JPH048478A - ダイヤモンド研磨フィルム - Google Patents
ダイヤモンド研磨フィルムInfo
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- JPH048478A JPH048478A JP11036390A JP11036390A JPH048478A JP H048478 A JPH048478 A JP H048478A JP 11036390 A JP11036390 A JP 11036390A JP 11036390 A JP11036390 A JP 11036390A JP H048478 A JPH048478 A JP H048478A
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Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明はエレクトロニクス部品、薄１１Ｈａ気ヘッド基
板の如きセラミック材料の最終研磨に使用されるダイヤ
モンド研磨フィルムに関し、詳しくは本発明は、プラス
チック支持体上にダイヤモンド研磨層を形成したダイヤ
モンド研磨フィルムに関する。
板の如きセラミック材料の最終研磨に使用されるダイヤ
モンド研磨フィルムに関し、詳しくは本発明は、プラス
チック支持体上にダイヤモンド研磨層を形成したダイヤ
モンド研磨フィルムに関する。
［従来技術の説明］
情報記録容量の増大と高速化システム技術の進歩とに伴
い、フェライトヘッドと比較して高い透磁率を有し且つ
高い転送速度でも高電磁変換率を維持することの出来る
薄膜ヘッドに対する要求が高まっている。
い、フェライトヘッドと比較して高い透磁率を有し且つ
高い転送速度でも高電磁変換率を維持することの出来る
薄膜ヘッドに対する要求が高まっている。
薄膜ヘッド化が進むにつれて各種セラミックス基板材料
が必要となってきている。ＳｉＣ、Ｚｒ０ｚ、Ａ１２０
１ 、Ａｌ２Ｏｍ−ＴｉＣ等のセラミックの研磨にはダ
イヤモンドのような超砥粒が使用される。特に薄膜ヘッ
ド用基板はその表面に薄膜パターンを形成するため、平
面度及び表面粗度も重要であるが、表面に被着される薄
膜の諸物性を維持向上するような加工法を用いる必要性
がある。即ち、微細なダイヤモンド砥粒を使用したダイ
ヤモンド研磨フィルムによる加工が必要となってくる。
が必要となってきている。ＳｉＣ、Ｚｒ０ｚ、Ａ１２０
１ 、Ａｌ２Ｏｍ−ＴｉＣ等のセラミックの研磨にはダ
イヤモンドのような超砥粒が使用される。特に薄膜ヘッ
ド用基板はその表面に薄膜パターンを形成するため、平
面度及び表面粗度も重要であるが、表面に被着される薄
膜の諸物性を維持向上するような加工法を用いる必要性
がある。即ち、微細なダイヤモンド砥粒を使用したダイ
ヤモンド研磨フィルムによる加工が必要となってくる。
しかしながら、従来から使用されているダイヤモンドフ
ィルムでは研磨面粗度及び加工形状精度に与え得る効果
は共に不十分であり、またこうした加工法は量線仕上げ
工程であることから、粒度分布がブロードであったり或
は研粒が凝集している場合は加工表面にスクラッチ（正
常な研磨すじとは異なる深いすじ）等のダメージを与え
る恐れがあり、また研磨フィルムの腰が強過ぎる（一般
にＥＴ” ＝ ｌＸｌ０’ （ｕｍ ）”ｋｇ／ｍｍ２
以上）場合は、研磨フィルム及び被研磨物間の密着性が
悪化し加工面が不均一となるといった問題があった。
ィルムでは研磨面粗度及び加工形状精度に与え得る効果
は共に不十分であり、またこうした加工法は量線仕上げ
工程であることから、粒度分布がブロードであったり或
は研粒が凝集している場合は加工表面にスクラッチ（正
常な研磨すじとは異なる深いすじ）等のダメージを与え
る恐れがあり、また研磨フィルムの腰が強過ぎる（一般
にＥＴ” ＝ ｌＸｌ０’ （ｕｍ ）”ｋｇ／ｍｍ２
以上）場合は、研磨フィルム及び被研磨物間の密着性が
悪化し加工面が不均一となるといった問題があった。
〔発明の目的１
そこで本発明の主たる目的は、薄膜ヘッド基板研磨に於
て、被研磨物に損傷を与えることなく研磨面形状及び仕
上げ面粗さを正確に制御することの出来る精密ダイヤモ
ンドフィルムを提供することにある。
て、被研磨物に損傷を与えることなく研磨面形状及び仕
上げ面粗さを正確に制御することの出来る精密ダイヤモ
ンドフィルムを提供することにある。
本発明の他の目的は、研磨フィルムの被研磨物に対する
摺接面積を増大させ研磨効果を高めることである。
摺接面積を増大させ研磨効果を高めることである。
［発明の概要及び作用効果］
