JPH0494624A - 植物栽培装置 - Google Patents

植物栽培装置

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JPH0494624A
JPH0494624A JP2208017A JP20801790A JPH0494624A JP H0494624 A JPH0494624 A JP H0494624A JP 2208017 A JP2208017 A JP 2208017A JP 20801790 A JP20801790 A JP 20801790A JP H0494624 A JPH0494624 A JP H0494624A
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JP
Japan
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plant
cultivation
water
plants
cultivation tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP2208017A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyokazu Goto
後藤 清和
Shigemi Okamoto
繁實 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0494624A publication Critical patent/JPH0494624A/ja
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    • Y02P60/216

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  • Hydroponics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は植物栽培装置に関し、詳しくは水耕栽培と鉢植
え植物栽培の双方に好適とした植物栽培装置に関する。
(ロ)従来の技術 近年、水耕栽培と称する栽培技術が広く実用化されるよ
うになってきた。
水耕栽培は、建物内に栽培槽を配備し、養分液を栽培槽
に供給循環し、また太陽光の代わりに蛍光灯等を用いて
照射し、そして、栽培槽には根を養液に浸させるように
して、一つ一つの植物を支持させた植物育成板を並べて
、植物の成育を行なう。また、この植物育成板は植物の
成長にあわせて、順次一方向に移動するようにして、連
続的な収穫を可能ならしめている。例えば、同装置とし
ては、特開昭63−240731号公報に開示するもの
がある。
(ハ)発明の解決しようとする課題 面るに、上記公報に用いられている育成板は野菜専用板
であるため、レタス等の野菜の成育には好適であるが、
土、ロックウールや礫土等の用土を利用した鉢植え植物
、例えば、小鉢に植えた花・木等の植物には対応できな
い。
これは、水耕栽培では育成板を栽培水槽の液面より少し
上の位置(大気中)に置き、それにレタス等の野菜を挿
し入れ、根の上端部分を残して(葉上直下部分の根は大
気中に触れる)、その下の根部分は養液に没させて、直
接根からの水分吸収を行なうが、鉢植えの花・木等では
用土からの水分吸収を行なわせているので、単に育成板
に鉢を載せただけでは、鉢は水と接し得す、鉢植え物に
は不適である。
鉢植えのものを水耕的に栽培可能とするには、体上部分
を水没するように、それに対応した別の育成板を花・木
の種類に応じて育成板を作る必要が生じ、部品の数が膨
大となってしまう。
本発明は上記点に鑑み、簡単な方法によって水耕栽培に
適するレタス等の野菜に限らず、鉢植えの花・木等の栽
培も成し得るようにした植物栽培装置を提供することを
目的とする。
(ニ)課題を解決するための手段 本発明は、液を植物に供給すると共に、光源よりの光を
上記植物に照射して、上記植物を成長させるように構成
した植物栽培装置において、所定水位に液が供給されて
いる栽培槽と、レタス等の植物を水耕栽培する場合に、
その植物を保持して前記栽培槽の開口部に並置される植
物育成板とを設け、この植物育成板は前記開口部に反転
装着可能とされ、その反転時には鉢植え植物をその体上
部分を或る程度水没させた状態で載置できる載置板とし
て利用できるようにしたものであり、また。
栽培槽と、鉢植えの植物を載置して、前記栽培槽の開口
部に並置される植物育成板と、前記栽培槽の液位を上下
に水位制御できるようにした液循環装置とを備え、水の
上下水位によって鉢の底部を適宜時間水没させて、鉢植
