JPH0495240A - 光メモリ素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フォトクロミック材料を記録媒体として用い
る光メモリ素子に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、コンパクトディスク等の再生専用型の光メモリ素
子の他に、書替え可能な光メモリ素子の開発が進められ
、その内、光磁気ディスクは既に実用化されティる（Ａ
ＰＰＬＩＥＤ　０ＰＴＩＣ５／ＶＯＬ、２３．Ｎｏ。

２２／１９８４等を参照）。

この光磁気ディスクは、通常、基板上に希土類遷移合金
薄膜等の垂直磁化膜からなる磁気記録層、反射層及び保
護層を順次形成してなり、磁気記録層にレーザ光を照射
して昇温させながら外部磁場を印加することにより情報
の記録を行うとともに、磁気記録層からの反射光の偏光
面の回転方向を検出することにより情報の再生を行うも
のである。なお、上記基板には、予め、案内溝又はプリ
フォーマットピット等の凹凸パターンが設けられる。

又、光磁気ディスク以外の書替え可能型の光メモリ素子
として、２波長の光を照射することにより、それぞれ記
録及び再生を行うフォトクロミック材料を用いるものが
研究されている。その場合、第３図に示すように、ポリ
カーボネイト等の透光性の基板ｌ上に、記録媒体として
のフォトクロミック材料を分散させた透光性の樹脂層か
らなる記録層２を形成し、更に、この記録層２上に反射
層３を形成した構成とすることが考えられる。なお、１
１１の表面には、トラッキング用の案内溝４等の凹凸パ
ターンが予め設けられる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、上記した光磁気ディスクにおいては、案内溝
等の凹凸パターンの設けられた基板と、磁気記録層との
間に屈折率の差があるので、案内溝によるトラッキング
情報等は支障なく再生できるが、フォトクロミンク材料
を用いた第３図の光メモリ素子では、案内溝４等の設け
られた基板１と、記録層２との間の屈折率の差が小さい
ので、案内溝４・４・・・によるトラッキング情報等を
安定的に再生することが困難となる問題がある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係る光メモリ素子は、上記の課題を解決するた
めに、透光性の基板と、フォトクロミンク材料を混入さ
せた透光性の樹脂からなり、上記基板上に形成されると
ともにその表面に凹凸パターンが設けられた記録層と、
記録層上に形成される反射層とを備えていることを特徴
とするものである。

〔作　用〕

上記の構成によれば、フォトクロミック材料を混入させ
た透光性の樹脂層からなる記録層の表面に凹凸パターン
を設けているが、この記録層と、記録層を覆う反射層と
の間では充分な屈折率の差が存在するので、凹凸パター
ンによるトランキング情報等が正確に再生できるように
なる。

〔実施例１〕 本発明の一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。

第１図（ｄ）に示すように、光メモリ素子としての光デ
ィスク１０は、ポリカーボネイト等の樹脂又はガラスか
らなり、中央に孔１１ａが設けられた透光性の基板１１
（例えば、厚み１．２ｍｍ）と、基板１１上に形成され
た記録層１２と、記録層１２上に形成された反射層１３
と、反射層１３を被覆する保護層１４とを備えている。

記録層１２の表面には、案内溝１５・１５・・・又は図
示しないプリフォーマットビット等の凹凸パターンが形
成されている。

記録層１２は紫外線硬化型樹脂等の透光性を有する樹脂
層内にフォトクロミック材料を混入して分散させてなる
もので、記録層１２の厚みは、例えば、５０μｍ以下と
される。分散させるフォトクロミック材料としては、例
えば、ヒドラゾン、オサゾン、スチルベン、サリチルア
ルデヒド、スピロピラン、フルギド、アゾベンゼン及び
それらの誘導体等の化合物を使用することができる。母
材となる樹脂として紫外線硬化型樹脂を使用する場合、
この紫外線硬化型樹脂に対して１０〜５０重量％のフォ
トクロミック材料を混合するのが好ましい。

上記の構成において、光ディスク１０に対する記録、再
生及び消去は、記録時と再生及び消去時とにそれぞれ波
長の異なる光を照射することにより行われる。すなわち
、記録層１２に含まれるフォトクロミック材料は、初期
状態では通常無色であり、これに短波長の光を照射する
ことにより発色して記録が行われ、長波長の光を照射す
ることにより再度無色状態となって情報が消去される。

又、発色状態（記録状態）で長波長の光を微弱な強度で
照射することにより、情報を消去することなく再生でき
る。

従って、短波長の光と長波長の光をそれぞれ発生する２
種類のレーザを有する光ヘッドにより、記録、再生が行
われる。なお、トラッキングエラーの検出は案内溝１５
からの反射光強度と、案内溝１５・１５間のランド部か
らの反射光強度が相違することに基づいて行われる。

