JPH0489620A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0489620A JPH0489620A JP20071290A JP20071290A JPH0489620A JP H0489620 A JPH0489620 A JP H0489620A JP 20071290 A JP20071290 A JP 20071290A JP 20071290 A JP20071290 A JP 20071290A JP H0489620 A JPH0489620 A JP H0489620A
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- thin film
- thin
- alloy thin
- alloy
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。
。
[従来の技術]
従来、磁気記録媒体としては、 NiP等の下地硬化層
を設けたAl−Mg基板または直接Al−Mg基板上に
酸化鉄などの針状粒子を樹脂バインダー中に分散させた
ものを磁気記録層として形成させたものが主流であった
。しかし、近年の情報の高密度記録化の要求から、湿式
メツキ、真空蒸着、スパッタリング等の薄膜形成法によ
り形成された強磁性薄膜層を磁気記録層とする磁気記録
媒体が精力的に研究開発されており、中でもスパッタリ
ング法により作製される磁気記録媒体が高密度特性およ
び量産性に優れるもので今後の磁気記録媒体の主流にな
るものと考えられている。
を設けたAl−Mg基板または直接Al−Mg基板上に
酸化鉄などの針状粒子を樹脂バインダー中に分散させた
ものを磁気記録層として形成させたものが主流であった
。しかし、近年の情報の高密度記録化の要求から、湿式
メツキ、真空蒸着、スパッタリング等の薄膜形成法によ
り形成された強磁性薄膜層を磁気記録層とする磁気記録
媒体が精力的に研究開発されており、中でもスパッタリ
ング法により作製される磁気記録媒体が高密度特性およ
び量産性に優れるもので今後の磁気記録媒体の主流にな
るものと考えられている。
[発明が解決しようとする課]
しかし、このスパッタリング法により作製される磁気記
録媒体(以下、メタルスパッタ媒体と略す。)は一般に
、NiP下地硬化層を設けたAl−Mg基板」二にCr
薄膜、Go合金薄膜、保護膜を順次形成することにより
得られるが、この磁気特性および電磁変換特性は、Cr
薄膜層およびCo合金薄膜層の膜厚およびこれらを形成
する際の条件(基板温度、スパッタガス圧等)に強く依
存しており、基板温度の影響を見ても、例えば、刊行物
(昭和63年電子通信学会研究会資料MRa8−2)に
おいて報告されているように、基板温度を高めることに
より磁気特性(特に保磁力)は向上し、高密度記録時の
再生信号は大きくなるものの、媒体ノイズも増加するた
め、S/N比(信号強度と雑音との比)で見る限りにお
いては、磁気特性の向上から期待されるほどの改善がみ
られないという課題がある。この媒体ノイズは磁気記録
層である00合金薄膜の結晶構造(結晶粒径、結晶粒間
の孤立性等)に強く依存しており、例えば刊行物(IE
EE Trans。
録媒体(以下、メタルスパッタ媒体と略す。)は一般に
、NiP下地硬化層を設けたAl−Mg基板」二にCr
薄膜、Go合金薄膜、保護膜を順次形成することにより
得られるが、この磁気特性および電磁変換特性は、Cr
薄膜層およびCo合金薄膜層の膜厚およびこれらを形成
する際の条件(基板温度、スパッタガス圧等)に強く依
存しており、基板温度の影響を見ても、例えば、刊行物
(昭和63年電子通信学会研究会資料MRa8−2)に
おいて報告されているように、基板温度を高めることに
より磁気特性(特に保磁力)は向上し、高密度記録時の
再生信号は大きくなるものの、媒体ノイズも増加するた
め、S/N比(信号強度と雑音との比)で見る限りにお
いては、磁気特性の向上から期待されるほどの改善がみ
られないという課題がある。この媒体ノイズは磁気記録
層である00合金薄膜の結晶構造(結晶粒径、結晶粒間
の孤立性等)に強く依存しており、例えば刊行物(IE
EE Trans。
阿ogn、MAG−25,P3869−3871198
9年刊)において、結晶粒間に働く相互作用の大きさを
低減させることにより、媒体ノイズが低減することが報
告されている。結晶粒間に働く相互作用の大きさを低減
させるためには、結晶粒間の孤立性を増すことが必要で
あり、そのためには、結晶粒界に非磁性材を偏析させて
