ＝１、CHCl3）4.0ｇを6N−NaOH 30ml
にとかし、90℃で３時間撹拌する。反応後、反応
液を塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレン
を減圧留去すると（Ｒ）−３−イソプロピルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシプロパンの液体3.0ｇ
が得られる。 〔ａ〕20 D＝＋33.9°（Ｃ＝１，1N HCl） ｂ・ｐ＝97℃（１mmHg） 1H NMR（CDCl3，90MHz）δ ppm 1.02〜1.18（6H，ｄ，CH（CH3）2） 2.45〜2.90（3H，−CH2NH−） 3.40〜3.90（6H，HOCH2CH（OH）CH2NHCH
） 実施例 １ 参考例１で得られた（Ｒ）−３−ｔ−ブチルア
ミノ−１，２−ジヒドロキシプロパン2.4ｇを臭
化水素−酢酸溶液（25％）40mlに加え、室温で３
時間撹拌する。反応後、反応液を減圧濃縮すると
結晶が析出する。この結晶をエーテルで洗浄して
（Ｒ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−ｔ−ブ
チルアミノプロパンのHBr塩4.9ｇが得られる。
（Ｒ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−ｔ−ブ
チルアミノプロパンのHBr塩２ｇをメタノール
10mlに溶かし、この溶液にナトリウムメトキシド
（28％メタノール溶液）2.5ｇを冷却しながら滴下
する。滴下後30分撹拌する。反応後、反応液を減
圧濃縮する。水20mlを加え塩化メチレンで抽出す
る。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。塩化メチレンを減圧留去すると（Ｒ）−
３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパ
ンの液体が得られる。これを全量、塩化メチレン
５mlにとかし、さらに水５ml加えたものに、クロ
ル炭酸エチル0.8ｇを塩化メチレン５mlにとかし
た溶液と炭酸カリウム1.1ｇを水５mlにとかした
溶液を冷却下、同時に滴下し、室温で３時間撹拌
する。反応後、反応液に2N NaOH 10mlを加え
て塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを
減圧留去すると（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル
−３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロ
パン1.1ｇの液体を得る。 得られた（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３
−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパン
1.0ｇをNaOHでPH12に調製した水溶液に加え、
室温で７時間撹拌する。反応後、反応液に水酸化
ナトリウムを加え、塩化メチレンで抽出する。塩
化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。塩化メチレンを減圧留去すると結晶が得られ
る。これをヘキサンで洗浄し取すると（Ｓ）−
３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−ジヒドロキシプ
ロパンの白色結晶0.65ｇが得られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ２ 参考例２で得られた（Ｒ）−３−イソプロピル
アミノ−１，２−ジヒドロキシプロパン3.0ｇを
ピリジン塩酸塩2.9ｇとピリジン10mlを含む溶液
にとかす。この溶液に冷却下、パラトルエンスル
ホン酸クロライド4.4ｇを塩化メチレン10mlにと
かした溶液を滴下する。５時間室温で撹拌する。
反応後、反応液に炭酸カリウム1.6ｇを水50mlに
して加える。この溶液から過剰のピリジンを減圧
留去した後、炭酸カリウム3.7ｇ加え塩化メチレ
ンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを過で除
いた溶液にｐ−トルエンスルホン酸4.3ｇを加え、
塩化メチレンを減圧留去すると粗（Ｒ）−１，２
−ジヒドロキシ−３−イソプロピルアミノプロパ
ン−１−ｐ−トルエンスルホナートのｐ−トルエ
ンスルホン酸塩9.4ｇが得られる。次に、この塩
をイソプロピルアルコールで再結して得た塩の一
部5.8ｇをメタノール50mlにとかし、この溶液に
ナトリウムメトキシド（28％メタノール溶液）
5.2ｇを冷却しながら滴下する。滴下後30分撹拌
する。反応後、反応液を減圧濃縮する。水50mlを
加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレ
ンを減圧留去すると（Ｒ）−３−イソプロピルア
ミノ−１，２−エポキシプロパンの液体が得られ
る。これを全量、塩化メチレン10mlにとかし、さ
らに水10ml加えたものに、クロル炭酸エチル1.8
ｇを塩化メチレン10mlにとかした溶液と炭酸カリ
ウム2.2ｇを水10mlにとかした溶液を、冷却下、
同時に滴下し、室温で３時間撹拌する。反応後、
反応液に2N NaOH 20ml加えて塩化メチレンで
抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると、
