JPH0491088A - ピラノン化合物 - Google Patents
ピラノン化合物Info
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- JPH0491088A JPH0491088A JP2205256A JP20525690A JPH0491088A JP H0491088 A JPH0491088 A JP H0491088A JP 2205256 A JP2205256 A JP 2205256A JP 20525690 A JP20525690 A JP 20525690A JP H0491088 A JPH0491088 A JP H0491088A
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- JP
- Japan
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- group
- compound
- acid
- groups
- pyranone
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- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なピラノン化合物に関する。
更に詳しくは、本発明は抗菌剤として有用なセファロス
ポリン誘導体の製造に用いられる新規な中間体化合物に
関する。
ポリン誘導体の製造に用いられる新規な中間体化合物に
関する。
従来より合成抗菌剤は数多く知られているが、最近にな
ってピリジン−Ｎ−オキシド構造を有するセファロスポ
リン誘導体が開発されてきている。
ってピリジン−Ｎ−オキシド構造を有するセファロスポ
リン誘導体が開発されてきている。
本発明者らは、セフェム環の７位側鎖に新規な置換基を
導入することによって、ダラム陽性菌及びダラム陰性菌
に対してなかんずく緑膿菌に対して顕著な抗菌活性を示
すセファロスポリン化合物を創製している（特開昭６３
−１５２３８６号公報）。
導入することによって、ダラム陽性菌及びダラム陰性菌
に対してなかんずく緑膿菌に対して顕著な抗菌活性を示
すセファロスポリン化合物を創製している（特開昭６３
−１５２３８６号公報）。
今般、それらのセファロスポリン化合物の製造に用いる
新規な中間体化合物として有用なピラノン化合物を見出
し本発明を完成した。
新規な中間体化合物として有用なピラノン化合物を見出
し本発明を完成した。
本発明に従えば、式
（式中、Ｒ１は水素原子またはアミノ基の保護基を、Ｒ
２は水素原子または水酸基の保護基を意味する。）で表
わされるピラノン化合物もしくはその反応性誘導体が提
供される。
２は水素原子または水酸基の保護基を意味する。）で表
わされるピラノン化合物もしくはその反応性誘導体が提
供される。
Ｒユにおけるアミノ基の保護基としては、例えばトリメ
チルシリル基などのトリ低級アルキルシリル基、ホルミ
ル基、クロロアセチル基などのアシル基、ｔ−ブトキシ
カルボニル基、を−アミルオキシカルボニル基、Ｐ−メ
トキシベンジルオキシカルボニル基、２，２．２−トリ
クロロエトキシカルボニル基、Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、ベンジ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基
、ベンズヒドリル基（ジフェニルメチル基）、トリチル
基（トリフェニルメチル基）などのアラルキル基があげ
られる。Ｒ２における水酸基の保護基としては、例えば
トリメチルシリル基などのトリ低級アルキルシリル基、
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、メトキシア
セチル基、メトキシプロピオニル基などのアシル基、ベ
ンジル基、Ｐ−メトキシベンジル基、Ｐ−ニトロベンジ
ル基、ベンズヒドリル基、トリチル基などのアラルキル
基、メトキシメチル基、アリル基、ピラニル基などがあ
げられる。一般式ＣＩ）のピラノン化合物の反応性誘導
体としては、例えば酸ノ１０ゲン化物（例えば、ｌ！２
クロリド、酸プロミドなど）、活性エステル（例えば、
ベンゾトリアゾールエステル、ベンゾチアゾリルチオエ
ステル、シアノメチルエステル、ニトロフェニルエステ
ル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドとのエステルなど）
、混合酸無水物（例えば、エトキシカルボン酸、イソブ
トキシカルボン酸、トリメチル酢酸などとの混合酸無水
物）、活性アミド、活性アジドなどがあげられる。
チルシリル基などのトリ低級アルキルシリル基、ホルミ
ル基、クロロアセチル基などのアシル基、ｔ−ブトキシ
カルボニル基、を−アミルオキシカルボニル基、Ｐ−メ
トキシベンジルオキシカルボニル基、２，２．２−トリ
クロロエトキシカルボニル基、Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、ベンジ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基
