JPH0483557A - 光硬化性樹脂皮膜の形成方法 - Google Patents
光硬化性樹脂皮膜の形成方法Info
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- JPH0483557A JPH0483557A JP19846590A JP19846590A JPH0483557A JP H0483557 A JPH0483557 A JP H0483557A JP 19846590 A JP19846590 A JP 19846590A JP 19846590 A JP19846590 A JP 19846590A JP H0483557 A JPH0483557 A JP H0483557A
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 8
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 claims description 8
- ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 1-(6-hydroxy-6-methylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1C=CC=CC1(C)O ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、スピンコーティングによって光硬化性樹脂の
厚さが均一な皮膜を被コーティング材面に、特に表面が
凹凸面に形成されている被コーティング材面に光硬化性
樹脂皮膜を均一な厚さに形成する方法に関するものであ
る。
厚さが均一な皮膜を被コーティング材面に、特に表面が
凹凸面に形成されている被コーティング材面に光硬化性
樹脂皮膜を均一な厚さに形成する方法に関するものであ
る。
[従来の技術]
従来、光硬化性樹脂を基材にスピンコーティングする場
合は、基材が回転される前、あるいは回転中に光硬化性
樹脂を基材上に滴下して基材面に前記光硬化性樹脂の原
液を塗布したのち、前記基材の回転を終了停止してから
前記基材のコーティング面に光を照射することにより光
硬化性樹脂の硬化を行い皮膜を形成していた。
合は、基材が回転される前、あるいは回転中に光硬化性
樹脂を基材上に滴下して基材面に前記光硬化性樹脂の原
液を塗布したのち、前記基材の回転を終了停止してから
前記基材のコーティング面に光を照射することにより光
硬化性樹脂の硬化を行い皮膜を形成していた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、第4図に示すように被コーティング材の
表面が凹凸面に形成されている場合、基材の回転が減速
し始めてから光硬化性樹脂の原液の硬化が完全に終了し
て光硬化性樹脂皮膜が形成されるまでの間に、前記光硬
化性樹脂4の原液が凸部から凹部へ流れ込んでしまい、
第4図に示すように凹部がほぼ埋められた状態になり被
コーティング材の表面形状に沿った皮膜が形成できない
という欠点があった。
表面が凹凸面に形成されている場合、基材の回転が減速
し始めてから光硬化性樹脂の原液の硬化が完全に終了し
て光硬化性樹脂皮膜が形成されるまでの間に、前記光硬
化性樹脂4の原液が凸部から凹部へ流れ込んでしまい、
第4図に示すように凹部がほぼ埋められた状態になり被
コーティング材の表面形状に沿った皮膜が形成できない
という欠点があった。
本発明は上述した問題点を解決するためになされたもの
であって、基材の凹凸に沿った均一な光硬化性樹脂皮膜
の形成が可能なスピンコーティング皮膜形成方法を提供
することを目的とするものである。
であって、基材の凹凸に沿った均一な光硬化性樹脂皮膜
の形成が可能なスピンコーティング皮膜形成方法を提供
することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、被コーティング材の面上にスピンコーティン
グによって光硬化性樹脂皮膜を形成する工程において、
前記光硬化性樹脂皮膜を形成するための原液を回転中の
前記被コーティング材面上に塗布したのち、前記被コー
ティング材が回転中に光照射を行い、前記光硬化性樹脂
皮膜の光硬化を行うことを特徴とする光硬化性樹脂皮膜
の形成方法を要旨とするものである。
グによって光硬化性樹脂皮膜を形成する工程において、
前記光硬化性樹脂皮膜を形成するための原液を回転中の
前記被コーティング材面上に塗布したのち、前記被コー
ティング材が回転中に光照射を行い、前記光硬化性樹脂
皮膜の光硬化を行うことを特徴とする光硬化性樹脂皮膜
の形成方法を要旨とするものである。
[作用]
光硬化性樹脂皮膜を形成するための原液を回転中の被コ
ーティング材面上に塗布した後、被コーティング材が回
転中に光照射を行なうために、均一な膜厚を保持したま
まの状態で光硬化が進み、基材に凹凸があっても凹凸に
沿った均一な光硬化樹脂皮膜を形成することができる。
ーティング材面上に塗布した後、被コーティング材が回
転中に光照射を行なうために、均一な膜厚を保持したま
まの状態で光硬化が進み、基材に凹凸があっても凹凸に
沿った均一な光硬化樹脂皮膜を形成することができる。
[実施例]
以下、本発明の一実施例について図面を参照して詳細に
説明する。第1図において、被コーティング材としての
ポリスチレン製の板1には深さ100μm、幅100μ
mの溝6が形成されている。
説明する。第1図において、被コーティング材としての
ポリスチレン製の板1には深さ100μm、幅100μ
mの溝6が形成されている。
このポリスチレン板1をスピンコーター(商品名:ミカ
サスビンナーIH−DS型)の回転軸2に固定し、回転
させながら反応開始剤(商品名:工RUGACURE−
907)を1%添加した光硬化性樹脂(商品名:アロニ
ックスM−310、東亜合成化学製)4を、上記溝6が
形成されている板1の被コーティング面7上にスポイト
3で滴下する。回転は8000 rpmで1分30秒行
うが、回転開始直後に反応開始剤を添加した光硬化性樹
脂の原液の滴下を開始し、最初の30秒が経過したのち
、被コーティング面上に紫外線の照射を開始し、1分間
照射して光硬化性樹脂の硬化を行ったのち、スピンコー
ターの回転を停止する。
サスビンナーIH−DS型)の回転軸2に固定し、回転
させながら反応開始剤(商品名:工RUGACURE−
907)を1%添加した光硬化性樹脂(商品名:アロニ
ックスM−310、東亜合成化学製)4を、上記溝6が
形成されている板1の被コーティング面7上にスポイト
3で滴下する。回転は8000 rpmで1分30秒行
うが、回転開始直後に反応開始剤を添加した光硬化性樹
脂の原液の滴下を開始し、最初の30秒が経過したのち