え植物の栽培を可能としたものである。
(ホ)作用 通常の使用態様では、レタス等の野菜を植物育成板に保
持して、水槽の開口部に装着支持する。
この時、植物育成板は液面より少し上の位置にあって、
育成板上の野菜はその根元を除く根部分が全て水槽内に
浸されて、水耕栽培が行われる。植物育成板を反転する
と、それは水中に没するようになる。そして、この反転
された植物育成板に鉢植え植物を載置できるようになっ
ており、鉢を置カレると#下の部分が或る程度水没する
。これによって、鉢底より水を吸い上げ、体内の用土に
水分を与えることができ、これら鉢植え植物の栽培を行
う。
また、水位の上下調整によって、鉢の下部分を適当時間
水没させて、花・木に水を与えるようにしている。
(へ)実施例 第1図は本発明の実施例を示す構成図、第2図は養液の
循環路を含む栽培槽の外観構成図、第3図は植物育成板
の外観図であり、そして、第4図は反転使用して鉢植え
の植物に対応する場合の植物育成板の外観図を示す。
各図で1.1は植物栽培に適した例えば有機溶剤や銅イ
オンの摘出のない材料である5US304や塩化ビニル
製の長方形箱状の栽培槽で、建物2内に支持台2′によ
って間隔を存して二段重ねて水平に設置され栽培装置を
構成している。3は上段の栽培槽1に養液を供給する循
環ポンプで供給された養液は下段の栽培槽1ヘサイホン
4により自然落下して、再び循環ポンプ3によって上段
の栽培槽lに戻り、以下同様にして循環される。実施例
では栽培槽1は二段であるが、三段以上の多段方式とし
た場合は、循環ポンプ3により最上位の栽培槽1に供給
し、以下順次サイホン4を介して下方の栽培槽1へ自然
落下するように管路構成する。
そして、各栽培槽l内においては、養液の深さが例えば
1■(下限水位L)〜6an(上限水位H)になるよう
、前記サイホン4によって調節されている。
即ち、循環ポンプ3を連続または一定時間(例えば15
分)タイマー運転すると、養液が供給管5によって下段
栽培槽lから上段栽培槽1に送りこまれて、養液水位が
下限水位りからサイホン4が水封連通する上限水位Hま
で上段栽培槽1では上昇し、循環ポンプ3は停止する。
その時、下段栽培槽1では養液は下限水位りにある。そ
の後、サイホン4により養液の自然排出作用が起こり、
上段栽培槽1の養液水位が下限水位りになるまで引き続
いた後、停止する。一方、下段栽培槽1の養液水位は上
限水位Hに上昇している。
このように、循環ポンプ3は一定時間ONL、定時間O
FFするという間欠運転を行なう。こうしてサイホン作
用によって、各栽培槽1の養液水位が一定の範囲に液位
制御される。また、サイホン4は栓(図示せず)等を利
用して、栽培槽1の底部に挿通しているので、サイホン
4を上下させて最適水位を調整可能である。サイホン4
から排出水が下段の栽培槽1に導かれる。そして更に前
述した栓を取り外せば、養液を全て下段栽培槽lへ回収
できる。
ところで、栽培槽1には第2図に示すようにその長手方
向側面7,7の内側に、レール状の支持片8,8が栽培
槽1の上縁9より少し低い位置に形成されている。そし
て、この支持片8の上に、複数の植物育成板10.10
・が載せられる。前記植物育成板1゜はステンレス、ア
ルミ等の金属や樹脂部材等より成り、全体は第3図に示
すように二形に形成され、支持片8の上に載る鍔部13
.13を両端に有すると共に、長手方向の平面部14に
、苗1]ヲ受は入れる穴1.2.12・・・を有してい
る。そして、第4図のように反転使用された時には、支
持片8の上に係止するように鍔部13が載って支持され
る。平面部14は鍔部13より高い位置(Aの寸法)に
あり、一方、養液水位は最高、支持片8の位置の所まで
となる。よってこの空間高さAは植物の根による酸素吸
収に係る空気層を確保することを可能としている。
そして、前記植物育成板10の穴12に苗を取り付ける
には、例えばレタスにおいては、双葉から木葉が2〜3
枚出た状態になったレタスの根部上部をウレタン等で巻
きつけてそれを介しで挿入するようにする。
16は苗11の成長にあわせて植物育成板10が移動さ
れても、苗11の先端との間隔を一定に保って一定の照
度照射が行なわれるように吊下具17,17によって建
物2内に傾斜支持された蛍光灯である。
また、建物2内の温度を適温(例えば20℃)に保つた
め、圧縮機20、凝縮器21、空冷ファン22、そして
冷気通路23中に配される蒸発器24と逆風ファン25
とから或るエアコン装置19を装備している・更に、栽
培槽1内に空気を空気管路27を介して送りこむエアポ
ンプ26を設け、その先には図示しないがエアーストン
(気泡発生装置)を具備する問うして気泡状にして酸素