、ベンズヒドリル基（ジフェニルメチル基）、トリチル
基（トリフェニルメチル基）などのアラルキル基があげ
られる。Ｒ２における水酸基の保護基としては、例えば
トリメチルシリル基などのトリ低級アルキルシリル基、
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、メトキシア
セチル基、メトキシプロピオニル基などのアシル基、ベ
ンジル基、Ｐ−メトキシベンジル基、Ｐ−ニトロベンジ
ル基、ベンズヒドリル基、トリチル基などのアラルキル
基、メトキシメチル基、アリル基、ピラニル基などがあ
げられる。一般式ＣＩ）のピラノン化合物の反応性誘導
体としては、例えば酸ノ１０ゲン化物（例えば、ｌ！２
クロリド、酸プロミドなど）、活性エステル（例えば、
ベンゾトリアゾールエステル、ベンゾチアゾリルチオエ
ステル、シアノメチルエステル、ニトロフェニルエステ
ル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドとのエステルなど）
、混合酸無水物（例えば、エトキシカルボン酸、イソブ
トキシカルボン酸、トリメチル酢酸などとの混合酸無水
物）、活性アミド、活性アジドなどがあげられる。
一般式〔工〕で示される本発明化合物は１例えば次のよ
うな方法で製造することができる。
うな方法で製造することができる。
製造例１
ＣＩ＋）
Ｃｍ）
［ＩＶ）
ＲユおよびＲ２は前記と同し。）
すなわち、ハロメチルピラノン化合物（ＴＩ）にＮ−ヒ
ドロキシフタルイミドを反応させて、フタルイミドオキ
シメチルピラノン化合物（ＩＩＩ）を？ｌる。ついで、
フタルイミドオキシメチルピラノン化合物［１１１）に
ヒドラジンヒトラードを反応させ、得られたアミノキシ
メチルピラノン化合物〔■〕とアミノチアゾール−４−
イルグリオキシル酸化合物〔■〕とを反応させることに
より、一般式［１）で表されるピラノン化合物が得られ
る。
ドロキシフタルイミドを反応させて、フタルイミドオキ
シメチルピラノン化合物（ＩＩＩ）を？ｌる。ついで、
フタルイミドオキシメチルピラノン化合物［１１１）に
ヒドラジンヒトラードを反応させ、得られたアミノキシ
メチルピラノン化合物〔■〕とアミノチアゾール−４−
イルグリオキシル酸化合物〔■〕とを反応させることに
より、一般式［１）で表されるピラノン化合物が得られ
る。
製造例２
（ｎ）
Ｃ１）
（式中、Ｙはハロゲン原子またはメシルオキシ基、トシ
ルオキシ基などのスルホネート基を、（式中、Ｒ１は水
素原子またはカルボキシル基の保護基を低級アルキル基
を、Ｙ、Ｒ工およびＲ２は前記と同じ） すなわち、ハロメチルピラノン化合物（ｎ）と２−（ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢
酸化合物（ＶＩ）を反応させ、必要に応じて、ついでカ
ルボキシル基の保護基Ｒ１を保護基の特性に基づいて常
法により除去することにより、一般式（Ｉ）で表される
ピラノン化合物が得られる。
ルオキシ基などのスルホネート基を、（式中、Ｒ１は水
素原子またはカルボキシル基の保護基を低級アルキル基
を、Ｙ、Ｒ工およびＲ２は前記と同じ） すなわち、ハロメチルピラノン化合物（ｎ）と２−（ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢
酸化合物（ＶＩ）を反応させ、必要に応じて、ついでカ
ルボキシル基の保護基Ｒ１を保護基の特性に基づいて常
法により除去することにより、一般式（Ｉ）で表される
ピラノン化合物が得られる。
なお、一般式ＣＩ）で表されるピラノン化合物のうちＲ
ｏ及び／またはＲ２が水素原子である化合物は、対応す
るアミノ基の保護基Ｒ１及び／または水酸基の保護基Ｒ
２を除去することにより製造することができる。具体的
には保護基の特性に基づいて、常法により一般式（１）
中のアミノ基の保護基Ｒ１を例えば酸、塩基またはヒド
ラジンを用いる加水分解、あるいは還元等の方法によっ
て、水酸基の保護基Ｒ２を例えばギ酸、トリフルオロ酢
酸などの有機酸、ヨウ化水素酸、臭化水素酸、塩化水素
酸などのハロゲン化水素酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸などのスルホン酸、アニソール或はチ
オアニソール等の存在下或は非存在下での塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウム、三フッ化ホウ素などのルイス
酸など酸を使用した方法、水酸化ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水などのアル
カリを使用した方法、ヨウ化トリメチルシランなどのハ
ロゲン化シランを使用した方法、パラジウム、白金など
の触媒を使用した方法によって行われる。
ｏ及び／またはＲ２が水素原子である化合物は、対応す
るアミノ基の保護基Ｒ１及び／または水酸基の保護基Ｒ
２を除去することにより製造することができる。具体的
には保護基の特性に基づいて、常法により一般式（１）
中のアミノ基の保護基Ｒ１を例えば酸、塩基またはヒド
ラジンを用いる加水分解、あるいは還元等の方法によっ
