JPH0488023A - 球状シリコーン微粒子の製造法 - Google Patents

球状シリコーン微粒子の製造法

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JPH0488023A
JPH0488023A JP20294590A JP20294590A JPH0488023A JP H0488023 A JPH0488023 A JP H0488023A JP 20294590 A JP20294590 A JP 20294590A JP 20294590 A JP20294590 A JP 20294590A JP H0488023 A JPH0488023 A JP H0488023A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は球状シリコーン微粒子の製造法、すなわち形状
が球状であり、その粒度分布が極めて狭いポリメチルシ
ルセスキオキサン微粒子の製造法に関する。
〈従来の技術〉 形状が球状であることを特徴としたポリメチルシルセス
キオキサンの製造法としては、メチルトリアルコキシシ
ランおよび/またはその部分加水分解縮合物とアンモニ
アおよび/またはアミンの水溶液との2層を形成しつつ
、その界面で加水分解・縮合させる方法(特開昭637
7940号公報)がある。
〈発明が解決しようとする課題〉 前記の特開昭63−77940号公報による方法におい
ては、撹拌速度の制御が重要であり、特別な撹拌設備が
必要なこと、界面での反応であり、アルカリとの接触機
会が非常に少ないために反応速度が極端に制限されるこ
と、また、アルカリとして、アンモニアあるいはアミン
類を用いるためにアルカリ強度に限界があり、製造する
球状微粒子の粒子径を高範囲(たとえば、0.1〜20
ILIn)に制御することが難しいことなどの課題が残
されている。
本発明の目的は形状が球状であり、その粒度分布が極め
て狭いポリメチルシルセスキオキサン微粒子を製造する
にあたり、特別な装置を必要とせず、操作が簡単で、し
たがって安価な工業的製造に適した、しかも、粒径を高
範囲にわたって自由に制御できる製造法を提供するもの
である。
〈課題を解決するための手段〉 すなわち、本発明は、メチルトリアルコジキシランおよ
び/またはその部分加水分解縮合物を加水分解・縮合さ
せ、球状シリコーン微粒子を製造するにあたり、あらか
じめメチルトリアルコキシ シランおよび/またはその
部分加水分解縮合物と水とを撹拌し、均一溶液とした後
、アルカリを添加することを特徴とする球状シリコーン
微粒子の製造法であり、また、メチルトリアルコジキシ
ランおよび/またはその部分加水分解縮合物と水とを撹
拌し、均一溶液とした後、アルカリを添加、撹拌し、ア
ルカリを均一に混合した後、撹拌を停止し、静置下に加
水分解・縮合を進行させることを特徴とする球状シリコ
ーン微粒子の製造法である。
本発明における原料のメチルトリアルコキシシランとし
ては、アルコキシ部分が炭素数1乃至4のアルキルのも
のが好適に用いられ、たとえばメチルトリメトキシシラ
ン、メチルジメトキシエトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリ
ブトキシシラン、メチルメトキシジブトキシシランなど
が例示される。
また、部分加水分解縮合物とは、前記のメチルトリアル
コキシシランのアルコキシ基の1部が加水分解、縮合さ
れたものでありそれ自身が液状でありメチルトリアルコ
キシシラン、水、有機溶剤またはこれらの混合液に可溶
性のものである。
これらメチルトリアルコキシシランやその部分加水分解
縮合物は、それぞれ単独であるいは混合物で用いてもよ
く、あるいはメチルトリアルコキシシランをあらかじめ
水または有機溶剤または水と有機溶剤の混合液などと単
に混合させたもの、あるいは溶解し均一溶液としたもの
などを用いることができる。
これらのメチルトリアルコキシシランのうち、入手が容
易なメチルトリメトキシシランが最も好ましく用いられ
る。
メチルトリアルコキシシランは一般にメチルトリクロル
シランから製造され、通常いくらかの塩素が残存してい
る。しかし、本発明の目的に対し残存塩素は何らさまた
げになるものではす<、残存量の多少にかかわらず通常
に用いることが可能である。しかし、アルカリの必要量
を考慮すれば、アルカリを消費する塩素が少ない方が好
ましいことはいうまでもない。
本発明においては、メチルトリアルコキシシランおよび
/またはその部分加水分解縮合物と水とをあらかじめ均
一化させることが重要である。
メチルトリアルコキシシランは元来、加水分解速度は極
めて遅く、容易に水と均一な溶液を形成しない。しかし
、一般には酸またはアルカリが微量に含まれているため
に、あらためて何も添加しなくても比較的短時間に容易
に均一化される場合もある。また、加水分解速度、すな
わち均一化する速度を調整するために新たに触媒を添加
することもできる。
ここで用いられる触媒とは、一般に加水分解・縮合触媒
として広く用いられる酸、塩基およびチタン、スズなど
の有機金属化合物から自由に選ぶことができるが、好ま
しくは酸あるいは塩基である。ただし、縮合触媒の存在
下においては、注意しないとゲル化が進行し、不溶物が
生成しやすくなる。このために、溶解条件(触媒の添加
量、温度、時間)の設定に注意しなければならない。
極微量の酸、あるいはアルカリが存在する通常のメチル
トリアルコキシシランにおいては、温度、時間、そして
撹拌条件などを幅広く選択できる。しかし、この場合も
時間をかけ過ぎれば高粘度オイルやグリース状物が生成
する可能性もあり、通常は10〜15℃の時は20時間
以内、70〜80℃の時は4〜5時間以内が適当な条件
として用いられる。
水に対するメチルトリアルコキシシランおよび/または
その部分加水分解縮合物の添加量についても、本発明の
目的に対しては広い範囲から選ぶことができるが、好ま
しくは水1重量部に対し0.01〜1重量部が用いられ
る。
また、均一化する際、水単独あるいは水と有機溶剤との
混合液を用いることができる。その有機溶剤としては、
