JPH0482155B2 - - Google Patents

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JPH0482155B2
JPH0482155B2 JP8504285A JP8504285A JPH0482155B2 JP H0482155 B2 JPH0482155 B2 JP H0482155B2 JP 8504285 A JP8504285 A JP 8504285A JP 8504285 A JP8504285 A JP 8504285A JP H0482155 B2 JPH0482155 B2 JP H0482155B2
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JP
Japan
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optically active
cyclopentenone
hydroxy
general formula
formula
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JP8504285A
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English (en)
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JPS61243086A (ja
Inventor
Masayoshi Minamii
Juji Ueda
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式() (式中、R1はアルキル基またはベンジル基、
※印は不斉炭素原子を示し、3a,6aはシス配位
を示す。) で示される光学活性シクロペンテノン誘導体およ
びその製造法に関する。
上記一般式()で示される光学活性シクロペ
ンテノン誘導体はプロスタグランデインの原料化
合物などとして重要な化合物であり、たとえば上
記光学活性シクロペンテノン誘導体を加水分解し
て得られる4(R)−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノンはPGE2,PGF2〓などの原料として利用され
ている。
従来、かかる光学活性4−ヒドロキシ−2−シ
クロペンテノンを得るための化合物としては式 で示されるラクトン化合物が知られ、その製法に
ついても特開昭57−159777号公報に以下の方法が
知られている。
しかしながら、この方法は原料のヒドロキシラ
クトン類である(1R,5S)−6,6−ジメチル−
4−ヒドロキシ−3−オキサビシクロ〔3,1,
0〕ヘキサン−2−オンが(+)−菊酸から数工
程を経て製造しなければならないうえ、安定性に
も問題があり、回収、再使用が容易でない等工業
的に実施するうえで必ずしも有利でない点があつ
た。
このようなことから、本発明者らは上記欠点が
なく、取扱いにも容易で、かつ安価な化合物を原
料とした、特に光学活性4−ヒドロキシ−2−シ
クロペンテノンを得るに有用な化合物について研
究した結果、前記一般式()で示される光学活
性シクロペンテノン誘導体を見出すに至つた。
かかる一般式()で示される光学活性シクロ
ペンテノン誘導体は、本発明者らによつて初めて
合成された新規化合物であり、式 で示される4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノ
ンと一般式() (式中、R1はアルキル基またはベンジル基、
※印は不斉炭素原子を示し、3a,6aはシス配位
を示す。) で示される光学活性ヒドロキシラクトン類を脱水
触媒の存在下に反応させて、縮合体をジアステレ
オマーとして得、次いでこれを分離することによ
り製造することができる。
ここで、4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノ
ンは、たとえば特開昭57−62236号公報に記載の
方法などによつて、フルフリルアルコールから容
易に得られる。
また、他の原料である一般式()で示される
光学活性ヒドロキシラクトン類は、たとえば特公
昭49−29198号公報に記載の方法に準じて容易に
合成することができる。
この反応において、4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンテノンの使用量は光学活性ヒドロキシラク
トン類に対して1〜3倍当量好ましくは1.1〜2.5
倍当量である。
この反応において用いられる脱水触媒として
は、たとえば強酸性イオウ交換樹脂、パラトルエ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、カンフアースルホン酸、硫酸、塩酸、リ
ン酸、ポリリン酸、ホウ酸、酸性亜硫酸カリなど
の無機酸、有機酸またはそのピリジン塩などが挙
げられる。
かかる触媒の使用量は4−ヒドロキシ−2−シ
クロペンテノンに対して0.01〜0.5倍当量、好ま
しくは0.05〜0.8倍当量の範囲である。
この反応で用いられる溶媒は、ベンゼン、トル
エン、キシレン、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、メチルエチルケトン、クロロホルム、クロル
ベンゼン等反応に不活性であれば特に制限なく用
いることができる。しかしながら、副性する水を
系外へ除き、反応を促進させるという面からは共
沸にて水を除去できるベンゼン、トルエン、キシ
レン等の水と共沸する溶媒が好ましい。
反応温度は、通常20〜150℃、好ましくは40〜
120℃である。
反応時間は種々の条件により変わり、何ら制限
されないが、一般的には2〜7時間である。