て、水酸基の保護基Ｒ２を例えばギ酸、トリフルオロ酢
酸などの有機酸、ヨウ化水素酸、臭化水素酸、塩化水素
酸などのハロゲン化水素酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸などのスルホン酸、アニソール或はチ
オアニソール等の存在下或は非存在下での塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウム、三フッ化ホウ素などのルイス
酸など酸を使用した方法、水酸化ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水などのアル
カリを使用した方法、ヨウ化トリメチルシランなどのハ
ロゲン化シランを使用した方法、パラジウム、白金など
の触媒を使用した方法によって行われる。
本発明の化合物［Ｉ）は、ピリジン−Ｎ−オキシド構造
を有するセファロスポリン誘導体の製造の中間体化合物
として有用である。
を有するセファロスポリン誘導体の製造の中間体化合物
として有用である。
例えば、次式ような製造工程でピリジン−Ｎ−オキシド
構造を有する抗菌剤として有用なセファロスポリン化合
物（Ｘ）を製造することができる。
構造を有する抗菌剤として有用なセファロスポリン化合
物（Ｘ）を製造することができる。
〔■〕
Ｈ
（式中、Ｒ４はカルボキシル基の保護基を、Ｒ□および
Ｒ２は前記と同じ） すなわち、本発明化合物ＣＩ）と７−アミツセフアロス
ボリン化合物〔■〕を用いて、βラクタム剤の分野で一
般的に使用されている縮合反応に付し７位置換セファロ
スポリン化合物〔■〕を得、ついで該セファロスポリン
化合物〔■〕を脱保護基反応に付すことにより、ピラノ
ン置換セファロスポリン化合物（ＩＸ）を得る。
Ｒ２は前記と同じ） すなわち、本発明化合物ＣＩ）と７−アミツセフアロス
ボリン化合物〔■〕を用いて、βラクタム剤の分野で一
般的に使用されている縮合反応に付し７位置換セファロ
スポリン化合物〔■〕を得、ついで該セファロスポリン
化合物〔■〕を脱保護基反応に付すことにより、ピラノ
ン置換セファロスポリン化合物（ＩＸ）を得る。
ついで、ピラノン置換セファロスポリン化合物（ＩＸ）
を含水アルコール中、室温から６０℃でヒドロキシアミ
ン塩酸塩と酢酸ナトリウムとで処理すると、ピリジン−
Ｎ−オキシド構造を有するセファロスポリン誘導体〔Ｘ
）を製造することができる 以下、実施例及び参考例により本発明を更に詳細に説明
する。
を含水アルコール中、室温から６０℃でヒドロキシアミ
ン塩酸塩と酢酸ナトリウムとで処理すると、ピリジン−
Ｎ−オキシド構造を有するセファロスポリン誘導体〔Ｘ
）を製造することができる 以下、実施例及び参考例により本発明を更に詳細に説明
する。
実施例
（１）２−クロロメチル−５−ベンジルオキシ−４，Ｈ
−ピラン−４−オン２３．２２ｇ、Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミド１６．３ｇ、トリエチルアミン１０．１ｇとを
ジメチルホルムアミド１５０ｍＱに加え室温で２時間撹
拌しながら反応させる。これに酢酸エチル５００ｍ１２
を加え、５％重曹水で３回、水で２回洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後濃縮すると、２−フタルイミドイ
ルオキシメチル−５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−
４−オン３５ｇを得る。
−ピラン−４−オン２３．２２ｇ、Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミド１６．３ｇ、トリエチルアミン１０．１ｇとを
ジメチルホルムアミド１５０ｍＱに加え室温で２時間撹
拌しながら反応させる。これに酢酸エチル５００ｍ１２
を加え、５％重曹水で３回、水で２回洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後濃縮すると、２−フタルイミドイ
ルオキシメチル−５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−
４−オン３５ｇを得る。
工Ｒ（ＫＢｒ）υ（］−）
１７９５．１７５０，１６６０，１６４０．１６００”
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１３，δ）： ４．９６ （２Ｈ，ｓ）、５．０８ （２Ｈ，ｓ）。
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１３，δ）： ４．９６ （２Ｈ，ｓ）、５．０８ （２Ｈ，ｓ）。
６．５２ （ＬＨ，ｓ）、７．３８ （５Ｈ，ｓ）。
７．６６ （ＬＨ，ｓ）、７．８１ （４Ｈ，５）（２
）上記で得られた２−フタルイミドイルオキシメチル−
５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−４−オン７．５５
ｇをメタノール７５ｍＱに懸濁させ、水冷撹拌しながら
ヒドラジンヒトラード０．５７ｍＵを加え同温度で１時
間さらに室温で１夜撹拌しながら反応させる。反応液よ