たとえば低級アルコール類、ケトン類、エーテル類、エ
ステル類など水によく溶解するものなら使用可能である
。有機溶剤の濃度も特に限定されないが通常30%以下
が好ましい。
本発明においては、上述のごとく均一化した後、アルカ
リを添加し、加水分解・縮合を進行させ、球状シリコー
ン微粒子を生成させるのであるが、ここで用いられるア
ルカリとしては、その水溶液がアルカリ性を示すもので
あればいずれも使用可能である。一般的には周期律表I
a、IIa族金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩、有機窒
素化合物、アンモニアなどが挙げられる。
特に好ましくは苛性ソーダ、苛性カリなどの周期律表I
a族金属水酸化物やエヂレンジアミン、ジエチルアミン
、トリエチルアミンなどの有機窒素化合物、そしてアン
モニアが用いられる。
これらのアルカリは単独で用いても、2種以上を混合し
てもよいし、これらの水溶液あるいは水に可溶性の有機
溶剤、たとえば低級アルコール類、ケトン類、エーテル
類などの混合溶液であっても使用可能である。
本発明において、アルカリ添加量についても特に限定さ
れるものではない。しかし、アルカリ量、すなわちpH
は生成する球状シリコーン微粒子の粒子径に大きな影響
を与える。小さい粒子を得ようとすればpHを高く、大
きい粒子を得ようとすればpHを低くすることで粒子径
の制御が可能となる。したがって、目的とする粒子径に
適したpHを選択すればよい。一般的にはpHが8から
14の間で選ばれる。
アルカリを添加するときまた添加後はアルカリを均一混
合するために当然ながら撹拌を行う。
本発明の方法において、アルカリを添加し、撹拌混合後
、撹拌を続けてもよいが、アルカリが均一に混合された
後撹拌を停止し、静置下に加水分解、縮合を進行させる
ことが生成粒子の粒度分布を狭くし、粒子間の凝集を抑
えることに大きな効果がある。
ただし、静置して加水分解、縮合を進行させた場合、必
然的に生成粒子は沈降し、反応器底部に堆積する。しか
し、粒子の生成が終わった後、通常の撹拌で再スラリー
が可能であり何ら支障はない。
本発明の方法において実施する温度についても特に限定
するものではない。水の凝固点であるO′Cから常圧の
沸点である100℃の範囲から選ぶことができる。また
必要に応じて加圧下に1.00℃以上で反応させてもよ
い。一般的には15℃から80℃がよく用いられる。さ
らに、最初は低温(たとえば10〜15℃)からスター
トシ、徐々に昇温(たとえば80℃)することも可能で
ある。
微粒子化に要する時間は温度との関係もあり、−概に限
定することはできないが、一般的には均一化、アルカリ
添加、静置の合計時間は0.5〜10時間程度である。
このようにして製造した真球状シリコーン微粒子は、こ
の後濾過分離・水洗浄あるいは有機溶剤洗浄するか、酸
性物質を添加して中和後、同様に濾過分離、水洗、ある
いは有機溶剤洗浄して乾燥し、場合によって解砕し微粒
子を得ることができる。
得られた粒子は長径と短径の比が1.1−以下、粒子径
は0.1〜20μs、変動係数は20%以下であり、し
かも粒子間の凝集の少ない球状シリコーン微粒子である
〈実施例〉 以下、本発明の内容を実施例で説明する。
実施例における生成粒子の評価は、走査型電子顕微鏡写
真から粒子50個以上を計測し、平均粒子径(D)〔μ
s〕、長径/短径比、変動係数〔粒径標準偏差σ/平均
粒子径DX100(%)〕を算出した。収率は(メチル
シルセスキオキサン/メチルトリアルコキシシラン)〔
モル%〕で示した。
実施例1 1!四つ日丸底フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート
を取付け、フラスコに水600gを入れ20 Orpm
で撹拌しつつ、オイルノくスにて昇温した。50℃に到
達したところで、メチルトリメトキシシラン(Cf20
.511℃1mを含む)200gを加え、約15分後に
は発熱により55℃まで上昇し、この時点で反応系内は
均一透明溶液となった。メチルトリメトキシシランを添
加してから30分後に、N/1ONaOH水溶液17 
mlを加え、200 +pmで1分間撹拌した後、撹拌
を停止した。50〜55℃に保ち、静置を始めてから2
5分後に反応系内は急に白濁し、微粒子の生成が始まっ
た。4時間後、大部分沈降した微粒子を撹拌により再ス
ラリー化後、1%酢酸水1 mlを添加、中和し、濾過
・水洗・メタノール洗浄を行い、最後に150℃、2時
間オーブンにて乾燥し、白色粉末95gを得た(収率9
7モル%)。走査型電子顕微鏡にて粒径を測定した結果
、平均粒径5.2 IIJIIz長径/短径の比1.0
3、変動係数6.5%の凝集のない球状シリコーン微粒
子であった。
実施例2 11!、四つ日丸底フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロ
ートを取付け、フラスコに水600gを入れ、2001
11mで撹拌しつつ、オイルバスにて昇温した。50℃
到達後、メチルトリメトキシシラン(CI20.5 p
pm ) 40 g加えた。10分後には均一透明溶液
に変化した。メチルトリメトキシシランを添加し、30
分経過後、200rpmで撹拌された均一溶液中に10
重量%苛性ソーダ水溶液21gを全量−括添加した。4
〜5秒で反応系内は白濁した。温度50〜55℃、撹拌
20 Orpmで1時間処理後、10重量%酢酸31.
5gを添加し中和した。濾過、水洗、メタノール洗浄を
行い、150℃、2時間オーブンにて乾燥し、15.0
gの白色粉末を得た(収率76モル%)。
この粉末を走査型電子顕微鏡で観察した結果、平均粒子
径0.5μs、長径/短径比1.05、変動係数15%
の真球状シリコーン微粒子であった。
粒子の凝集は5〜10個凝集しているものが少量見受け
られた程度であった。
実施例3 塩素含有量0.6重量%のメチルトリメトキシシラン4
0g、10%苛性ソーダ水溶液23.7gを用いたこと
以外はすべて実施例2と同様に実施した。
塩酸がメチルトリメトキシシランを加水分解、縮合触媒
