JPH049461B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH049461B2 JPH049461B2 JP59162809A JP16280984A JPH049461B2 JP H049461 B2 JPH049461 B2 JP H049461B2 JP 59162809 A JP59162809 A JP 59162809A JP 16280984 A JP16280984 A JP 16280984A JP H049461 B2 JPH049461 B2 JP H049461B2
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- Japan
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- gas
- water
- dust
- ejector
- wall
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/2247—Sampling from a flowing stream of gas
- G01N1/2258—Sampling from a flowing stream of gas in a stack or chimney
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/2247—Sampling from a flowing stream of gas
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- G01N2001/2261—Sampling from a flowing stream of gas in a stack or chimney preventing condensation (heating lines)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ダストまたはダスト及び蒸気が多く
含まれている燃焼排ガスのガス分析装置に用いる
湿式ガスサンプリング装置に関するものである。
含まれている燃焼排ガスのガス分析装置に用いる
湿式ガスサンプリング装置に関するものである。
（従来の技術）
従来の水エゼクターを用いた湿式ガスサンプリ
ング装置は、第４図に示される様にボイラーの煙
道や各種熱処理炉の炉壁にガスサンプリング用プ
ローブ１を設置し、水エゼクター３のガス吸引能
力を利用してプローブ１よりガス導管２を通して
水エゼクターまで炉内排ガスを吸引する湿式ガス
サンプリング装置が用いられている。
ング装置は、第４図に示される様にボイラーの煙
道や各種熱処理炉の炉壁にガスサンプリング用プ
ローブ１を設置し、水エゼクター３のガス吸引能
力を利用してプローブ１よりガス導管２を通して
水エゼクターまで炉内排ガスを吸引する湿式ガス
サンプリング装置が用いられている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかし、この様な湿式ガスサンプリング装置で
は(1)サンプリングガス中にダストまたはダスト及
び蒸気が多く含まれている場合、水エゼクター３
におけるエゼクター駆動用の水の一部がガス導管
２の内壁に飛散し、この飛散した水にダストが付
着してガス導管２の内部が閉塞され、ガスサンプ
リングが出来なくなる。(2)サンプリングガス中に
ダスト及び蒸気が多く含まれている場合、プロー
ブ１やガス導管２の通過過程でサンプルガスが露
点温度以下に冷却されてプローブ１やガス導管２
の内壁部に結露し、この結露液にダストが付着し
てプローブ１やガス導管２の内部が閉塞され、ガ
スサンプリングが出来なくなる。等の問題があ
る。
は(1)サンプリングガス中にダストまたはダスト及
び蒸気が多く含まれている場合、水エゼクター３
におけるエゼクター駆動用の水の一部がガス導管
２の内壁に飛散し、この飛散した水にダストが付
着してガス導管２の内部が閉塞され、ガスサンプ
リングが出来なくなる。(2)サンプリングガス中に
ダスト及び蒸気が多く含まれている場合、プロー
ブ１やガス導管２の通過過程でサンプルガスが露
点温度以下に冷却されてプローブ１やガス導管２
の内壁部に結露し、この結露液にダストが付着し
てプローブ１やガス導管２の内部が閉塞され、ガ
スサンプリングが出来なくなる。等の問題があ
る。
（問題点を解決するための構成）
本発明は、従来のこの様な問題点を解決するた
めになされたものであり、定期的に簡易な保守を
実施するだけでダストによる閉塞を防止出来るサ
ンプリング装置を提供することを目的とする。
めになされたものであり、定期的に簡易な保守を
実施するだけでダストによる閉塞を防止出来るサ
ンプリング装置を提供することを目的とする。
この目的を達成するために本発明のガスサンプ
リング装置は、ガスサンプリング用のガス導管に
水エゼクターを連結した湿式ガスサンプリング装
置において、前記ガス導管およびプローブを加熱
保温する加熱保温器を設けるとともに、前記ガス
導管内部にガス導管内部を間欠的にエアーパージ
するポージ口を設け、さらに前記ガス導管と水エ
ゼクターとの間にダスト付着防止用の水洗器を設
け、該水洗器はその外壁に設けた水洗水を内部へ
導入するため水洗水入口とその内壁に設けた均一
の高さの水溜用の囲いとを有し、ガスサンプリン
グ時に、水洗器の内壁に亘つて水洗用の水を連続
的に流すようにしたことを特徴とするものであ
る。
リング装置は、ガスサンプリング用のガス導管に
水エゼクターを連結した湿式ガスサンプリング装
置において、前記ガス導管およびプローブを加熱
保温する加熱保温器を設けるとともに、前記ガス