り生成した結晶を濾過により取り除き、濾液に２−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノチアゾルー４−イルグリオキ
シルｒ！１５゜４５ｇを加えて室温で４時間撹拌する。
）上記で得られた２−フタルイミドイルオキシメチル−
５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−４−オン７．５５
ｇをメタノール７５ｍＱに懸濁させ、水冷撹拌しながら
ヒドラジンヒトラード０．５７ｍＵを加え同温度で１時
間さらに室温で１夜撹拌しながら反応させる。反応液よ
り生成した結晶を濾過により取り除き、濾液に２−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノチアゾルー４−イルグリオキ
シルｒ！１５゜４５ｇを加えて室温で４時間撹拌する。
反応液を濃縮し、イソプロピルエーテル５０ｍｆｌ及び
ｎ−ヘキサン５０ｍＱを加えガム状析出物を濾取する。
ｎ−ヘキサン５０ｍＱを加えガム状析出物を濾取する。
ついで析出物を酢酸エチル２０ｍＱから再結晶すると標
記の（ｚ） −２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−（５−ベンジルオキシ
−４Ｈ−ピラン−４−オン−２−イルメトキシイミノ）
酢酸９．８９ｇを得る。
記の（ｚ） −２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−（５−ベンジルオキシ
−４Ｈ−ピラン−４−オン−２−イルメトキシイミノ）
酢酸９．８９ｇを得る。
”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１＋ＤＭＳ○−ｄ ５１１、５３
（９Ｈ，ｓ） 、 ４．９７ （２Ｈ。
（９Ｈ，ｓ） 、 ４．９７ （２Ｈ。
５．００（２Ｈ，ｓ） 、 ６．５０ （ＬＨ。
７、２０ （ＬＨ，ｓ） 、 ７．３２ （５Ｈ。
７、６３ （ＬＨ，ｓ）
参考例
δ）：
ｓ）。
Ｌ
Ｌ
（１）実施例で得られた（Ｚ） −２−（２−ｔブトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４イル）−２−（５−
ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−４−オン−２−イルメ
トキシイミノ）酢酸５．０２ｇをテトラヒドロフラン５
０ｍＱに溶解し、水冷撹拌しながら１−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール１．５３ｇおよびジシクロヘキシルカル
ボジイミド２．２７ｇを加え同温度で１時間撹拌しなが
ら反応させる。ついで７−アミノ−３−（１，２，３、
−チアジアゾール−５−イルチオメチル−３−セフェム
−４−カルボンＦＩＩｐ−メトキシベンジルエステル４
．５１ｇとクロロホルム１ｏＯｍＱを加え４時間室温で
撹拌する。析出した沈殿物を濾過して除き、濾液を減圧
上濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付しく６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシアミノチアゾール−４−イル
）−２−（５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−４−オ
ン−２−イルメトキシイミノ）アセタミド］−３−（１
，２，３−チアジアゾール−５−イルチオメチル）−３
−セフェム−４−カルボン百Ｐ−メトキシベンジルエス
テル２．９３ｇを得る。
シカルボニルアミノチアゾール−４イル）−２−（５−
ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−４−オン−２−イルメ
トキシイミノ）酢酸５．０２ｇをテトラヒドロフラン５
０ｍＱに溶解し、水冷撹拌しながら１−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール１．５３ｇおよびジシクロヘキシルカル
ボジイミド２．２７ｇを加え同温度で１時間撹拌しなが
ら反応させる。ついで７−アミノ−３−（１，２，３、
−チアジアゾール−５−イルチオメチル−３−セフェム
−４−カルボンＦＩＩｐ−メトキシベンジルエステル４
．５１ｇとクロロホルム１ｏＯｍＱを加え４時間室温で
撹拌する。析出した沈殿物を濾過して除き、濾液を減圧
上濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付しく６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシアミノチアゾール−４−イル
）−２−（５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラン−４−オ
ン−２−イルメトキシイミノ）アセタミド］−３−（１
，２，３−チアジアゾール−５−イルチオメチル）−３
−セフェム−４−カルボン百Ｐ−メトキシベンジルエス