かかる反応により、4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンテノンと光学活性ヒドロキシラクトン類の
縮合物であるジアステレオマーが得られ、このジ
アステレオマーからそれぞれの光学活性を分離す
ることにより、一般式()で示される光学活性
シクロペンテノン誘導体を得ることができる。
かかる分離法としては、蒸留法、晶析法、クロ
マトグラフイー法などが適用されるが、適当な溶
媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー、ドライカラムクロマトグラフイー、アルミナ
カラムクロマトグラフイー、液体クロマトグラフ
イーなどのクロマトグラフイー法が好ましく、特
に回収率の面からカラムクロマトグラフイーが好
ましい。
このような分離によつて、一般式()で示さ
れる光学活性シクロペンテノン誘導体が容易に収
率よく得られ、かかる光学活性シクロペンテノン
誘導体は、たとえばこれを加水分解し、光学活性
4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノンを得るこ
とができる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 1 撹拌装置、温度計および共沸脱水装置を装着し
た4ツ口フラスコに、4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンテノン2.94g(30ミリモル)、l−(3aS,
6aR)ヘキサヒドロ−6−ヒドロキシ−1,3−
ビス(フエニルメチル)−1H−フロ〔3.4−d〕
イミダゾール−2,4−ジオン(−a)6.76g
(20ミリモル)、パラトルエンスルホン酸0.08gお
よびベンゼン40mlを仕込み、昇温して還流させ
る。
生成する水を共沸にて反応系外へ取り出しなが
ら4時間反応させる。反応終了後、反応混合物を
5%重ソウ水および水にて順次洗浄後、有機層を
減圧下に濃縮し、粗油状物を得る。
次に、上記混合物を酢酸エチル:ヘキサン−
3:7の混合溶液を用い、シリカゲルカラムクロ
マトグラフイーにて精製する。
この分離操作によりジアステレオマーがそれぞ
れ得られる。それぞれのジアステレオマーは適宜
再結晶して精製される。(3aS,6aR)−ヘキサヒ
ドロ−6−〔1(S)−4−オキソ−2−シクロペン
テニルオキシ〕−1,3−ビス(フエニルメチル)
−1H・フロ〔3.4−d〕イミダゾール−2,4−
ジオン 収 量 2.92g n20 D 1.5204 α〕20 D −42.1゜(c−1,メタノール) (3aS,6aR)−ヘキサヒドロ−6−(1(R)−4
−オキソ−2−シクロペンテニルオキシ〕−1,
3−ビス(フエニルメチル)−1H−フロ〔3,4
−d〕イミダゾール−2,4−ジオン 収 量 2.96g m.p.119〜121℃(ヘキサン:酢酸エチル=1:
1の混合溶液より再結晶) α〕20 D +86.2゜(c=1,メタノール) 実施例 2 実施例1で用いたと同様の装置に、4−ヒドロ
キシ−2−シクロペンテノン3.92g(40ミリモ
ル),(3aR,6aS)−ヘキサヒドロ−6−ヒドロキ
シ−1,3−ビス(フエニルメチル)−1H−フロ
〔3,4−d〕イミダゾール−2,4−ジオン
(−b)6.76g、パラトルエンスルホン酸ピリ
ジン塩1gおよびトルエン40mlを仕込み、減圧下
30〜90℃にて共沸脱水する。反応時間は6時間を
要する。反応終了後、反応混合物を、水,5%重
ソウ水,水にて順次洗浄する。得られる有機層は
減圧下に濃縮し、粗油状物を得る。
次に上記混合物を酢酸エチル;ヘキサン=3;
7の混合溶液を用い、シリカゲルカラムクロマト
グラフイーにて精製する。
この分離操作によりジアステレオマーがそれぞ
れ得られる。それぞれのジアステレオマーは適
宜、再結晶して精製される。
(3aR,6aS)−ヘキサヒドロ−6−〔1(R)−4
−オキソ−2−シクロペンテニルオキシ〕−1,
3−ビス(フエニルメチル)−1H−フロ〔3,4
−d〕イミダゾール−2,4−ジオン 収 量 2.89g n20 D 1.5216 α〕20 D +43.3゜(c=1,メタノール) (3aR,6aS)−ヘキサヒドロ−6−〔1(S)−4
−オキソ−2−シクロペンテニルオキシ〕−1,
3−ビス(フエニルメチル)−1H−フロ〔3,4
−d〕イミダゾール−2,4−ジオン 収 量 2.91g m.p.121〜3℃(ヘキサン:酢酸エチル=1:
1の混合溶液より再結晶) α〕20 D −90.1゜(c=1,メタノール)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1はアルキル基またはベンジル基を、
    ※印は不斉炭素原子を示し、3a,6aはシス配位
    を示す。) で示される光学活性シクロペンテノン誘導体。 2 4−ヒドロキシ−2−シクロペンテノンと一
    般式 (式中、R1はアルキル基またはベンジル基を、
    ※印は不斉炭素原子を示し、3a,6a、はシス配
    位を示す。) で示される光学活性ヒドロキシラクトン類を脱水
    触媒の存在下に反応させて、縮合体をジアステレ
    オマーとして得、次いでこれを分離することを特
    徴とする一般式 (式中、R1は前記と同じ意味であり、※印は
    不斉炭素原子を示し、3a,6aはシス配位を示
    す。) で示される光学活性シクロペンテノン誘導体の製
    造法。
JP8504285A 1985-04-19 1985-04-19 光学活性シクロペンテノン誘導体およびその製造法 Granted JPS61243086A (ja)

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JPS61243086A JPS61243086A (ja) 1986-10-29
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