JPH04936B2 - - Google Patents

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JPH04936B2
JPH04936B2 JP17647783A JP17647783A JPH04936B2 JP H04936 B2 JPH04936 B2 JP H04936B2 JP 17647783 A JP17647783 A JP 17647783A JP 17647783 A JP17647783 A JP 17647783A JP H04936 B2 JPH04936 B2 JP H04936B2
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JP
Japan
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glass
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pbo
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zno
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JP17647783A
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JPS6071540A (ja
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Hisao Hatsuta
Mutsumi Myazaki
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Ohara Inc
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Ohara Inc
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Publication of JPH04936B2 publication Critical patent/JPH04936B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/0085Compositions for glass with special properties for UV-transmitting glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/102Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead
    • C03C3/108Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead containing boron

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、熱膨張係数(α×107/℃、100〜
300℃)が約27〜40の範囲にあり、また屈伏温度
が約750℃以上であつて耐熱・耐火性に優れ、ま
た安定性、化学的耐久性および紫外線透過性にも
優れているうえ溶融性が改善されたSiO2−B2O3
−Al2O3−MgO−BaO−ZnO−PbO系のホトマス
ク等の基板材料に用いるに適したガラスに関す
る。 近年、IC基板、ICホトマスクおよびストライ
プフイルター等の電子工業分野で用いられる基板
部材には、ガラスが多く利用されている。これら
のうちICホトマスク、すなわちホトエツチング
法によるIC製造工程で利用されるホトマスク基
板に対しては、泡・脈理およびインクルージヨン
等を含まない高い光学的均質性が一層要求され
る。また、同時に安定性に優れていることのほ
か、熱膨張係数の低いことがICの集積度をより
高める上で必要であり、さらに金属の蒸着工程等
におけるヒートサイクルでも破損や軟化変形する
ことのない耐熱・耐火性、様々の薬品による洗浄
やエツチング等に対する化学的耐久性、紫外線透
過性および集積回路対応図形の金属蒸着膜の付着
力等の性質に優れていることも必要である。 しかし、従来から上記用途に使用されるガラス
として、パイレツクス型のアルカリ硼珪酸ガラス
が知られているが、このガラスは、溶融の際、高
温を要するうえ均質化しがたく、また高アルカリ
含有のため金属膜の付着性に劣り、さらに屈伏点
が約650℃程度であつて耐火性が良好ではない。
また、フアイバー用Eガラス型や耐火性ガラス型