を送り込んで液中の酸素濃度を充分にしている。酸素0
2の取り入れは、液中の根15部分と前記空気層(Aの
空間領域)と触れている根元部分15′(第5図(b)
参照)より行われている。28は光と共に光合成のため
に必要な炭酸ガス濃度を建物2内に確保するために設け
られた炭酸ガス供給装置である。
以上の構成の栽培装置となっており、レタスおよびサラ
ダ菜等を栽培する時は、第5図(a)のように、支持片
8の上に植物育成板10の鍔部13を載置して、この植
物育成板10を使う。すると同図(b)に示すように、
この植物育成板10に支持されたレタスR等は空気溜(
高さへ寸法部分)に触れる根元部分15aを残して、そ
れより下方の根15は養液B中に没する。こうして、水
耕栽培がなされる5次に、この栽培装置によって、鉢C
植えの花や木等の鉢植え(園芸)植物Fを育成する場合
には、第4図および第6図(b)のように植物育成板1
0を反転して使う。すなわち、反転させて、栽培槽1に
装着して第6図(a)のようにすると、支持片8に鍔部
13が引っ掛ってその凹所となった平面部14に鉢Cを
乗せることができる。これによって#Cのした数σ(高
さ寸法A)が水没するようになる。栽培槽1内の養液中
の養分は鉢C底の穴より体内の用土に吸収されて、植物
Fに与えられる。
以上の実施例は植物育成板を反転利用して、鉢植え植物
に対応できるようにしたものであるが、植物育成板は反
転せず、その上に載せた鉢植え植物に養分供給を行なえ
るようにすることもできる。
その実施例を第7図および第8図に示す。
先ず、第7図において、栽培槽1の底部に排水パイプ3
0を、その上端が栽培槽底面より少し出た状態で取り付
ける。よって、この排水パイプ30の上端位置が、下限
水位りどなる。
一方、排水パイプ30の管径より相当大きい管径の給水
パイプ31を栽培槽1の片側に配備する。
この給水パイプ31は給水源(例えば水道管、水槽)に
繋ぎ、必要に応してポンプ等を用いて、栽培槽1に給水
させる。所定時間の給水を行なうと、排水量より給水量
が多いので、栽培槽1内の液位は所定の深さ位置まで増
えて、上限水位Hにいたる。給水が終わると、栽培槽1
内の水は排水パイプ30より排水されて、水位が徐々に
低下し、最終的に下限水位りどなって止まる。鉢植え植
物Fを植えた鉢Cを載置する植物育成板10は、栽培槽
1内の支持片8,8に両端の鍔部13.13を係止させ
て設けられている。
よって、給排水により水位が上限水位Hと下限水位りど
の間で変化する間に、#Cの底部部分は水没して、鉢底
よりの養分吸収が可能と或る。
排水パイプ30の取付位置や、給排水パイプ31,30
の径および給水時間等の調整によって、上下限水位を変
更して、鉢植え植物Fへの給水状況を加減できる。
次に第8図の構成について説明する。
この場合は、表面に適数、例えば二つの小孔32゜33
を上下に間隔を置いて、穿設された排水パイプ30Aを
用い、この小孔32.33の位置が、下限水位りとなり
、オーバーフローする排水パイプ30Aの上端口が上限
水位Hとなる。この二つの小孔32.33は栓等で選択
的に一方を塞いで、使用するものとなっており、塞ぐ小
孔32.33によって、下限水位りの調整を可能として
いる。
仮に、上の小孔32を栓で塞ぎ、下の小孔33を活用す
る場合として、給水パイプ31より給水を行なうと、上
限水位はオーバーフローする排水パイプ31の上端位置
で決定し、下限水位は給水停止後、徐々に排水がこの下
の小孔33より行なわれ、最終的にはこの下の小孔33
位置で止まる。
よって、この場合も、上下する水位によって、#Cはそ
の底部が適当時間水没状況となって、鉢C内の用土に養
液を与えることができる。
(ト)発明の効果 以上のように、本発明によれば、レタス等の野菜を保持
して、根を養液中に浸すようにして、水槽の開口部に並
置される水耕栽培用の植物育成板を反転利用可能な構造
として1反転すると鉢植えの花・木等の植物をその上に
載せることができ、かつ体上のある程度部分は水没して
、底から水吸い上げができる鉢植え植物の載置板とする
ことができるので、一つの植物育成板で野菜・花の二種
の植物の成育に極めて簡単に対応できる。
また、水位を上下に制御することで、鉢植えの植物に水
を簡単に与えることもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例である栽培装置の模式図、第2
図は養液の循環系をも含む二段の栽培槽の構造斜視図、
第3図は水耕栽培をするときに、その植物を差し入れ保
持する植物育成板の外観図、第4図は反転して鉢植えの
花・水等植物を置く載置板として利用する場合の植物育
成板の外観図、第5図(a)は植物育成板を水耕栽培用