次に、光ディスク１０の製造手順を簡単に説明する。

第１図（ａ）に示すように、まず、基板１１とスタンパ
１６との間にフォトクロミンク材料を混入して分散させ
た透光性の樹脂層１２゛を挟み込み、樹脂層１２”の表
面に案内溝１５・１５・・・等の凹凸パターンに対応し
た転写形状を有する上記スタンパ１６を押圧しながら基
板１１を通して紫外線１７・１７・・・を照射すること
により樹脂層１２゛を硬化させ、記録層１２を形成した
後、スタンパ１６を剥離する（同図Ｑ）））。なお、フ
ォトクロミンク材料を分散させる樹脂１ｉ１２“とじて
紫外線硬化型樹脂を使用すると、例えば、ポリメチルメ
タクリレート又はポリスチレン等を使用する場合に比べ
てフォトクロミック材料に記録された情報が長期間保持
され、いわゆる着色安定性が向上するので、好適である
。

続いて、Ａｆ等からなる反射層１３を蒸着、スパッタリ
ング等により形成しく同図（Ｃ））、更に、紫外線硬化
樹脂等により保護層１４を形成（同図（ｄ））する。

〔実施例２〕 次に、本発明の第２実施例を説明する。

第２図（ｅ）に示すように、この実施例の光ディスク２
０（光メモリ素子）は、ポリエステルフィルム等からな
り、透光性及び可撓性を有するとともに、中央に孔２１
ａが設けられた可撓性基板２１（厚みは１０〜１００μ
ｍ程度）と、紫外線硬化型樹脂等の透光性の樹脂内にフ
オトクロミ・ンク材料を混入して分散させてなり、基板
２１上に形成された記録層２２と、Ａｆ等からなり、記
録層２２上に形成された反射１ｉ！２３と、紫外線硬化
型樹脂等からなり、反射層２３を覆う保護層２４とを備
え、光ディスク２０全体が可撓ディスクとして構成され
ている。なお、記録、再生及び消去方式は第１実施例と
同様であるから説明を省略する。

次に、光ディスク２０の製造手順につき簡単に述べる。

第２図（ａ）に示すように、まず、可視性基板２１とス
タンパ２６との間にフォトクロミック材料を分散させた
透光性の樹脂層２２゛を挟み込み、樹脂層２２゛の表面
に案内溝２５・２５・・・等の凹凸パターンに対応した
転写形状を有する上記スタンパ２６を押圧しながら基板
２１を通して紫外線２７・２７・・・を照射することに
より樹脂層２２゛を硬化させ、記録層２２を形成した後
、スタンパ２６を剥離する（同図（ｂ））。

次に、基板２１及び記録層２２の各中央部に孔２１ａ・
２２ａを明けるとともに、基板２１及び記録層２２の外
周部を切り取って円板状に形成する（同図（Ｃ））。

続いて、Ａ２等からなる反射層２３を蒸着、スパッタリ
ング等により形成しく同図（ｄ））、更に、紫外線硬化
樹脂等により保護Ｎ２４を形成する（同図（ｅ））。

なお、光ディスク２０を円板状に切り取り、かつ、中央
に孔を明ける工程は、例えば、反射層２３の形成後に行
っても良く、或いは保護層２４の形成後に行っても良い
。

上記の各実施例では、光ディスク１０・２０を例示して
説明したが、本発明は、光デイスク以外に光カード等の
光メモリ素子にも適用できるものである。

〔発明の効果〕

本発明に係る光メモリ素子は、以上のように、透光性の
基板と、フォトクロミンク材料を混入させた透光性の樹
脂からなり、上記基板上に形成されるとともにその表面
に凹凸パターンが設けられた記録層と、記録層上に形成
される反射層とを備えている構成である。

これにより、フォトクロミック材料を混入させた透光性
の樹脂からなる記録層の表面に凹凸パターンを設けてい
るが、この記録層と反射層との間では充分な屈折率の差
が存在するので、凹凸パターンによるトラッキング情報
等が正確に再生できるようになるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すものである。 第１図（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ光ディスクの製造工程
を示す概略縦断面図である。 第２図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ本発明の第２実施例に
おける光ディスクの製造工程を示す概略縦断面図である
。 第３図はフォトクロミック材料を用いた光ディスクの概
略縦断面図である。 １１・２１は基板、１２・２２は記録層、１２゜・２２
′は樹脂層、１３・２３は反射層、１５・２５は案内溝
（凹凸パターン）である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、透光性の基板と、フォトクロミック材料を混入させ
   た透光性の樹脂からなり、上記基板上に形成されるとと
   もにその表面に凹凸パターンが設けられた記録層と、記
   録層上に形成される反射層とを備えていることを特徴と
   する光メモリ素子。