のカルシウム−アルミノ珪酸塩ガラスも種々知ら
れているが、これらのガラスは、いずれもCaOの
含有量を比較的多くしなければならないため、溶
融性は改善されるが、熱膨張係数が約42〜65であ
つて過大であり、このためICの集積度を高める
ことができず、また耐熱性に劣るという欠点があ
る。 そこで、本発明者らは、先に特願昭57−224957
号において、新たなSiO2−B2O3−Al2O3−MgO
−ZnO−PbO系ガラスを提案した。しかし、この
ガラスは熱膨張係数が小さいが、安定性の維持の
ため、ガラスの溶融を促進する成分の使用量が、
実際上、少量に制限されるので、ホトマスク等の
基板用ガラスとしては溶融性が十分とはいえな
い。そして、このガラスの溶融性をとくに改善す
る場合は、高価なLa2O3等の希土類元素やSb2O3
を比較的多量に添加する必要がある。 また、SiO2−Al2O3−CaO−MgO−ZnO−PbO
系のガラスが特開昭58−32038号および同58−
41736号において知られているが、ガラスの安定
性維持のためCaO成分を多量に含有させる必要が
あるため、上記カルシウム−アルミノ珪酸塩ガラ
スと同様熱膨張係数が過大である。 本発明の目的は、上述のガラスにみられる諸欠
点を総合的に改善して、上記所定の低熱膨張性と
高屈伏温度特性および優れた安定性、化学的耐久
性および紫外線透過性を維持させつつ、一段と優
れた溶融性を有するホトマスク等の基板用ガラス
を提供することにある。 本発明者らは、この目的を達成するため、鋭意
試験研究を行なつたところ、上記SiO2−B2O3
Al2O3−MgO−ZnO−PbO系ガラスにBaO必須成
分として導入すると、通常の耐火性ガラスに必須
的に用いられているCaOを導入する場合に比べ、
熱膨張係数を低下させつつガラスの安定性を一段
と向上させ得ることをみいだすことができた。ま
た、その結果ガラスの融剤効果を示す成分、すな
わち、ZnOおよびPbO成分の含有量を大幅に増大
させることができることをもみいだすことができ
た。本発明は、この知見に基づいて完成したもの
である。 本発明の基板用ガラスの組成の特徴は、重量%
で、SiO245〜60%、B2O30.5〜12%、Al2O310〜
22%、MgO5〜17%、CaO0〜5%、SrO0〜8
%、BaO1.5〜15%、ZnO1.5〜17%、PbO0.5〜10
%、ただし、ZnO+PbO≧6%、Ta2O5+Nb2O5
+La2O3+Gd2O3+Y2O3+Bi2O3+WO30〜7%、
ZrO2+TiO20〜5%、Na2O+K2O+Li2O0〜2.5
%、As2O30〜0.5%およびSb2O30〜0.5%を含有す
るところにある。 本発明のガラスにおいて、上記のように各成分
の含有量の範囲を限定した理由は、つぎのとおり
である。すなわち、SiO2成分は、ガラスの耐熱
性と化学的耐久性を向上させる効果があるが、本
発明の目的を達成するためには45%以上含有させ
る必要がある。しかし、その量が60%を超えると
溶融性が悪化し、均質なガラスを得がたくなる。 B2O3成分は、ガラスの溶融性を高めるので、
必要な成分であるが、その量が0.5%未満では上
記効果が現われず、また12%を超えるとガラスの
屈伏温度が低くなり、また熔融の際、B2O3の揮
発量が増し、組成が変動しやすくなる。 Al2O3成分の量は、ガラスの分相傾向を防止し
つつ所期の耐火性を得るため10%以上含有させる
必要があるが、その量が22%を超えるとガラスの
溶融性が悪くなる。 MgO成分は、ガラスの熱膨張係数を大きくす
ることなく溶融性を高める効果があるが、5%未
満の含有量では十分その効果が期待できず、また
17%を超えるとガラスは失透しやすくなる。 CaOおよびSrOの各成分は、ガラスの溶融性を
改善する効果があるので任意に添加し得るが、こ
れらの成分は下記BaO成分と異なり、ガラスの
熱膨張係数を過大にするうえ分相化や結晶化を抑
制する効果も小さい。従つて、これらの成分の量
は、それぞれ5%および8%以内にとどめる。 本発明において、BaO成分は、ガラスの熱膨
張係数を過大にすることなく、分相化と結晶化の
傾向を防止してガラスを安定化する効果がみいだ
された重要な成分である。しかし、BaO成分の
量が1.5%より少ないとその効果が顕著ではなく、
また15%を超えるとガラスの溶融性が悪化しやす
くなる。末尾に掲げた図面は、SiO253%、B2O37
%、Al2O315%、MgO12%、ZnO8%、および
PbO5%の基礎組成にBaOおよびCaO成分をそれ
ぞれ添加し、後述の各実施例と同様にしてガラス
を得た場合、添加量によるガラスの熱膨張係数と