やることが必要である。結晶粒界に非磁性材を偏析させ
る方法として、例えば成膜時のスパッタガス圧を高くす
る等があるが、それも限界があり、より結晶粒間の孤立
性を増し、媒体ノイズを低減させるにも限界があった。
9年刊)において、結晶粒間に働く相互作用の大きさを
低減させることにより、媒体ノイズが低減することが報
告されている。結晶粒間に働く相互作用の大きさを低減
させるためには、結晶粒間の孤立性を増すことが必要で
あり、そのためには、結晶粒界に非磁性材を偏析させて
やることが必要である。結晶粒界に非磁性材を偏析させ
る方法として、例えば成膜時のスパッタガス圧を高くす
る等があるが、それも限界があり、より結晶粒間の孤立
性を増し、媒体ノイズを低減させるにも限界があった。
この発明はかかる課題を解決するためになされたもので
、媒体ノイズを低減できると共に、S/N比を向上でき
る磁気記録媒体の製造方法を得ることを目的とする。
、媒体ノイズを低減できると共に、S/N比を向上でき
る磁気記録媒体の製造方法を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性体基材に
第1Cr薄膜層を設け、この第1cr薄膜層にCo合金
薄膜層を設け、このCo合金薄膜層に第2Cr薄膜層を
設けて、150℃以上で熱処理するものである。
第1Cr薄膜層を設け、この第1cr薄膜層にCo合金
薄膜層を設け、このCo合金薄膜層に第2Cr薄膜層を
設けて、150℃以上で熱処理するものである。
[作用コ
特許請求の範囲に示した方法により、非磁性材のCrが
Co合金薄膜層に拡散し、しかもCo合金の結晶粒界に
偏析するので、媒体ノイズが小さくなり、S/N比が向
上する。
Co合金薄膜層に拡散し、しかもCo合金の結晶粒界に
偏析するので、媒体ノイズが小さくなり、S/N比が向
上する。
[実施例]
図面は、この発明の一実施例に係わる熱処理前の積層状
態を示す断面図であり、図において(1)はAlMg基
板、(2)はN1−P下地硬化層で、Al−Mg基板(
1)およびN1−P下地硬化層(2)で非磁性体基材(
10)を構成し、(3)は第1Cr薄膜層、(4)はC
o合金薄膜層、(5)は第2Cr薄膜層、(6)は保護
膜層である。
態を示す断面図であり、図において(1)はAlMg基
板、(2)はN1−P下地硬化層で、Al−Mg基板(
1)およびN1−P下地硬化層(2)で非磁性体基材(
10)を構成し、(3)は第1Cr薄膜層、(4)はC
o合金薄膜層、(5)は第2Cr薄膜層、(6)は保護
膜層である。
即ち、この発明の一実施例の磁気記録媒体の製造方法に
おいて、図面のように積層した後、150℃以上で熱処
理する。即ち、Cr薄膜層がCo合金薄膜層に拡散する
ようにしたもので、Co合金薄膜層の粒子が非磁性材の
Crにより、その孤立性が高められるため、媒体ノイズ
が減少し高いS/N比が得られるのである。
おいて、図面のように積層した後、150℃以上で熱処
理する。即ち、Cr薄膜層がCo合金薄膜層に拡散する
ようにしたもので、Co合金薄膜層の粒子が非磁性材の
Crにより、その孤立性が高められるため、媒体ノイズ
が減少し高いS/N比が得られるのである。
なお、この発明に係わる第1Cr薄膜層の膜厚は、50
0〜3000人が望ましく、その範囲以外では00合金
薄膜層の結晶性のコントロールが困難になる。
0〜3000人が望ましく、その範囲以外では00合金
薄膜層の結晶性のコントロールが困難になる。
また、この発明に係わる第2Cr薄膜層の膜厚は、10
0Å以下が望ましく、それ以上では磁性層とヘッドとの
間隔が大きくなる。
0Å以下が望ましく、それ以上では磁性層とヘッドとの
間隔が大きくなる。
この発明に係わる熱処理温度は150℃以上であり、そ
れ以下では、Crの拡散が起こり難い、また熱処理は基
材の耐熱温度以下で行われるのが望ましく、上記この発
明の一実施例に用いたNiP下地硬化層を設けたAl−
Mg基板では300℃以下であるのが望ましい。
れ以下では、Crの拡散が起こり難い、また熱処理は基
材の耐熱温度以下で行われるのが望ましく、上記この発
明の一実施例に用いたNiP下地硬化層を設けたAl−
Mg基板では300℃以下であるのが望ましい。
それ以上では、NiP下地硬化層が帯磁するのである。
次に、この発明を実施例により具体的に説明するが、こ
れに限定されるものではない。
れに限定されるものではない。
実施例
非磁性体基材としてNjP下地硬化層を設けたA1にg
基板にテクスチャ加工を施したものを用い、00合金薄
膜層としてCoe2.5Ni3eCrv、sat%の組
成のC。
基板にテクスチャ加工を施したものを用い、00合金薄