（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３−イソプロピ
ルアミノ−１，２−エポキシプロパンの液体を
1.8ｇ得る。 得られた（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３
−イソプロピルアミノ−１，２−エポキシプロパ
ン1.0ｇをNaOHでPH12に調整した水溶液に加え、
室温で６時間撹拌する。反応後、反応液に水酸化
ナトリウムを加え、塩化メチレンで抽出する。塩
化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。塩化メチレンを減圧留去すると液体0.65ｇを
得る。このものを、さらに蒸留により精製すると
（Ｓ）−３−イソプロピルアミノ−１，２−ジヒド
ロキシプロパンの液体0.58ｇを得る。 〔ａ〕20 D＝−33.9°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ３ 参考例１と同様にして得られる（Ｒ）−Ｎ−エ
トキシカルボニル−３−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−エポキシプロパン1.0ｇを水10mlに加え48時
間室温で撹拌する。反応後、反応液に水酸化ナト
リウムを加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチ
レン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化
メチレンを減圧留去する結晶が得られる。これを
ヘキサンで洗浄し取すると（Ｓ）−３−ｔ−ブ
チルアミノ−１，２−ジヒドロキシプロパンの白
色結晶0.65ｇが得られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ４ 実施例１と同様にして得られる（Ｒ）−Ｎ−エ
トキシカルボニル−３−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−エポキシプロパン1.0ｇを0.01N K2CO3 20
mlに加え、10時間室温で撹拌する。反応後、反応
液に水酸化ナトリウムを加え塩化メチレンで抽出
する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると結晶が
得られる。これをヘキサンで洗浄し取すると
（Ｓ）−３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−ジヒドロ
キシプロパンの白色結晶0.60ｇが得られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ５ 実施例１と同様にして得られた（Ｒ）−３−ｔ
−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパン1.0
ｇをアセトン５mlにとかし、さらに水５mlを加え
たものにクロル炭酸エチル0.8ｇをアセトン５ml
にとかした溶液と、炭酸カリウム1.1ｇを水５ml
にとかした溶液を、冷却下、同時に滴加し、室温
で12時間撹拌する。反応後、反応液からアセトン
を減圧留去し、水酸化ナトリウムを加え、塩化メ
チレンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去
すると結晶が得られる。これをヘキサンで洗浄
し、取すると（Ｓ）−３−ｔブチルアミノ−１，
２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶0.7ｇが得
られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl）
ロパンジオール化合物は、本出願人の特許出願
（特開昭59−31692、同59−31693、同59−78696）
により得られる光学活性５−ヒドロキシメチル−
Ｎ−置換オキサゾリジン−２−オンをアルカリ加
水分解して容易に取得できる。 次に、立体配置の保持された光学活性エポキシ
化合物（）への変換方法は種々の公知の反応を
組み合わせて達成できる。例えば式２および式３
の方法によつて行われる。 即ち、式２に示すように、光学活性Ｎ−置換ア
ミノプロパンジオールをHBr−酢酸と反応させ、
次いでナトリウムメチラート等の塩基でエポキシ
誘導体に変換し、ついでクロル炭酸アルキルやク
ロル炭酸ベンジル等でアミノ基をカルバメート基
にして光学活性エポキシ化合物（）を得ること
ができる。式３では、HBr−酢酸の替りにｐ−
トルエンスルホニルクロリド等で光学活性のトシ
レート体に誘導し、ついでナトリウムメチラート
等の塩基で式２と同様のエポキシ誘導体に変換で
きる。これらの光学活性Ｎ−置換アミノプロパン
ジオールから化合物（）のエポキシ化合物に変
換する工程では不斉炭素の立体配置は保持されて
いる。 本発明における反転工程の原料の光学活性エポ
キシ化合物（）の置換基R1はC1〜C4の低級ア
ルキル基から選択することができる。たとえばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ｔ−ブチル基等が挙げられるが、薬効の高い
β−受容体遮断薬に対応するアルキル基としてイ
ソプロピル基とｔ−ブチル基が好適である。化合
物（）の置換基R2はアミノ基をカルバメート
基にする際の試薬により規定される。この試薬と
してはクロル炭酸メチル、クロル炭酸エチル、ク