安定性に与える影響を表わすもので、BaO添加
の場合はCaOの場合に比べガラスの熱膨張係数を
過大にすることなく、また少量で顕著な安定化効
果を示すとともに安定化領域の広いことを示して
いる。 ZnO成分は、ガラスの溶融性、化学的耐久性お
よび研磨性を向上させる効果があるので重要な成
分であるが、その量が1.5%未満であるとこれら
の効果が顕著でなく、また17%を超えるとガラス
は失透しやすくなる。 本発明のガラスにおいて、PbO成分は、溶融性
を向上しつつ失透傾向を防止する効果があるの
で、重要な成分であるが、PbO成分の量が0.5%
未満ではその効果が十分ではなく、また10%を超
えるとガラスの化学的耐久性が悪化するので好ま
しくない。 BaOを含有する本発明のガラスにおいては、
上述のとおり、融剤効果を有するZnOとPbO成分
の含有量を、失透傾向を防止しつつ、増大するこ
とが可能であるが、これらZnOおよびPbO成分の
合計量はガラスの溶融性改善のため、6%以上含
有させる必要がある。 Ta2O5、Nb2O5、La2O3、Gd2O3、Y2O3
Bi2O3およびWO3の各成分は、いずれもガラスの
熱膨張係数を低下させ、また溶融性を高める効果
があるので、必要に応じ、任意に添加し得るが、
これらの成分の一種または二種の合計量は7%以
内が適当である。 ZnO2およびTiO2の各成分は、ガラスの化学的
耐久性を向上し、また後者は溶融性と失透性をも
改善する効果があるので任意に添加し得るが、こ
れらの成分の一種または二種の合計量は5%まで
で十分である。 Na2OとK2Oの各成分は、ガラスの溶融性改善
のため任意に添加し得るが、ガラスの金属膜付着
性と低熱膨張性を維持するため、これらの成分の
一種または二種の合計量は2.5%以下とすること
が好ましく、またこれらの成分の総量の一部とし
てLi2O成分を0.5%まで使用し得る。 As2O3およびSb2O3の各成分は、ガラス溶融の
際の清澄剤として、それぞれ0.5%まで任意に添
加し得る。 つぎに、本発明のガラスの実施組成例をこれら
のガラスの線膨張係数(α(100−300℃)×107)、
屈伏点(At)、耐水性数値(RW(P))および耐
酸性数値(RW(P));〔粒度420〜590μmの破砕
粒を耐水性の場合は蒸留水に、また耐酸性の場合
は0.01N硝酸水溶液に浸漬し、これをそれぞれ沸
騰水浴中で60分間処理した後の破砕粒の重量減
(WT%)を示す〕、紫外線透過率(Tuv(%))
〔試料の厚さ10mm、測定波長;340nm〕および103
ポイズの粘度におけるガラスの温度(T(℃))に
ついての測定結果とともに表−1に示す。
【表】
【表】
【表】 表−1には、前記特願昭57−224957号明細書に
示されたガラスを比較例(No.およびNo.)
として掲げた。表−1に掲げたガラス例の測定試
験試料は、全て分相乳濁性をテストする目的も兼
ねて、溶融清澄工程の後、900℃20分間の熱処理
を行い、ついで冷却して得たものである。 なお、ガラスのαの値は、測定温度範囲によつ
て、変わるものであるが、本発明のガラスを含め
アルミノシリケート系のガラスでは測定温度範囲
が(100〜300℃)の場合に対し、例えば(50〜
200℃)の場合、一般にαは3〜5程度低い値を
示す。従つて、本発明のガラスのαの値は比較的
高目に出る温度範囲を採用している。 表−1にみられるとおり、本発明の実施例のガ
ラスは、分相や結晶を生ずることなく安定であつ
て透明であり、紫外線透過性に優れており、耐水
性や耐酸性にも優れている。また、本発明の実施
例のガラスは、線膨張係数が28〜40の範囲にあつ
て非常に低く同時に屈伏点も約750℃を超えてお
り、優れた耐熱・耐火性を有している。 さら
に、本発明の実施例のガラスは、いずれもBaO
成分の導入によつてZnOとPbO成分の総量の増大
が図られているため、無アルカリないし低アルカ
リ含有ガラスであるにも拘らず、溶融性の改善効
果が高いものである。103ポイズの粘度における
ガラスの温度は、比較例No.およびNo.のガ
ラスの場合、それぞれ1410℃および1430℃である
が、比較例のガラスと同程度のα値を有する実施
例No.1〜No.5のガラスは、それぞれ1300℃、
1330℃、1350℃、1310℃および1320℃であつて、
本発明の実施例のガラスは、他の実施例の場合も
含めて全般に一段と溶融性に富んでおり、均質化
操作が有利である。 本発明の基板用ガラスは、所定の酸化物ガラス
組成が得られるよう酸化物、炭酸塩および硝酸塩
等の原料を秤量混合し、これを通常のガラス製造
装置を用いて約1350〜1450℃で脱泡均質化した
後、所望形状に成形し、冷却して得ることができ
