JPH048994Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH048994Y2 JPH048994Y2 JP2888487U JP2888487U JPH048994Y2 JP H048994 Y2 JPH048994 Y2 JP H048994Y2 JP 2888487 U JP2888487 U JP 2888487U JP 2888487 U JP2888487 U JP 2888487U JP H048994 Y2 JPH048994 Y2 JP H048994Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- material liquid
- reaction
- ceiling
- laser beam
- Prior art date
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- Expired
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本考案は容器内に供給される原料液にレーザ光
を導入照射し、光化学反応を起させるレーザ光反
応器に関する。
を導入照射し、光化学反応を起させるレーザ光反
応器に関する。
<従来の技術>
従来レーザ光反応器として第2図に示すものが
提案されている。第2図において、aは反応容
器、bは遮へい板、cはアジテータ、dは循環ポ
ンプ、eは窓、fは原料液、はレーザ光であ
る。
提案されている。第2図において、aは反応容
器、bは遮へい板、cはアジテータ、dは循環ポ
ンプ、eは窓、fは原料液、はレーザ光であ
る。
反応容器内には原料液fが所要レベルまで満た
されている。レーザ光はガラスなどの透明部材
がはめ込まれた窓eを通り反応容器内に導入され
る。原料液fにレーザ光を当ると液中の化学物質
が励起され光化学反応が起る。原料液中で吸収さ
れた残りのレーザ光はグラフアイト等でできた遮
へい板で吸収される。反応はレーザ光の当つた部
分に限られるので、原料液全体にレーザ光が当り
化学反応を起させるためアジテータcにより攪拌
する。
されている。レーザ光はガラスなどの透明部材
がはめ込まれた窓eを通り反応容器内に導入され
る。原料液fにレーザ光を当ると液中の化学物質
が励起され光化学反応が起る。原料液中で吸収さ
れた残りのレーザ光はグラフアイト等でできた遮
へい板で吸収される。反応はレーザ光の当つた部
分に限られるので、原料液全体にレーザ光が当り
化学反応を起させるためアジテータcにより攪拌
する。
循環ポンプdは攪拌を助ける他反応の完了した
液の抜出しに使用する。
液の抜出しに使用する。
<考案が解決しようとする問題点>
かかるレーザ光反応器を使用して、濁度が高く
レーザ光の吸収度の大きい原料に光化学反応を起
させる場合には次のような問題がある。
レーザ光の吸収度の大きい原料に光化学反応を起
させる場合には次のような問題がある。
(1) レーザ光の吸収度が大きいのでレーザ光は窓
eの付近で吸収されてしまい照射体積がきわめ
て限られたものになり全体を反応させるために
長時間を要する。
eの付近で吸収されてしまい照射体積がきわめ
て限られたものになり全体を反応させるために
長時間を要する。
(2) そこでレーザ光の透過する距離を大きくする
ためレーザ光のビーム強度を上げると入射窓e
の損傷が起こりやすくなるだけでなく、原料液
に極めて強いレーザ光が照射されるため蒸発や
イオン化など望ましくない副反応が起きる可能
性がある。たとえ副反応が起きないにしても必
要以上に強いレーザ光照射はエネルギーのむだ
である。
ためレーザ光のビーム強度を上げると入射窓e
の損傷が起こりやすくなるだけでなく、原料液
に極めて強いレーザ光が照射されるため蒸発や
イオン化など望ましくない副反応が起きる可能
性がある。たとえ副反応が起きないにしても必
要以上に強いレーザ光照射はエネルギーのむだ
である。
(3) 反応が入射窓e付近に限られるので、反応を
原料全体に及ぼすために攪拌や循環を入念に行
わねばならずそれに多大のエネルギーを要す
る。
原料全体に及ぼすために攪拌や循環を入念に行
わねばならずそれに多大のエネルギーを要す
る。
以上述べたようにレーザ光の吸収度が大きい原
料に対して第2図の従来のレーザ光反応器が適し
ていないと考えられる他反応に必要な照射量の小
さい原料についても、窓が小さく、レーザビーム
の径が小さいため照射体積が限られていて効果的
な光化学反応が期待できない。
料に対して第2図の従来のレーザ光反応器が適し
ていないと考えられる他反応に必要な照射量の小
さい原料についても、窓が小さく、レーザビーム
の径が小さいため照射体積が限られていて効果的
な光化学反応が期待できない。
<考案の目的>
本考案は以上述べた問題点に鑑み案出したもの
で、レーザ光の吸収性の高い原料液やスラリまた
は反応に必要なレーザ光照射量の小さい原料液や
スラリに対して効果的に光化学反応を起させるレ
ーザ光反応器を提供することを目的とする。
で、レーザ光の吸収性の高い原料液やスラリまた