として作用し、添加後4分という短時間で均一透明液と
なったこと以外は、実施例2と同様に実施できた。
得られた乾燥粉末は14.8g(収率75モル%)。走
査型電子顕微鏡で観察した結果、平均粒子径0.55μ
、長径/短径比1.03、変動係数17%の真球状シリ
コーン微粒子であった。
実施例4 アルカリとして20重量%エチレンジアミンのメタノー
ル溶液を30g用いたこと以外は、すべて実施例2と同
様に行った。
得られた乾燥粉末は17.6g(収率89モル%)。平
均粒子径0.9LLII+、長径/短径比1.03、変
動係数9%の真球状シリコーン微粒子であった。
比較例1 実施例1と同様の装置を使用し、フラスコに水600g
を入れ、200 +pmで撹拌しツツ、オイルバスにて
昇温した。50℃到達後、メチルトリメトキシシラン(
020,5ppm含有)200g加えた。10分後には
まだ完全に均一化されず、エマルジョン状態であった。
この中にN/ 10 N a OH1,7mlを加え2
0 Orpmで1分間撹拌した後、撹拌を停止し、静置
した。反応系内のエマルジョンは静置により上層と下層
の2層に分離した。
約20分後に下層は白濁が始めり、2層分離していた界
面付近は内壁に粘調なオイル状ゲル化物の付着が認めら
れ、最終的に塊状ゲル化物となった。4時間後に撹拌し
、再スラリー化を行うとともに、内壁や撹拌棒に付着し
た生成物をかき取り、実施例1を同様に後処理を行い、
90g(収率91モル%)の白色粉末を得た。
2〜4μの球状粒子と、不定形塊状物の混合粉末であっ
た。また、N/1ONaOHを添加後4時間200 +
pmで撹拌を続けても同様の結果であった。
〈発明の効果〉 本発明の方法により、長径と短径の比が1.1以下、平
均粒子径が0.1〜201m、変動係数が20%以下で
あり、粒子の凝集が少ない球状シリコーン微粒子の製造
が可能になった。
また、本発明によって得られる微粒子は化粧品、塗料、
接着剤などに添加し、はっ水性、耐熱性、滑り特性など
の向上に効果があり、さらに、樹脂の中に添加して硬化
や熱による収縮、膨張によって生じる応力の緩和剤、吸
収剤などとして有効に利用することができる。また、表
面に染料、紫外線吸収剤などを吸着、結合したり、金属
をメツキすることなどによって新たな機能を付与して利
用することができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)メチルトリアルコキシシランおよび/またはその
    部分加水分解縮合物を加水分解・縮合させ、球状シリコ
    ーン微粒子を製造するにあたり、あらかじめメチルトリ
    アルコキシシランおよび/またはその部分加水分解縮合
    物と水とを撹拌し、均一溶液とした後、アルカリを添加
    することを特徴とする球状シリコーン微粒子の製造法。
  2. (2)メチルトリアルコキシシランおよび/またはその
    部分加水分解縮合物を加水分解・縮合させ、球状シリコ
    ーン微粒子を製造するにあたり、あらかじめメチルトリ
    アルコキシシランおよび/またはその部分加水分解縮合
    物と水とを撹拌し、均一溶液とした後、アルカリを添加
    、撹拌し、アルカリを均一に混合した後、撹拌を停止し
    、静置下に加水分解・縮合を進行させることを特徴とす
    る球状シリコーン微粒子の製造法。
JP20294590A 1990-07-30 1990-07-30 球状シリコーン微粒子の製造法 Granted JPH0488023A (ja)

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Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000178357A (ja) * 1998-12-14 2000-06-27 Ge Toshiba Silicones Co Ltd シリコ―ン微粒子の製造方法
JP2000186148A (ja) * 1998-12-21 2000-07-04 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2003002973A (ja) * 2001-04-18 2003-01-08 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003183395A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003335860A (ja) * 2002-05-20 2003-11-28 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状ポリメチルフェニルシルセスキオキサン微粒子およびその製造方法
JP2004099630A (ja) * 2002-09-04 2004-04-02 Nitto Denko Corp ポリシルセスキオキサン微粒子の製造方法および該製造方法により得られたポリシルセスキオキサン微粒子
WO2004076533A1 (ja) * 2003-02-27 2004-09-10 Ube Nitto Kasei Co., Ltd. ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
JP2004339297A (ja) * 2003-05-14 2004-12-02 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
JP2008088430A (ja) * 2006-09-08 2008-04-17 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
JP2008127564A (ja) * 2006-11-23 2008-06-05 Cheil Industries Inc シリコン系微粒子、その製造方法、及びその微粒子が含有された熱可塑性樹脂組成物
WO2010092890A1 (ja) * 2009-02-10 2010-08-19 綜研化学株式会社 被覆粒子およびその製造方法
