JPH0486228U - - Google Patents
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- JPH0486228U JPH0486228U JP13071590U JP13071590U JPH0486228U JP H0486228 U JPH0486228 U JP H0486228U JP 13071590 U JP13071590 U JP 13071590U JP 13071590 U JP13071590 U JP 13071590U JP H0486228 U JPH0486228 U JP H0486228U
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- JP
- Japan
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- magneto
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- disposed below
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- Pending
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- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Description
第１図は本考案の光磁気デイスク用スパツタリ
ング装置の概略図、第２図、第３図は光磁気ター
ゲツトのスパツタ浸食領域を示す説明図である。 １……基板ホルダ、２……基板、３……真空槽
、４……排気口、５……導入口、６……ターゲツ
トホルダ、７……ターゲツト、８……ターンテー
ブル、９……マグネツト。
ング装置の概略図、第２図、第３図は光磁気ター
ゲツトのスパツタ浸食領域を示す説明図である。 １……基板ホルダ、２……基板、３……真空槽
、４……排気口、５……導入口、６……ターゲツ
トホルダ、７……ターゲツト、８……ターンテー
ブル、９……マグネツト。
Claims (1)
- 光磁気デイスク用マグネトロンスパツタリング
装置において、ターゲツト下部に回転するマグネ
ツトを複数個配設したことを特徴とする光磁気デ
イスク用スパツタリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13071590U JPH0486228U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13071590U JPH0486228U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0486228U true JPH0486228U (ja) | 1992-07-27 |
Family
ID=31878032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13071590U Pending JPH0486228U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0486228U (ja) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP13071590U patent/JPH0486228U/ja active Pending
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