は反応に必要なレーザ光照射量の小さい原料液や
スラリに対して効果的に光化学反応を起させるレ
ーザ光反応器を提供することを目的とする。
<問題点を解決するための手段>
上記目的を達成するために本考案のレーザ光反
応器は、天井部にレーザ光を導入する円板状透明
部材がはめ込まれている密閉円筒状反応容器と、
上記天井部の下方に天井部と平行に、かつ外周と
容器内壁との間に環状の隙間が形成されるように
配設されている円板状のサポートと、該サポート
の略中央に穿設された原料液供給口に原料液を供
給する原料導入管とを備えてなることを特徴とす
るものである。
応器は、天井部にレーザ光を導入する円板状透明
部材がはめ込まれている密閉円筒状反応容器と、
上記天井部の下方に天井部と平行に、かつ外周と
容器内壁との間に環状の隙間が形成されるように
配設されている円板状のサポートと、該サポート
の略中央に穿設された原料液供給口に原料液を供
給する原料導入管とを備えてなることを特徴とす
るものである。
<実施例>
以下本考案の一実施例について図面を参照しつ
つ説明する。第1図はレーザ光反応器の断面図と
フローシートを組合せた図面である。第1図にお
いて、1は反応容器、2は原料液導入管、3は容
器天井部にはめ込まれた透明部材、4はミラー、
5は凹レンズ、6はガス戻り管、7は原料液、8
はレーザビームで連続光またはパルス光どちらで
もよい。ビーム断面形状は円形ないしは円形でな
いものはアパチヤーにより円形としたものが良
い。9は原料貯溜タンク、10はガス体、11は
円板状のサポート、12は原料液供給口、13は
反応生成物を含む液、14はポンプである。
つ説明する。第1図はレーザ光反応器の断面図と
フローシートを組合せた図面である。第1図にお
いて、1は反応容器、2は原料液導入管、3は容
器天井部にはめ込まれた透明部材、4はミラー、
5は凹レンズ、6はガス戻り管、7は原料液、8
はレーザビームで連続光またはパルス光どちらで
もよい。ビーム断面形状は円形ないしは円形でな
いものはアパチヤーにより円形としたものが良
い。9は原料貯溜タンク、10はガス体、11は
円板状のサポート、12は原料液供給口、13は
反応生成物を含む液、14はポンプである。
反応容器1は軸線を堅方向に向けて載置された
円筒状の容器で、天井部分にはガラス等の円板状
の透明部材3がはめ込まれている。容器1内には
天井の透明部材3から所要距離d下方に、透明部
材3と平行に円板状のサポート11が配設されて
いる。サポート11の略中央には円形の原料液供
給口12が穿設されており、またサポートの外径
は容器1の内径よりもわずかに小さくなつてい
て、サポート11外周と容器1内周との間に環状
の隙間が形成されるようになつている。
円筒状の容器で、天井部分にはガラス等の円板状
の透明部材3がはめ込まれている。容器1内には
天井の透明部材3から所要距離d下方に、透明部
材3と平行に円板状のサポート11が配設されて
いる。サポート11の略中央には円形の原料液供
給口12が穿設されており、またサポートの外径
は容器1の内径よりもわずかに小さくなつてい
て、サポート11外周と容器1内周との間に環状
の隙間が形成されるようになつている。
尚、サポート11の上面と透明部材3下面との
距離dは調節可能となつている。サポート11に
設けられた原料供給口12には容器1底部を貫通
する原料液導入管2が接続されており、原料液7
が原料供給口12から湧き出すようになつてい
る。
距離dは調節可能となつている。サポート11に
設けられた原料供給口12には容器1底部を貫通
する原料液導入管2が接続されており、原料液7
が原料供給口12から湧き出すようになつてい
る。
次に作用を説明する。
貯溜タンク9内に貯溜された原料液7はポンプ
14により、原料導入管2を通つて、反応容器1
に送られる。原料液7は原料液供給口12から、
透明部材3とサポート11の間に形成される空間
15内に流出する。原料液7は空間15内を第3
図に示すように原料液供給口12を中心に放射方
向に一様な流速で流れ、サポート11の外周部に
形成される隙間17を通つて、容器1の内周に沿
つて流下し容器1底部に貯溜する。容器1内に存
在するガス体10はガス戻り管6を通つて原料貯
溜タンク9に戻される。
14により、原料導入管2を通つて、反応容器1
に送られる。原料液7は原料液供給口12から、
透明部材3とサポート11の間に形成される空間
15内に流出する。原料液7は空間15内を第3
図に示すように原料液供給口12を中心に放射方
向に一様な流速で流れ、サポート11の外周部に
形成される隙間17を通つて、容器1の内周に沿
つて流下し容器1底部に貯溜する。容器1内に存
在するガス体10はガス戻り管6を通つて原料貯
溜タンク9に戻される。
一方図示しないレーザビーム発生装置から水平
方向に射出されたビームはミラー4により垂直方
向に方向変換される。尚ミラー4の代りにプリズ
ムを使用してもよい。レーザビームはその後凹レ
ンジ5により円錐状に拡げられて容器1天井部の
透明部材を通過し原料液7に照射される。レーザ
ビームが照射される部分の原料液7の深さはdで
あり、かつdは比較的浅いので、原料液7の光吸