本発明によれば、プラスチック支持体上にダイヤモンド
研磨層を形成して成る研磨フィルムに於て、該研磨フィ
ルムの全厚をＴとし、ヤング率をＥとして定義される研
磨フィルムの腰の強さの指標であるスティフネスＥＴ”
が、 ＥＴ” ＝Ｉ Ｘ １０’ （１ｔｍ ）”ｋｇ／ｍｍ
”±２００００を満足し、且つ使用されるダイヤモンド
粒子の平均粒子径が１ＬＬＩ１１以下であることを特徴
とするダイヤモンド研磨フィルムが提供される。プラス
チック支持体としては通常のベースとして使用される、
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリエステル等によって作製したものを使用
し得る。
研磨層を形成して成る研磨フィルムに於て、該研磨フィ
ルムの全厚をＴとし、ヤング率をＥとして定義される研
磨フィルムの腰の強さの指標であるスティフネスＥＴ”
が、 ＥＴ” ＝Ｉ Ｘ １０’ （１ｔｍ ）”ｋｇ／ｍｍ
”±２００００を満足し、且つ使用されるダイヤモンド
粒子の平均粒子径が１ＬＬＩ１１以下であることを特徴
とするダイヤモンド研磨フィルムが提供される。プラス
チック支持体としては通常のベースとして使用される、
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリエステル等によって作製したものを使用
し得る。
本発明のダイヤモンド研磨フィルムは上記構成によって
前記目的を達成しそれにより前記従来技術の問題を解決
する作用効果を奏する。
前記目的を達成しそれにより前記従来技術の問題を解決
する作用効果を奏する。
［実施例の説明］
本発明の１実施例におけるダイヤモンド研磨フィルムは
、ダイヤモンド砥粒：ウレタン系樹脂：メチルエチルケ
トン／トルエンが１００：２０：１００である塗料組成
を使用して形成される。上記組成に於゛て、ダイヤモン
ド砥粒径は一般に１．０μｍ以下の範囲のものが好都合
に使用され得る。該範囲は、ダイヤモンド砥粒径を０〜
１．５μｍの範囲で５ｉＣ１ＺｒＯ□、Ａ１□０ｎ−Ｔ
ｉＣを被研削物として研削加工する予備検査を実施した
結果、１，０μｍを越える範囲に於ては加工面にスクラ
ッチが生じ易いこと及び１．０μｍ以下ではスクラッチ
の問題が無く、−様な研磨すじが生じることが判明した
こと、によって画定されたものである。
、ダイヤモンド砥粒：ウレタン系樹脂：メチルエチルケ
トン／トルエンが１００：２０：１００である塗料組成
を使用して形成される。上記組成に於゛て、ダイヤモン
ド砥粒径は一般に１．０μｍ以下の範囲のものが好都合
に使用され得る。該範囲は、ダイヤモンド砥粒径を０〜
１．５μｍの範囲で５ｉＣ１ＺｒＯ□、Ａ１□０ｎ−Ｔ
ｉＣを被研削物として研削加工する予備検査を実施した
結果、１，０μｍを越える範囲に於ては加工面にスクラ
ッチが生じ易いこと及び１．０μｍ以下ではスクラッチ
の問題が無く、−様な研磨すじが生じることが判明した
こと、によって画定されたものである。
本発明のダイヤモンド研磨フィルムは上記の如く１．０
μｍ以下のダイヤモンド砥粒径を使用し、更に、研磨フ
ィルムの全厚をＴ、ヤング率をＥとして定義される研磨
フィルムの腰の強さの指標であるスティフネス（ＥＴ”
）が、 ｌＸｌ０’（μＩＩｌ）１ｋｇ／ｍｍ”±２
００００を満足するものが使用される。
μｍ以下のダイヤモンド砥粒径を使用し、更に、研磨フ
ィルムの全厚をＴ、ヤング率をＥとして定義される研磨
フィルムの腰の強さの指標であるスティフネス（ＥＴ”
）が、 ｌＸｌ０’（μＩＩｌ）１ｋｇ／ｍｍ”±２
００００を満足するものが使用される。
詳しくは、本件出願人は４．０から１０．０μｍの範囲
の全厚を有するダイヤモンド研磨フィルムをその耐久性
及び研磨面の均一性に関して評価する実験を実施し、そ
の結果、以下の４つの全厚のものが何れも前記耐久性及
び研磨面の均一性に於て共に優れていると総合評価し得
ることを見出した。
の全厚を有するダイヤモンド研磨フィルムをその耐久性
及び研磨面の均一性に関して評価する実験を実施し、そ
の結果、以下の４つの全厚のものが何れも前記耐久性及
び研磨面の均一性に於て共に優れていると総合評価し得
ることを見出した。
そしてこれらの全厚を有するダイヤモンド研磨フィルム
は何れも前記スティフネス値を満足することが確認され
た。
は何れも前記スティフネス値を満足することが確認され
た。
全厚（μｍ）
７．９
８．２
８．５
スティフネス（ＥＴ” ）
１．０１ ＸＩＯ’
９．４５ ＸＩＯ’
１．００ ＸＩＯ＠
１．０１ ＸＩＯ’
また、比較例としてその他全厚値及びスティフネスの場