ロル炭酸ベンジル又は、クロル炭酸置換ベンジル
が使用できる。これらに対応する置換基R2はメ
チル、エチル、ベンジルおよび置換ベンジル基で
ある。置換ベンジル基としてはｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−メトキシベンジ
ル、ｏ−ニトロベンジル等の置換ベンジル基が使
用できる。上記の光学活性エポキシ化合物（）
のアミノ基の置換基R2は反転工程において脱離
する基であり、工業的には、R2がメチルおよび
エチル基が好ましい。 これらの光学活性エポキシ化合物（）を水あ
るいは塩基性水溶液で処理することにより反転し
たＮ−置換アミノプロパンジオールに変換させる
ことができる。 本発明で使用する塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウム、水酸化アルミニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム等の無機塩基が使用でき
る。溶媒としては水が好ましいが、ベンゼン、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素；メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類；塩化メチレン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素；ジオキサン
エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル類およびジメチルフオルムアミド、ジメチル
スルホキシド、アセトニトリル等の極性溶媒と水
との混合系も使用できる。 反応は均一系でも不均一系でも進行し、反応温
度は室温から使用する溶媒の還流温度まで選択す
ることができる。好ましくは室温から約50℃の範
囲である。 本反応において塩基を使用する場合は、反応系
の規定度が約３規定まで使用できる。これらの反
応条件で本反応を実施すると、反応は数時間から
48時間の範囲で終了できる。反応後、反応液を水
酸化ナトリウム水溶液などのアルカリ水溶液でア
ルカリ性にして、塩化メチレンや酢酸エチルなど
の有機溶媒で反応物を抽出できる。分液した有機
層を減圧下に濃縮することにより目的とする立体
配置が反転した光学活性Ｎ−置換アミノプロパン
ジオールが得られる。目的物が結晶の場合は、析
出する結晶を過することにより容易に取得する
ことができる。必要によつてはアセトン等の溶媒
で再結晶し精製することもできる。また、目的物
が液体の場合は、そのままでは純度の高いものが
得られるが、必要に応じて蒸留あるいはカラムに
より精製することもできる。 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 参考例 １ （5R）−３−ｔ−ブチル−５−ヒドロキシメチ
ル−オキサゾリジン−２−オン〔ａ〕20 D＝−44.7°
（Ｃ＝１、CHCl3）3.0ｇを6N−NaOH 30mlに溶
かし、95℃で３時間撹拌する。反応後、反応液を
塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減
圧留去すると（Ｒ）−３−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶2.4ｇが得
られる。 〔ａ〕20 D＝＋31°（Ｃ＝１，1N HCl） ｍ・ｐ＝84°〜85℃ 1H NMR（CDCl3，90MHz）δ ppm 1.15（9H，Ｓ，Ｃ（CH3）3）， 2.45〜2.80（2H，−CH2−Ｈ Ｎ −）， 2.80〜3.20（3H，HO−CH2−CH（OH）−
CH2−NH−），3.45〜3.75（3H，HOCH2−
CH（OH）−） 参考例 ２ （5R）−３−イソプロピル−５−ヒドロキシメ
チル−オキサゾリジン−２−オン〔ａ〕20 D＝−
57.6°（Ｃ＝１、CHCl3）4.0ｇを6N−NaOH 30ml
にとかし、90℃で３時間撹拌する。反応後、反応
液を塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレン
を減圧留去すると（Ｒ）−３−イソプロピルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシプロパンの液体3.0ｇ
が得られる。 〔ａ〕20 D＝＋33.9°（Ｃ＝１，1N HCl） ｂ・ｐ＝97℃（１mmHg） 1H NMR（CDCl3，90MHz）δ ppm 1.02〜1.18（6H，ｄ，CH（CH3）2） 2.45〜2.90（3H，−CH2NH−） 3.40〜3.90（6H，HOCH2CH（OH）CH2NHCH
） 実施例 １ 参考例１で得られた（Ｒ）−３−ｔ−ブチルア
ミノ−１，２−ジヒドロキシプロパン2.4ｇを臭
化水素−酢酸溶液（25％）40mlに加え、室温で３
時間撹拌する。反応後、反応液を減圧濃縮すると
結晶が析出する。この結晶をエーテルで洗浄して
（Ｒ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−ｔ−ブ
チルアミノプロパンのHBr塩4.9ｇが得られる。
（Ｒ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−ｔ−ブ
チルアミノプロパンのHBr塩２ｇをメタノール
10mlに溶かし、この溶液にナトリウムメトキシド
（28％メタノール溶液）2.5ｇを冷却しながら滴下