、被コーティング面上に紫外線の照射を開始し、1分間
照射して光硬化性樹脂の硬化を行ったのち、スピンコー
ターの回転を停止する。
このような工程によってスピンコーティングを行った結
果、ポリスチレン板1の被コーティング面7上に、溝6
にもほぼ均一の厚さに光硬化性樹脂皮膜5が形成された
(第2図)。
果、ポリスチレン板1の被コーティング面7上に、溝6
にもほぼ均一の厚さに光硬化性樹脂皮膜5が形成された
(第2図)。
[発明の効果]
以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、光硬化性樹脂の原液が被コーティング材が回転中に塗
布され、しかも回転中に光照射によって硬化されるので
、被コーティング面が凹凸面に形成されていても、従来
のスピンコーティングのように樹脂原液が凹部に貯まっ
てがら光照射により硬化することが防止できるので、凹
凸の形状に沿ってほぼ均一の厚さを有する光硬化性樹脂
皮膜を形成することが可能である。
、光硬化性樹脂の原液が被コーティング材が回転中に塗
布され、しかも回転中に光照射によって硬化されるので
、被コーティング面が凹凸面に形成されていても、従来
のスピンコーティングのように樹脂原液が凹部に貯まっ
てがら光照射により硬化することが防止できるので、凹
凸の形状に沿ってほぼ均一の厚さを有する光硬化性樹脂
皮膜を形成することが可能である。
また、本発明は迷光のない光導波路の成形工程に実施す
ることができる。その実施例について第3図で説明する
。
ることができる。その実施例について第3図で説明する
。
まず、第3図(a)に示す溝形状を有し不透明材料によ
り形成された基材11の溝部12を有する面に光硬化性
樹脂被膜を形成するための原液例えば上記アロニックス
M−310をスピンコーティングし、回転中に光照射を
行ない光硬化を行なって、薄く均一な膜厚の低屈折率の
透光性材料層13を形成し[第3図(b)]、次に基材
11の溝部に高屈折率の透光性材料(光硬化性樹脂)
14例えばアロニックスM−210を注入した後、光を
照射して、透光性材料14を硬化させ、コアを形成させ
る[第3図(C)1゜次いで、コア材の形成された基材
11のコア側の平面に低屈折率の透光性材料15をスプ
レーコート法、スピンコード法等の方法により塗布する
[第3図(d月。透光性材料13とは同一の材料かまた
は近似した屈折率を有する材料である。
り形成された基材11の溝部12を有する面に光硬化性
樹脂被膜を形成するための原液例えば上記アロニックス
M−310をスピンコーティングし、回転中に光照射を
行ない光硬化を行なって、薄く均一な膜厚の低屈折率の
透光性材料層13を形成し[第3図(b)]、次に基材
11の溝部に高屈折率の透光性材料(光硬化性樹脂)
14例えばアロニックスM−210を注入した後、光を
照射して、透光性材料14を硬化させ、コアを形成させ
る[第3図(C)1゜次いで、コア材の形成された基材
11のコア側の平面に低屈折率の透光性材料15をスプ
レーコート法、スピンコード法等の方法により塗布する
[第3図(d月。透光性材料13とは同一の材料かまた
は近似した屈折率を有する材料である。
このようにして得られる光導波路では低屈折率の透光性
材料13.15がクラッドとして、高屈折率の透光性材
料14がコアとして働き、かつ、クラッドの幅をコア材
の幅に比べて十分に小さくすることができ、しかも、コ
アとコアの間を不透明材料で仕切ることができるのでク
ラッド部を伝搬する迷光を無視できるほど小さ(抑える
ことが可能になる。
材料13.15がクラッドとして、高屈折率の透光性材
料14がコアとして働き、かつ、クラッドの幅をコア材
の幅に比べて十分に小さくすることができ、しかも、コ
アとコアの間を不透明材料で仕切ることができるのでク
ラッド部を伝搬する迷光を無視できるほど小さ(抑える
ことが可能になる。
第1図は本発明の光硬化性樹脂皮膜の形成方法を示す説
明図、第2図は本発明の方法で光硬化性樹脂皮膜を形成
した場合の断面図、第3図(a)。 (b) 、 (c) 、 (d)は本発明の方法を適用
して光導波路を形成する工程を示す断面図、第4図は従
来の方法でスピンコーティングした場合の断面図である
。
明図、第2図は本発明の方法で光硬化性樹脂皮膜を形成
した場合の断面図、第3図(a)。 (b) 、 (c) 、 (d)は本発明の方法を適用
して光導波路を形成する工程を示す断面図、第4図は従
来の方法でスピンコーティングした場合の断面図である
。
Claims (2)
- (1)被コーティング材の面上にスピンコーティングに
よって光硬化性樹脂皮膜を形成する工程において、前記
光硬化性樹脂皮膜を形成するための原液を回転中の前記
被コーティング材面上に塗布したのち、前記被コーティ
ング材が回転中に光照射を行い、前記光硬化性樹脂皮膜
の光硬化を行うことを特徴とする光硬化性樹脂皮膜の形
成方法。 - (2)前記被コーティング材の被コーティング面が凹凸
面であることを特徴とする請求項1記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19846590A JPH0483557A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 光硬化性樹脂皮膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19846590A JPH0483557A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 光硬化性樹脂皮膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0483557A true JPH0483557A (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=16391562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19846590A Pending JPH0483557A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 光硬化性樹脂皮膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0483557A (ja) |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP19846590A patent/JPH0483557A/ja active Pending
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