膜層としてCoe2.5Ni3eCrv、sat%の組
成のC。
NiCrを、保護膜としてカーボンを用い、各層をスパ
ッタリング法により形成した。第1Cr薄膜層の膜厚を
2000人、CoNiCrを500人、第2Cr薄膜層
の膜厚を80人、カーボン保護膜層を320人形成し、
その後、大気中にて250℃、1時間の熱処理を施し、
この発明の一実施例による磁気記録媒体を製造した。な
お、各層を形成する際の基板温度は200℃、ガス圧は
全て10mTorrとした。
ッタリング法により形成した。第1Cr薄膜層の膜厚を
2000人、CoNiCrを500人、第2Cr薄膜層
の膜厚を80人、カーボン保護膜層を320人形成し、
その後、大気中にて250℃、1時間の熱処理を施し、
この発明の一実施例による磁気記録媒体を製造した。な
お、各層を形成する際の基板温度は200℃、ガス圧は
全て10mTorrとした。
比較例1
実施例1において、熱処理を行わない他は実施例1と同
様にして磁気記録媒体を製造した。
様にして磁気記録媒体を製造した。
比較例2
実施例1において、00合金薄膜層に第2Cr薄膜層を
形成せず、直接カーボン保護膜を400人形成する他は
、実施例1と同様にして磁気記録媒体を製造した。
形成せず、直接カーボン保護膜を400人形成する他は
、実施例1と同様にして磁気記録媒体を製造した。
電磁変換特性測定
実施例、比較例1および比較例2で得られた磁気記録媒
体の電磁変換特性を測定した。電磁変換特性測定には薄
膜磁気ヘッドを用い、相対速度12.1m/see。
体の電磁変換特性を測定した。電磁変換特性測定には薄
膜磁気ヘッドを用い、相対速度12.1m/see。
記録周波数8MHz、ノイズ帯域20MH2にて行った
。その結果を表に示す。
。その結果を表に示す。
表
表によると、実施例、比較例1および比較例2とも再生
出力はほぼ同じ値が得られている。一方、媒体ノイズに
関しては、実施例は、比較例1および比較例2に比べ低
い値を示しており、S/Nにおいて2dB以上の改善が
見られた。
出力はほぼ同じ値が得られている。一方、媒体ノイズに
関しては、実施例は、比較例1および比較例2に比べ低
い値を示しており、S/Nにおいて2dB以上の改善が
見られた。
即ち、この発明の一実施例による磁気記録媒体は、第2
Cr@膜層を形成し熱処理を行うことにより、Co合金
薄rg層にCrを拡散させるようにしたものであり、C
o合金薄膜層の結晶粒界にCrを偏析させたもので、結
晶粒間に働く相互作用を小さくでき、媒体ノイズを低減
できる。また、比較例1から解るように、単に第2Cr
薄膜層を設けても熱処理を施さないとノイズ低減には効
果が見られず、比較例2から解るように、第2Cr薄膜
層を設けなければ、熱処理を施してもノイズ低減には効
果が見られなかった。
Cr@膜層を形成し熱処理を行うことにより、Co合金
薄rg層にCrを拡散させるようにしたものであり、C
o合金薄膜層の結晶粒界にCrを偏析させたもので、結
晶粒間に働く相互作用を小さくでき、媒体ノイズを低減
できる。また、比較例1から解るように、単に第2Cr
薄膜層を設けても熱処理を施さないとノイズ低減には効
果が見られず、比較例2から解るように、第2Cr薄膜
層を設けなければ、熱処理を施してもノイズ低減には効
果が見られなかった。
なお、−上記実施例において、非磁性体基材としてNi
P等の下地硬化層を設けた^1−Mg基板にテクスチャ
加工を施したものを用い、Co合金薄膜層としてco6
25Ni31ICr75at%の組成のCoNiCrを
用いた場合について説明したが、これに限らず他の非磁
性体基材および他のCo合金薄膜を用いても同様の効果
を得ることができる。
P等の下地硬化層を設けた^1−Mg基板にテクスチャ
加工を施したものを用い、Co合金薄膜層としてco6
25Ni31ICr75at%の組成のCoNiCrを
用いた場合について説明したが、これに限らず他の非磁
性体基材および他のCo合金薄膜を用いても同様の効果
を得ることができる。
また、成膜時の基板温度、ガス圧等スパッタ条件も上記
実施例に限定されるものではなく、熱処理温度も150
℃以上であれば所期目的を達成することができる。
実施例に限定されるものではなく、熱処理温度も150
℃以上であれば所期目的を達成することができる。
[発明の効果]
以上説明した通り、この発明は非磁性体基材に第1Cr
薄膜層を設け、この第1Cr薄膜層にCo合金薄膜層を
設け、このCo合金薄膜層に第2Cr薄膜層を設けて、
150℃以上で熱処理することにより、媒体ノイズを低
減できると共に、S/N比を向上できる磁気記録媒体の