する。滴下後30分撹拌する。反応後、反応液を減
圧濃縮する。水20mlを加え塩化メチレンで抽出す
る。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。塩化メチレンを減圧留去すると（Ｒ）−
３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパ
ンの液体が得られる。これを全量、塩化メチレン
５mlにとかし、さらに水５ml加えたものに、クロ
ル炭酸エチル0.8ｇを塩化メチレン５mlにとかし
た溶液と炭酸カリウム1.1ｇを水５mlにとかした
溶液を冷却下、同時に滴下し、室温で３時間撹拌
する。反応後、反応液に2N NaOH 10mlを加え
て塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレンを
減圧留去すると（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル
−３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロ
パン1.1ｇの液体を得る。 得られた（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３
−ｔ−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパン
1.0ｇをNaOHでPH12に調製した水溶液に加え、
室温で７時間撹拌する。反応後、反応液に水酸化
ナトリウムを加え、塩化メチレンで抽出する。塩
化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。塩化メチレンを減圧留去すると結晶が得られ
る。これをヘキサンで洗浄し取すると（Ｓ）−
３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−ジヒドロキシプ
ロパンの白色結晶0.65ｇが得られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ２ 参考例２で得られた（Ｒ）−３−イソプロピル
アミノ−１，２−ジヒドロキシプロパン3.0ｇを
ピリジン塩酸塩2.9ｇとピリジン10mlを含む溶液
にとかす。この溶液に冷却下、パラトルエンスル
ホン酸クロライド4.4ｇを塩化メチレン10mlにと
かした溶液を滴下する。５時間室温で撹拌する。
反応後、反応液に炭酸カリウム1.6ｇを水50mlに
して加える。この溶液から過剰のピリジンを減圧
留去した後、炭酸カリウム3.7ｇ加え塩化メチレ
ンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを過で除
いた溶液にｐ−トルエンスルホン酸4.3ｇを加え、
塩化メチレンを減圧留去すると粗（Ｒ）−１，２
−ジヒドロキシ−３−イソプロピルアミノプロパ
ン−１−ｐ−トルエンスルホナートのｐ−トルエ
ンスルホン酸塩9.4ｇが得られる。次に、この塩
をイソプロピルアルコールで再結して得た塩の一
部5.8ｇをメタノール50mlにとかし、この溶液に
ナトリウムメトキシド（28％メタノール溶液）
5.2ｇを冷却しながら滴下する。滴下後30分撹拌
する。反応後、反応液を減圧濃縮する。水50mlを
加え、塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化メチレ
ンを減圧留去すると（Ｒ）−３−イソプロピルア
ミノ−１，２−エポキシプロパンの液体が得られ
る。これを全量、塩化メチレン10mlにとかし、さ
らに水10ml加えたものに、クロル炭酸エチル1.8
ｇを塩化メチレン10mlにとかした溶液と炭酸カリ
ウム2.2ｇを水10mlにとかした溶液を、冷却下、
同時に滴下し、室温で３時間撹拌する。反応後、
反応液に2N NaOH 20ml加えて塩化メチレンで
抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると、
（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３−イソプロピ
ルアミノ−１，２−エポキシプロパンの液体を
1.8ｇ得る。 得られた（Ｒ）−Ｎ−エトキシカルボニル−３
−イソプロピルアミノ−１，２−エポキシプロパ
ン1.0ｇをNaOHでPH12に調整した水溶液に加え、
室温で６時間撹拌する。反応後、反応液に水酸化
ナトリウムを加え、塩化メチレンで抽出する。塩
化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。塩化メチレンを減圧留去すると液体0.65ｇを
得る。このものを、さらに蒸留により精製すると
（Ｓ）−３−イソプロピルアミノ−１，２−ジヒド
ロキシプロパンの液体0.58ｇを得る。 〔ａ〕20 D＝−33.9°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ３ 参考例１と同様にして得られる（Ｒ）−Ｎ−エ
トキシカルボニル−３−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−エポキシプロパン1.0ｇを水10mlに加え48時
間室温で撹拌する。反応後、反応液に水酸化ナト
リウムを加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチ
レン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。塩化