テル２．９３ｇを得る。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δｐｐｍ） ：１．５
４ （９Ｈ，ｓ）、３．５２ （３Ｈ，ｂｓ）。
４ （９Ｈ，ｓ）、３．５２ （３Ｈ，ｂｓ）。
３．７８ （３８，ｓ）、４．１０（２Ｈ，ｂｓ）。
４．９６ （４Ｈ，ｂｓ）、５．１０（２Ｈ，ｂ ｓ）
。
。
５．８９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）。
６．５８ （ＬＨ，ｓ）、７．３２ （５Ｈ，ｓ）７．
５８ （ＩＨ，ｓ）、８．３９ （ＬＨ，５）（２）
上記で得られた（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ） −２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシアミノチアゾール
−４−イル）−２−（５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラ
ン−４−オン−２−イルメトキシイミノ）アセタミドコ
ー３− （１，２，３−チアジアゾール−５−イルチオ
メチル）−３−セフェム−４−カルボン酸Ｐ−メトキシ
ベンジルエステル２．０８ｇをニトロメタン１０ｍＱに
溶解し、アニソール５゜８ｍＱを加えた溶液を調製する
。一方、無水塩化アルミニウム３．０６ｇをニトロメタ
ン１゜ｍｆｌに溶かした溶液を調製し１０℃に冷す。こ
の溶液に先に調製した溶液を添加し、室温で２時間撹拌
しながら反応させる。反応液をｎ−ブタノール４．８ｍ
ｆｆ、飽和食塩水４０ｍＱ、濃塩酸４ｍＱの混合液にあ
け、有機層を飽和食塩水４０ ｍ ｌと製塩ｒ！ａ４
ｍ Ｑで２回洗浄し飽和重曹水でｐＨ３，０に調節する
。ついでイソプロピルエーテル３０ｍｆｆを添加し生成
した析出物を濾取し、水ついで酢酸エチルで洗浄後乾燥
すルト、 （６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−（５−ヒドロキシ
−４Ｈ−ピラン−４−オン２−イルメトキシイミノ）ア
セタミトコー３（１，２，３−チアジアゾール−５−イ
ルチオメチル）−３−セフェム−４−カルボン１０゜８
１ｇを得る。
５８ （ＩＨ，ｓ）、８．３９ （ＬＨ，５）（２）
上記で得られた（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ） −２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシアミノチアゾール
−４−イル）−２−（５−ベンジルオキシ−４Ｈ−ピラ
ン−４−オン−２−イルメトキシイミノ）アセタミドコ
ー３− （１，２，３−チアジアゾール−５−イルチオ
メチル）−３−セフェム−４−カルボン酸Ｐ−メトキシ
ベンジルエステル２．０８ｇをニトロメタン１０ｍＱに
溶解し、アニソール５゜８ｍＱを加えた溶液を調製する
。一方、無水塩化アルミニウム３．０６ｇをニトロメタ
ン１゜ｍｆｌに溶かした溶液を調製し１０℃に冷す。こ
の溶液に先に調製した溶液を添加し、室温で２時間撹拌
しながら反応させる。反応液をｎ−ブタノール４．８ｍ
ｆｆ、飽和食塩水４０ｍＱ、濃塩酸４ｍＱの混合液にあ
け、有機層を飽和食塩水４０ ｍ ｌと製塩ｒ！ａ４
ｍ Ｑで２回洗浄し飽和重曹水でｐＨ３，０に調節する
。ついでイソプロピルエーテル３０ｍｆｆを添加し生成
した析出物を濾取し、水ついで酢酸エチルで洗浄後乾燥
すルト、 （６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−（５−ヒドロキシ
−４Ｈ−ピラン−４−オン２−イルメトキシイミノ）ア
セタミトコー３（１，２，３−チアジアゾール−５−イ
ルチオメチル）−３−セフェム−４−カルボン１０゜８
１ｇを得る。
”Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳ○−ｄＧｌδ）：３、６８ （２
Ｈ，ｂｓ） 、 ４．３１ （２Ｈ，ｂｓ）、 。
Ｈ，ｂｓ） 、 ４．３１ （２Ｈ，ｂｓ）、 。
５、０５ （２Ｈ，ｂ ｓ） 、 ５．２３ （２Ｈ，
ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）。
ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ）。
５、 ８０ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝８．５Ｈｚ）
、 ６． ５４ （１トＩ、 ｓ）６、
９０ （ＬＨ，ｓ） 、 ８．０７ （ＩＨ，ｓ） 。
、 ６． ５４ （１トＩ、 ｓ）６、
９０ （ＬＨ，ｓ） 、 ８．０７ （ＩＨ，ｓ） 。
８、８８ （ＬＨ，ｓ） 、 ９．８６ （ＬＨ，５）
（３）上記でえられた（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（５−
ヒドロキシ−４Ｈ−ピラン−４−オン−２−イルメトキ
シイミノ）アセタミドコー３− （１，２，３−チアジ
アゾール５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−力