導管内部にガス導管内部を間欠的にエアーパージ
するポージ口を設け、さらに前記ガス導管と水エ
ゼクターとの間にダスト付着防止用の水洗器を設
け、該水洗器はその外壁に設けた水洗水を内部へ
導入するため水洗水入口とその内壁に設けた均一
の高さの水溜用の囲いとを有し、ガスサンプリン
グ時に、水洗器の内壁に亘つて水洗用の水を連続
的に流すようにしたことを特徴とするものであ
る。
（実施例）
本発明に更に詳しい構成を一具体例を示す第１
図に基いて説明すれば、プローブ１は先端１Ａが
炉内に後端１Ｂが炉外に位置する様炉壁５に設置
される。プローブ後端１Ｂはガス導管２な接続さ
れる。ガス導管２は分岐され一方の端が水洗器４
のガス入口４Ａに接続された他方の端がパージ口
６に接続されておりまた水洗器４のガス出口４Ｂ
はエゼクター３に接続されている。炉壁５外に位
置するプローブ１およびガス導管２の外周はヒー
タ７および断熱材８で覆われ内部の温度をサンプ
ルガスの露点温度以下とならない様加熱保温され
ている。水洗器４は、水洗水入口４Ｃを有し内部
には水溜用の囲い４Ｄが均一の高さに設置され、
水洗器の内壁に亘つて全周を均一に水が流れる様
構成されている。エゼクター３は駆動水を駆動水
入口３Ａに送入することにより駆動され、サンプ
ルガスは、プローブ１、ガス導管２、水洗器４を
経由してエゼクター３に至り駆動水および水洗水
とともにエゼクター３の駆動水出口３Ｂより外部
へ送付される。
図に基いて説明すれば、プローブ１は先端１Ａが
炉内に後端１Ｂが炉外に位置する様炉壁５に設置
される。プローブ後端１Ｂはガス導管２な接続さ
れる。ガス導管２は分岐され一方の端が水洗器４
のガス入口４Ａに接続された他方の端がパージ口
６に接続されておりまた水洗器４のガス出口４Ｂ
はエゼクター３に接続されている。炉壁５外に位
置するプローブ１およびガス導管２の外周はヒー
タ７および断熱材８で覆われ内部の温度をサンプ
ルガスの露点温度以下とならない様加熱保温され
ている。水洗器４は、水洗水入口４Ｃを有し内部
には水溜用の囲い４Ｄが均一の高さに設置され、
水洗器の内壁に亘つて全周を均一に水が流れる様
構成されている。エゼクター３は駆動水を駆動水
入口３Ａに送入することにより駆動され、サンプ
ルガスは、プローブ１、ガス導管２、水洗器４を
経由してエゼクター３に至り駆動水および水洗水
とともにエゼクター３の駆動水出口３Ｂより外部
へ送付される。
以上の様に構成されたガスサンプリング装置で
は、たとえばサンプリングとともにダストが吸引
されたとしても (1) 炉壁５外に位置するプローブ１およびガス導
管２の内部は、ヒータ７および断熱材８でサン
プルガスの露点温度以下にならない様に加熱保
温されているために結露によりプローブ１およ
びガス導管２の内壁にダストが固着することは
なく、たとえダストが内壁に付着してもそのダ
ストは乾燥状態であるためパージ口より定期的
にエアパージするだけでプローブ先端１Ａより
ダストを炉内に吹き出して除去できる。
は、たとえばサンプリングとともにダストが吸引
されたとしても (1) 炉壁５外に位置するプローブ１およびガス導
管２の内部は、ヒータ７および断熱材８でサン
プルガスの露点温度以下にならない様に加熱保
温されているために結露によりプローブ１およ
びガス導管２の内壁にダストが固着することは
なく、たとえダストが内壁に付着してもそのダ
ストは乾燥状態であるためパージ口より定期的
にエアパージするだけでプローブ先端１Ａより
ダストを炉内に吹き出して除去できる。
(2) 水洗器に侵入したダストは水洗水が常時水洗
器の全面に亘つて流れているため付着すること
なくエゼクター３をへて外部に送付される。こ
のためエゼクター駆動水の飛水によるダスト付
着が防止できる。
器の全面に亘つて流れているため付着すること
なくエゼクター３をへて外部に送付される。こ
のためエゼクター駆動水の飛水によるダスト付
着が防止できる。
第２図および第３図に示される従来技術のサン
プリング装置と本発明のサンプリング装置を用い
てダストまたはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス
中の酸素濃度を分析した場合の比較において、従
来技術では第２図に示す如く分析開始後８時間で
ガス導管２の内壁にダストが附着し始め燃焼排ガ
スの吸引状態が悪くなり燃焼排ガス中のO2濃度
は殆んど一定でも分析装置の指示値は次第に高く
なつた。これに対し本発明では第３図に示す如く
１回／１日の頻度でエアパージをするだけで分析
装置の指示値は安定しており、ダスト付着に起因
するプローブ及びガス導管内部さらに水洗器内部
の閉塞は生じていない。
プリング装置と本発明のサンプリング装置を用い
てダストまたはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス
中の酸素濃度を分析した場合の比較において、従
来技術では第２図に示す如く分析開始後８時間で
ガス導管２の内壁にダストが附着し始め燃焼排ガ
スの吸引状態が悪くなり燃焼排ガス中のO2濃度
は殆んど一定でも分析装置の指示値は次第に高く
なつた。これに対し本発明では第３図に示す如く
１回／１日の頻度でエアパージをするだけで分析
装置の指示値は安定しており、ダスト付着に起因
するプローブ及びガス導管内部さらに水洗器内部
の閉塞は生じていない。
（効果）
以上述べたとおり本発明のガスサンプリング装
置はダストまたはダスト及び蒸気が多く含まれて
いるサンプリングガスでもプローブ及びガス導管
内部をさらに水洗器内部でのダスト付着に起因す
る閉塞を生じることなく長期間安定してガスサン
プリング出来るものであり工業上極めて有用なも
のである。
置はダストまたはダスト及び蒸気が多く含まれて
いるサンプリングガスでもプローブ及びガス導管