るが、溶融性改善にあたり、秤量原料は比較的安
価である利点がある。 以上に述べたとおり、本発明の基板用ガラス
は、特定組成範囲のSiO2−B2O3−Al2O3−MgO
−BaO−ZnO−PbO系ガラスであるから、低熱
膨張性および耐熱・耐火性はもとより、耐失透
性、化学的耐久性、紫外線透過性、電気絶縁性、
金属蒸着膜等被膜の付着性に優れているのみなら
ず、溶融性が一段と改善されるので、均質な製品
をより一層高い歩留りで安定して経済的に製造す
ることができる。このため、ホトマスク基板用ガ
ラスとして有用であり、また上記諸特性が要求さ
れる前記のIC基板およびストライプフイルター
等の電子基板部材として用いるにも適している。
【図面の簡単な説明】
第1図は、SiO2−B2O3−Al2O3−MgO−ZnO
−PbO系基礎ガラスにBaOおよびCaOをそれぞ
れ添加した場合のガラスの線膨張係数と安定性に
与える効果を示す比較図である。 図中、AはBaO添加、BはCaO添加の場合を
示し、●印は失透状態を○印は透明であることを
示している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量%で、SiO2 45〜60%、 B2O3 0.5〜12%、Al2O3 10〜22%、 MgO 5〜17%、CaO 0〜5%、 SrO 0〜8%、BaO 1.5〜15%、 ZnO 1.5〜17%、PbO 0.5〜10%、 ただし、ZnO+PbO≧6%、Ta2O5+Nb2O5
    La2O3+Gd2O3+Y2O3+Bi2O3+WO3 0〜7%、
    ZrO2+TiO2 0〜5%、Na2O+K2O+Li2O 0
    〜2.5%、As2O3 0〜0.5%、およびSb2O3 0〜
    0.5% を含有することを特徴とする基板用ガラ
    ス。
JP58176477A 1982-12-23 1983-09-26 基板用ガラス Granted JPS6071540A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58176477A JPS6071540A (ja) 1983-09-26 1983-09-26 基板用ガラス
US06/561,750 US4501819A (en) 1982-12-23 1983-12-15 Glass for a photomask
GB08333560A GB2134100A (en) 1982-12-23 1983-12-16 Glass for a photomask
DE3345943A DE3345943C2 (de) 1982-12-23 1983-12-20 Verwendung eines im wesentlichen SiO↓2↓, B↓2↓O↓3↓, Al↓2↓O↓3↓, MgO und PbO enthaltenden Glases für eine Photomaske und ein zusätzlich BaO und ZnO enthaltendes Glas dieses Systems

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JP58176477A JPS6071540A (ja) 1983-09-26 1983-09-26 基板用ガラス

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JPS6071540A JPS6071540A (ja) 1985-04-23
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JPS622259A (ja) * 1985-06-27 1987-01-08 Hoya Corp フオトマスクブランクとフオトマスク
DE69508706T2 (de) 1994-11-30 1999-12-02 Asahi Glass Co. Ltd., Tokio/Tokyo Alkalifreies Glas und Flachbildschirm
JP6694229B2 (ja) * 2014-10-08 2020-05-13 株式会社オハラ ガラス
EP4276079A3 (en) * 2017-06-29 2024-01-10 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass composition and glass product using same

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