ルボンｖ０．６５ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．３
５ｇ、無水酢酸ナトリウム４１０ｇを水１０ｍＱに加え
、６０℃で３時間撹拌しながら反応させる。反応液を室
温まで冷却後、炭酸ナトリウム溶液でｐＨ８に調節する
。これをＨＰ−２０のカラムクロマトグラフィーに付し
、２０％メタノール溶液で溶出後凍結乾燥し、標題（７
）（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（１゜５−ジヒドロキシ−
４−ピリドン−２−イルメトキシイミノ）アセタミドコ
ー３− （１，２゜３−チアジアゾール−５−イルチオ
メチル）３−セフェム−４−カルボン酸をジナトリウム
塩として０．２ｇを得る。
（３）上記でえられた（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（５−
ヒドロキシ−４Ｈ−ピラン−４−オン−２−イルメトキ
シイミノ）アセタミドコー３− （１，２，３−チアジ
アゾール５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−力
ルボンｖ０．６５ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．３
５ｇ、無水酢酸ナトリウム４１０ｇを水１０ｍＱに加え
、６０℃で３時間撹拌しながら反応させる。反応液を室
温まで冷却後、炭酸ナトリウム溶液でｐＨ８に調節する
。これをＨＰ−２０のカラムクロマトグラフィーに付し
、２０％メタノール溶液で溶出後凍結乾燥し、標題（７
）（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（１゜５−ジヒドロキシ−
４−ピリドン−２−イルメトキシイミノ）アセタミドコ
ー３− （１，２゜３−チアジアゾール−５−イルチオ
メチル）３−セフェム−４−カルボン酸をジナトリウム
塩として０．２ｇを得る。
”Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳ○−ｄ６．δ）：３、２３ （２
Ｈ，ＡＢｑ） 、 ４．３０（２Ｈ，ＡＢｑ） 。
Ｈ，ＡＢｑ） 、 ４．３０（２Ｈ，ＡＢｑ） 。
４、９５ （ＬＨ，ｄ、、Ｊ＝５Ｈｚ） 、 ５．０５
（２Ｈ，ＡＢｑ） 。
（２Ｈ，ＡＢｑ） 。
５゜４８ （ＩＩ−Ｉ、 ｄ、 Ｊ＝５１１ｚ） 、
６．３９ （ＬＨ，ｓ） 。
６．３９ （ＬＨ，ｓ） 。
６．７９ （ＩＨ，ｓ）、７．３６ （ＬＨ，ｓ）。
８．９３ （ＬＨ，ｓ）
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 （式中、Ｒ＿１は水素原子またはアミノ基の保護基を、
Ｒ＿２は水素原子または水酸基の保護基を意味する。）
で表わされるピラノン化合物もしくはその反応性誘導体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2205256A JPH0491088A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ピラノン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2205256A JPH0491088A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ピラノン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0491088A true JPH0491088A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16503977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2205256A Pending JPH0491088A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | ピラノン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0491088A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100482668B1 (ko) * | 2002-06-22 | 2005-04-13 | 주식회사 태평양 | 히드록시 피라논 유도체 및 이의 제조방법 |
-
1990
- 1990-08-03 JP JP2205256A patent/JPH0491088A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100482668B1 (ko) * | 2002-06-22 | 2005-04-13 | 주식회사 태평양 | 히드록시 피라논 유도체 및 이의 제조방법 |
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