JP5061334B2 (ja) * 2004-12-27 2012-10-31 小西化学工業株式会社 ポリシルセスキオキサン微粒子有機溶媒分散液及びその製造方法、並びにポリシルセスキオキサン微粒子水分散液及びその製造方法
EP2639258A1 (en) 2012-03-13 2013-09-18 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable Silicone Resin Composition and Optoelectronic Device
WO2014050255A1 (ja) 2012-09-27 2014-04-03 信越化学工業株式会社 シリコーンミスト抑制剤
WO2014106768A1 (en) 2013-01-03 2014-07-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method
US8822593B2 (en) 2012-06-22 2014-09-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable resin composition, hardened material thereof, and optical semiconductor apparatus
WO2015097675A2 (en) 2013-12-23 2015-07-02 Ticona Gmbh Tribologically modified ultrahigh molecular weight polyethylene
US9105821B2 (en) 2012-12-21 2015-08-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable silicone resin composition, cured product thereof and photosemiconductor apparatus
JP2017071740A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 信越化学工業株式会社 球状ポリオルガノシルセスキオキサン粒子の製造方法
WO2018059670A1 (de) 2016-09-27 2018-04-05 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
WO2018135435A1 (ja) 2017-01-17 2018-07-26 株式会社アマデラスホールディングス ポリオレフィン系ゴム組成物
WO2018149475A1 (de) 2017-02-14 2018-08-23 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
US10196577B2 (en) 2015-09-30 2019-02-05 Celanese Sales Germany Gmbh Low friction squeak free assembly
WO2019086094A1 (de) 2017-10-30 2019-05-09 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
US10662293B2 (en) 2016-10-06 2020-05-26 Wacker Chemie Ag Method for producing spherical polysilsesquioxane particles
JP2020132778A (ja) * 2019-02-21 2020-08-31 株式会社日本触媒 ポリメチルシルセスキオキサン粒子の製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01217039A (ja) * 1988-02-26 1989-08-30 Toshiba Silicone Co Ltd ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01217039A (ja) * 1988-02-26 1989-08-30 Toshiba Silicone Co Ltd ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000178357A (ja) * 1998-12-14 2000-06-27 Ge Toshiba Silicones Co Ltd シリコ―ン微粒子の製造方法
JP2000186148A (ja) * 1998-12-21 2000-07-04 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2003002973A (ja) * 2001-04-18 2003-01-08 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003183395A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003335860A (ja) * 2002-05-20 2003-11-28 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状ポリメチルフェニルシルセスキオキサン微粒子およびその製造方法
JP2004099630A (ja) * 2002-09-04 2004-04-02 Nitto Denko Corp ポリシルセスキオキサン微粒子の製造方法および該製造方法により得られたポリシルセスキオキサン微粒子
US7476706B2 (en) 2003-02-27 2009-01-13 Ube Nitto Kasei Co., Ltd. Method for producing polyorganosiloxane particles and for producing silica particles