として栽培槽に設置した状況における本発明栽培装置の
要部側面断面図、同図(b)はその正面断面図、第6図
(a)は鉢植え植物栽培用として植物育成板を栽培槽に
設置した状況における本発明栽培装置の要部側面断面図
、同図(b)はその正面断面図、第7図は水位制御によ
って土耕植物の栽培を行なえるようにした場合の説明図
、第8図は他の実施例による水位制御方法による場合の
説明図である。 1・・・栽培槽、8・・支持片、10・・植物育成板(
載置板)、11・・・苗、12・・・穴、13・・・鍔
部、R・ レタス、F・・・鉢植え植物、C・・鉢、上
下限水位、L・・下限水位。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)液を植物に供給すると共に、光源よりの光を上記
    植物に照射して、上記植物を成長させるように構成した
    植物栽培装置において、所定水位に液が供給されている
    栽培槽と、植物を水耕栽培する場合に、その植物を保持
    して前記栽培槽の開口部に並置される反転装着自在な植
    物育成板とを設け、この植物育成板の反転時には鉢植え
    植物をその鉢下部分を或る程度水没させた状態で載置で
    きる載置板として利用できるようにしたことを特徴とす
    る植物栽培装置。
  2. (2)液を植物に供給すると共に、光源よりの光を上記
    植物に照射して、上記植物を成長させるように構成した
    植物栽培装置において、栽培槽と、鉢植え植物を載置し
    て、前記栽培槽の開口部に並置される植物育成板と、前
    記栽培槽の液位を上下に水位制御できるようにした液循
    環装置とを備え、液の上下水位によって鉢の底部を適宜
    時間水没させて、鉢植え植物の栽培を可能としたことを
    特徴とする植物栽培装置。
JP2208017A 1990-08-08 1990-08-08 植物栽培装置 Pending JPH0494624A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2208017A JPH0494624A (ja) 1990-08-08 1990-08-08 植物栽培装置

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JP2208017A JPH0494624A (ja) 1990-08-08 1990-08-08 植物栽培装置

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JPH0494624A true JPH0494624A (ja) 1992-03-26

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ID=16549299

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JP2208017A Pending JPH0494624A (ja) 1990-08-08 1990-08-08 植物栽培装置

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103782887A (zh) * 2014-02-28 2014-05-14 凌爱秋 一种蔬菜无土栽培的方法
US11191223B2 (en) 2019-02-18 2021-12-07 Lg Electronics Inc. Apparatus for cultivating plants
US11382288B2 (en) 2019-02-18 2022-07-12 Lg Electronics Inc. Apparatus for cultivating plants
US11778964B2 (en) 2019-02-18 2023-10-10 Lg Electronics Inc. Apparatus for cultivating plants
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US12329076B2 (en) 2019-02-18 2025-06-17 Lg Electronics Inc. Apparatus for cultivating plants
US12532817B2 (en) 2019-02-18 2026-01-27 Lg Electronics Inc. Apparatus for cultivating plants

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