合の耐久性及び研磨面の均一性の評価結果を示す。
合の耐久性及び研磨面の均一性の評価結果を示す。
全厚 スティフネス 耐久性 研磨面の均一性
４、 Ｏ２，７４Ｘ １０’ 不良５．８ ３
．３６ｘ １０’ 不良６．０ ３．９５ｘ
１０’ 不良６．９ ６．６０Ｘ １０’
不良７、０ ６．７５Ｘ １０’ 不良８．
７ １．２５Ｘ １０’ 良好 不良９．
２ １．４６ｘｌＯ’ 良好 不良１０、
０ ２．０１ ｘ １０’ 良好 不良以
上のように、前記スティフネス値１×１０５（μｒｎ
）”ｋｇ／ｍｍ”±２００’ＯＯを満足しない全厚を有
するものは、耐久性が不良であるか若しくは、耐久性が
良好であっても研磨面の均一性が不良であるという結果
が得られた。
．３６ｘ １０’ 不良６．０ ３．９５ｘ
１０’ 不良６．９ ６．６０Ｘ １０’
不良７、０ ６．７５Ｘ １０’ 不良８．
７ １．２５Ｘ １０’ 良好 不良９．
２ １．４６ｘｌＯ’ 良好 不良１０、
０ ２．０１ ｘ １０’ 良好 不良以
上のように、前記スティフネス値１×１０５（μｒｎ
）”ｋｇ／ｍｍ”±２００’ＯＯを満足しない全厚を有
するものは、耐久性が不良であるか若しくは、耐久性が
良好であっても研磨面の均一性が不良であるという結果
が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、プラスチック支持体上にダイヤモンド研磨層を形成
して成る研磨フィルムに於て、該研磨フィルムの全厚を
Ｔ、ヤング率をＥとして定義される、研磨フィルムの腰
の強さの指標であるスティフネスＥＴ＾３が、ＥＴ＾３
＝１×１０＾５（μｍ）＾３ｋｇ／ｍｍ＾２±２０００
０を満足し、使用されるダイヤモンド粒子の平均粒子径
が１μｍ以下であることを特徴とするダイヤモンド研磨
フィルム。 ２、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリエステル等の支持体上にダイヤモンド研磨層
を形成して成る特許請求の範囲第１項記載のダイヤモン
ド研磨フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110363A JP3045396B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ダイヤモンド研磨フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110363A JP3045396B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ダイヤモンド研磨フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH048478A true JPH048478A (ja) | 1992-01-13 |
| JP3045396B2 JP3045396B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=14533892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2110363A Expired - Lifetime JP3045396B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ダイヤモンド研磨フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3045396B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100357342C (zh) * | 2002-06-14 | 2007-12-26 | 北京国瑞升科技有限公司 | 一种超精密抛光膜及其制造方法 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP2110363A patent/JP3045396B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100357342C (zh) * | 2002-06-14 | 2007-12-26 | 北京国瑞升科技有限公司 | 一种超精密抛光膜及其制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3045396B2 (ja) | 2000-05-29 |
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