製造方法を得ることができる。
薄膜層を設け、この第1Cr薄膜層にCo合金薄膜層を
設け、このCo合金薄膜層に第2Cr薄膜層を設けて、
150℃以上で熱処理することにより、媒体ノイズを低
減できると共に、S/N比を向上できる磁気記録媒体の
製造方法を得ることができる。
図面は、この発明の一実施例に係わる熱処理前の積層状
態を示す断面図である。 図において(3)は第1Cr薄膜層、(4)はCo合金
薄膜層、(5)は第2Cr薄膜層、(10)は非磁性体
基材である。
態を示す断面図である。 図において(3)は第1Cr薄膜層、(4)はCo合金
薄膜層、(5)は第2Cr薄膜層、(10)は非磁性体
基材である。
Claims (1)
- 非磁性体基材に第1Cr薄膜層を設け、この第1Cr薄
膜層にCo合金薄膜層を設け、このCo合金薄膜層に第
2Cr薄膜層を設けて、150℃以上で熱処理する磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20071290A JPH0489620A (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20071290A JPH0489620A (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0489620A true JPH0489620A (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=16428966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20071290A Pending JPH0489620A (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0489620A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740383B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-05-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device |
| US7670696B2 (en) | 2007-05-01 | 2010-03-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording medium with patterned magnetic islands and nonmagnetic trenches and manufacturing method for suppressing surface diffusion of trench material |
-
1990
- 1990-07-25 JP JP20071290A patent/JPH0489620A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740383B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-05-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device |
| US7670696B2 (en) | 2007-05-01 | 2010-03-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording medium with patterned magnetic islands and nonmagnetic trenches and manufacturing method for suppressing surface diffusion of trench material |
| US7846565B2 (en) | 2007-05-01 | 2010-12-07 | Hitachi Golbal Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording disk drive with patterned disk having capping layer for suppression of surface diffusion of trench material |
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