WO2004076533A1 (ja) * 2003-02-27 2004-09-10 Ube Nitto Kasei Co., Ltd. ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
JP2004339297A (ja) * 2003-05-14 2004-12-02 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
JP5061334B2 (ja) * 2004-12-27 2012-10-31 小西化学工業株式会社 ポリシルセスキオキサン微粒子有機溶媒分散液及びその製造方法、並びにポリシルセスキオキサン微粒子水分散液及びその製造方法
JP2008088430A (ja) * 2006-09-08 2008-04-17 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法
JP2008127564A (ja) * 2006-11-23 2008-06-05 Cheil Industries Inc シリコン系微粒子、その製造方法、及びその微粒子が含有された熱可塑性樹脂組成物
WO2010092890A1 (ja) * 2009-02-10 2010-08-19 綜研化学株式会社 被覆粒子およびその製造方法
JPWO2010092890A1 (ja) * 2009-02-10 2012-08-16 綜研化学株式会社 被覆粒子およびその製造方法
EP2639258A1 (en) 2012-03-13 2013-09-18 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable Silicone Resin Composition and Optoelectronic Device
US8822593B2 (en) 2012-06-22 2014-09-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable resin composition, hardened material thereof, and optical semiconductor apparatus
WO2014050255A1 (ja) 2012-09-27 2014-04-03 信越化学工業株式会社 シリコーンミスト抑制剤
US9105821B2 (en) 2012-12-21 2015-08-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable silicone resin composition, cured product thereof and photosemiconductor apparatus
WO2014106768A1 (en) 2013-01-03 2014-07-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method
US9434819B2 (en) 2013-01-03 2016-09-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method
WO2015097675A2 (en) 2013-12-23 2015-07-02 Ticona Gmbh Tribologically modified ultrahigh molecular weight polyethylene
US10196577B2 (en) 2015-09-30 2019-02-05 Celanese Sales Germany Gmbh Low friction squeak free assembly
JP2017071740A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 信越化学工業株式会社 球状ポリオルガノシルセスキオキサン粒子の製造方法
WO2018059670A1 (de) 2016-09-27 2018-04-05 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
KR20180087364A (ko) * 2016-09-27 2018-08-01 와커 헤미 아게 구형 폴리실세스퀴옥산 입자의 제조 방법
JP2018538420A (ja) * 2016-09-27 2018-12-27 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG 球状ポリシルセスキオキサン粒子の製造方法
US10662292B2 (en) 2016-09-27 2020-05-26 Wacker Chemie Ag Process for producing spherical polysilsesquioxane particles
US10662293B2 (en) 2016-10-06 2020-05-26 Wacker Chemie Ag Method for producing spherical polysilsesquioxane particles
WO2018135435A1 (ja) 2017-01-17 2018-07-26 株式会社アマデラスホールディングス ポリオレフィン系ゴム組成物
WO2018149475A1 (de) 2017-02-14 2018-08-23 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
WO2019086094A1 (de) 2017-10-30 2019-05-09 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
JP2020132778A (ja) * 2019-02-21 2020-08-31 株式会社日本触媒 ポリメチルシルセスキオキサン粒子の製造方法

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