収度が大きい場合であつても底(サポート11の
表面)までレーザビームが達し、光化学反応が均
一に惹起される。尚深さdは原料液の流量、照射
されるレーザビームの強さ、レーザビームの直径
などに応じて調節することにより最適の光化学反
応条件が達成される。空間15内を流れる間に原
料液7は光化学反応を起し、反応生成物を含む液
13となつて隙間17より流下する。尚本実施例
では原料液7はレーザビームが一回だけ照射され
るようになつているが、反応生成物を含む液13
を原料液貯溜タンク9に戻し、両者の間で循環す
るようにすれば、何回もレーザビームを照射する
ことができる。
方向に射出されたビームはミラー4により垂直方
向に方向変換される。尚ミラー4の代りにプリズ
ムを使用してもよい。レーザビームはその後凹レ
ンジ5により円錐状に拡げられて容器1天井部の
透明部材を通過し原料液7に照射される。レーザ
ビームが照射される部分の原料液7の深さはdで
あり、かつdは比較的浅いので、原料液7の光吸
収度が大きい場合であつても底(サポート11の
表面)までレーザビームが達し、光化学反応が均
一に惹起される。尚深さdは原料液の流量、照射
されるレーザビームの強さ、レーザビームの直径
などに応じて調節することにより最適の光化学反
応条件が達成される。空間15内を流れる間に原
料液7は光化学反応を起し、反応生成物を含む液
13となつて隙間17より流下する。尚本実施例
では原料液7はレーザビームが一回だけ照射され
るようになつているが、反応生成物を含む液13
を原料液貯溜タンク9に戻し、両者の間で循環す
るようにすれば、何回もレーザビームを照射する
ことができる。
<考案の効果>
以上述べたように本考案のレーザ光反応器は以
下の効果がある。
下の効果がある。
(1) レーザ光の吸収率が大きい原料液に対してレ
ーザ光を均一に照射できかつ照射体積を大きく
できるので光化学反応を効率よく惹起させるこ
とができ、反応率を高めることができる。
ーザ光を均一に照射できかつ照射体積を大きく
できるので光化学反応を効率よく惹起させるこ
とができ、反応率を高めることができる。
(2) 光化学反応を起すための単位体積当りの照射
エネルギの小さくてもよい原料液に対しても、
送液流量、間隔d、ビームの照射径を適当に選
ぶことにより、レーザビームを均一に照射する
ことができ、光化学反応を効果的に惹起させる
ことができる。
エネルギの小さくてもよい原料液に対しても、
送液流量、間隔d、ビームの照射径を適当に選
ぶことにより、レーザビームを均一に照射する
ことができ、光化学反応を効果的に惹起させる
ことができる。
第1図は本考案のレーザ光反応器の断面図とフ
ローシートを組合せた図面、第2図は従来のレー
ザ光反応器の断面図、第3図は第1図の−矢
視断面図である。 1……反応容器、3……容器天井部にはめ込ま
れた透明部材、7……原料液導入管、11……サ
ポート、12……原料供給口。
ローシートを組合せた図面、第2図は従来のレー
ザ光反応器の断面図、第3図は第1図の−矢
視断面図である。 1……反応容器、3……容器天井部にはめ込ま
れた透明部材、7……原料液導入管、11……サ
ポート、12……原料供給口。
Claims (1)
- 天井部にレーザ光を導入する円板状透明部材が
はめ込まれている密閉円筒状反応容器と、上記天
井部の下方に天井部と平行に、かつ外周と容器内
壁との間に環状の隙間が形成されるように配設さ
れている円板状のサポートと、該サポートの略中
央に穿設された原料液供給口に原料液を供給する
原料導入管とを備えてなることを特徴とするレー
ザ光反応器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2888487U JPH048994Y2 (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2888487U JPH048994Y2 (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63136733U JPS63136733U (ja) | 1988-09-08 |
| JPH048994Y2 true JPH048994Y2 (ja) | 1992-03-06 |
Family
ID=30832260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2888487U Expired JPH048994Y2 (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH048994Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-03-02 JP JP2888487U patent/JPH048994Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63136733U (ja) | 1988-09-08 |
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