メチレンを減圧留去する結晶が得られる。これを
ヘキサンで洗浄し取すると（Ｓ）−３−ｔ−ブ
チルアミノ−１，２−ジヒドロキシプロパンの白
色結晶0.65ｇが得られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ４ 実施例１と同様にして得られる（Ｒ）−Ｎ−エ
トキシカルボニル−３−ｔ−ブチルアミノ−１，
２−エポキシプロパン1.0ｇを0.01N K2CO3 20
mlに加え、10時間室温で撹拌する。反応後、反応
液に水酸化ナトリウムを加え塩化メチレンで抽出
する。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。塩化メチレンを減圧留去すると結晶が
得られる。これをヘキサンで洗浄し取すると
（Ｓ）−３−ｔ−ブチルアミノ−１，２−ジヒドロ
キシプロパンの白色結晶0.60ｇが得られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl） 実施例 ５ 実施例１と同様にして得られた（Ｒ）−３−ｔ
−ブチルアミノ−１，２−エポキシプロパン1.0
ｇをアセトン５mlにとかし、さらに水５mlを加え
たものにクロル炭酸エチル0.8ｇをアセトン５ml
にとかした溶液と、炭酸カリウム1.1ｇを水５ml
にとかした溶液を、冷却下、同時に滴加し、室温
で12時間撹拌する。反応後、反応液からアセトン
を減圧留去し、水酸化ナトリウムを加え、塩化メ
チレンで抽出する。塩化メチレン層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。塩化メチレンを減圧留去
すると結晶が得られる。これをヘキサンで洗浄
し、取すると（Ｓ）−３−ｔブチルアミノ−１，
２−ジヒドロキシプロパンの白色結晶0.7ｇが得
られる。 〔ａ〕20 D＝−31°（Ｃ＝１，1N HCl）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（） （式中、※は不斉炭素を示す。R1は炭素数１
〜４の低級アルキル基を示す。） で表わされる光学活性アミノプロパンジオール類
をHBr−酢酸と反応させた後、またはｐ−トル
エンスルホニルクロリドで光学活性のトシレート
体に誘導した後、塩基でエポキシ誘導体に変換
し、ついでクロル炭酸化合物により該エポキシ誘
導体のアミノ基をカルバメート基にして、一般式
（） （式中、※は不斉炭素を示す。R1は前記に同
じ、R2は炭素数１〜４の低級アルキル基または
ベンジル基を示す。） で表わされる光学活性のエポキシ化合物に誘導
し、次いで水あるいは塩基性水溶液と反応させる
ことを特徴とする、一般式（） （式中、※およびR1は前記と同じ） で表わされる光学活性アミノプロパンジオール類
に立体配置を反転する方法。 ２ R1がイソプロピル基、又はｔ−ブチル基で
ある特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ R2がメチル基、又はエチル基である特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ４ 反転の際の溶媒が水である特許請求の範囲第
１項記載の方法。 ５ 塩基性水溶液の塩基が無機塩基である特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ６ 無機塩基が水酸化アルカリ又は炭酸アルカリ
である特許請求の範囲第５項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19954183A JPS6092248A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19954183A JPS6092248A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092248A JPS6092248A (ja) | 1985-05-23 |
| JPH0480896B2 true JPH0480896B2 (ja) | 1992-12-21 |
Family
ID=16409537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19954183A Granted JPS6092248A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アミノプロパンジオ−ル類の立体配置の反転方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092248A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004070045A1 (ja) * | 2003-02-10 | 2006-05-25 | 日清ファルマ株式会社 | 光学活性な６−ホルミル−１，４−ベンゾジオキシン−２−カルボン酸誘導体の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-25 JP JP19954183A patent/JPS6092248A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6092248A (ja) | 1985-05-23 |
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