内部をさらに水洗器内部でのダスト付着に起因す
る閉塞を生じることなく長期間安定してガスサン
プリング出来るものであり工業上極めて有用なも
のである。
第１図は本発明のガスサンプリング装置の一具
体例を模式的に示す説明図、第２図は従来技術の
ガスサンプリング装置を用いてダストまたはダス
ト及び蒸気の多い燃焼排ガス中の酸素濃度を計測
した場合の分析計の指示値を推移を示す説明図、
第３図は本発明のガスサンプリング装置を用いて
ダストまたはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス中
の酸素濃度を計測した場合の分析計の指示値の推
移を示す説明図、第４図は従来のガスサンプリン
グ装置の一具体例を模式的に示す説明図である。 １……プローブ、１Ａ……プローブ先端、１Ｂ
……プローブ後端、２……ガス導管、３……エゼ
クター、３Ａ……駆動水入口、３Ｂ……駆動水出
口、４……水洗器、４Ａ……ガス入口、４Ｂ……
ガス出口、４Ｃ……水洗水入口、４Ｄ……囲い、
５……炉壁、６……パージ口、７……ヒータ、８
……断熱材。
体例を模式的に示す説明図、第２図は従来技術の
ガスサンプリング装置を用いてダストまたはダス
ト及び蒸気の多い燃焼排ガス中の酸素濃度を計測
した場合の分析計の指示値を推移を示す説明図、
第３図は本発明のガスサンプリング装置を用いて
ダストまたはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス中
の酸素濃度を計測した場合の分析計の指示値の推
移を示す説明図、第４図は従来のガスサンプリン
グ装置の一具体例を模式的に示す説明図である。 １……プローブ、１Ａ……プローブ先端、１Ｂ
……プローブ後端、２……ガス導管、３……エゼ
クター、３Ａ……駆動水入口、３Ｂ……駆動水出
口、４……水洗器、４Ａ……ガス入口、４Ｂ……
ガス出口、４Ｃ……水洗水入口、４Ｄ……囲い、
５……炉壁、６……パージ口、７……ヒータ、８
……断熱材。
Claims (1)
- １ ガスサンプリング用のガス導管に水エゼクタ
ーを連結した湿式ガスサンプリング装置におい
て、前記ガス導管およびプローブを加熱保温する
加熱保温器を設けるとともに、前記ガス導管内部
にガス導管内部を間欠的にエアーパージするパー
ジ口を設け、さらに前記ガズ導管と水エゼクター
との間にダスト付着防止用の水洗器を設け、該水
洗器はその外壁に設けた水洗水を内部へ導入する
ため水洗水入口とその内壁に設けた均一の高さの
水溜用の囲いとを有し、ガスサプリング時に、水
洗器の内壁に亘つて水洗用の水を連続的に流すよ
うにしたことを特徴とするダストまたはダスト及
び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16280984A JPS6141943A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16280984A JPS6141943A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141943A JPS6141943A (ja) | 1986-02-28 |
| JPH049461B2 true JPH049461B2 (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=15761631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16280984A Granted JPS6141943A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141943A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0471146U (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-24 | ||
| JPH0479245U (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | ||
| CN101975762B (zh) * | 2010-11-03 | 2012-11-07 | 煤炭科学研究总院重庆研究院 | 气体敏感元件防结露方法及装置 |
| CN105675356A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-06-15 | 湖南大唐节能科技有限公司 | 烟道烟气不对称取样装置 |
| CN107589054A (zh) * | 2017-09-01 | 2018-01-16 | 中煤科工集团重庆研究院有限公司 | 一种基于β射线吸收的烟尘浓度检测机构、系统及方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS557433B2 (ja) * | 1971-09-09 | 1980-02-25 | ||
| JPS5370896A (en) * | 1976-12-07 | 1978-06-23 | Hitachi Ltd | Sampling apparatus for continuous gas analysis |
-
1984
- 1984-08-03 JP JP16280984A patent/JPS6141943A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6141943A (ja) | 1986-02-28 |
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