JPH049725Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH049725Y2 JPH049725Y2 JP18313986U JP18313986U JPH049725Y2 JP H049725 Y2 JPH049725 Y2 JP H049725Y2 JP 18313986 U JP18313986 U JP 18313986U JP 18313986 U JP18313986 U JP 18313986U JP H049725 Y2 JPH049725 Y2 JP H049725Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- holder
- ionization chamber
- layer liquid
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本考案は質量分析装置を用いて薄層液体クロマ
トグラフプレート上に展開された試料を分析する
のに適したイオン源に関する。
トグラフプレート上に展開された試料を分析する
のに適したイオン源に関する。
［従来の技術］
近時、液体試料を展開した薄層液体クロマトグ
ラフプレートを、直接、質量分析装置のイオン源
内に導入し、展開された各試料を一次粒子ビーム
照射にてイオン化させ、それによつて生じたイオ
ンを質量分析系で質量分析することによつて試料
の同定や定量分析を行なうようにした装置が提案
されている。
ラフプレートを、直接、質量分析装置のイオン源
内に導入し、展開された各試料を一次粒子ビーム
照射にてイオン化させ、それによつて生じたイオ
ンを質量分析系で質量分析することによつて試料
の同定や定量分析を行なうようにした装置が提案
されている。
ここで、前記薄層液体クロマトグラフプレート
としてはその形状が幅10mm×長さ60mm×厚さ0.5
mm程度のものが使用される。そのため、薄層液体
クロマトグラフプレートをイオン源内のイオン化
室に挿入した後、一次粒子ビームに対して薄層液
体クロマトグラフプレートを50mm程度の距離移動
させないと、薄層液体クロマトグラフプレート上
に展開された各試料をイオン化することができな
い。
としてはその形状が幅10mm×長さ60mm×厚さ0.5
mm程度のものが使用される。そのため、薄層液体
クロマトグラフプレートをイオン源内のイオン化
室に挿入した後、一次粒子ビームに対して薄層液
体クロマトグラフプレートを50mm程度の距離移動
させないと、薄層液体クロマトグラフプレート上
に展開された各試料をイオン化することができな
い。
［考案が解決しようとする問題点］
このように薄層液体クロマトグラフプレートを
移動させる場合には、一次粒子ビームと薄層液体
クロマトグラフプレートとの位置関係を保つた
め、薄層液体クロマトグラフプレートの移動を規
制する機構が必要となる。
移動させる場合には、一次粒子ビームと薄層液体
クロマトグラフプレートとの位置関係を保つた
め、薄層液体クロマトグラフプレートの移動を規
制する機構が必要となる。
一方、薄層液体クロマトグラフプレートにリペ
ラ電圧を供給し、試料への一次粒子ビーム照射に
基づいて発生するイオンを質量分析部へ効率良く
導入する必要がある。そのため、移動する薄層液
体クロマトグラフプレートにリペラ電圧を供給す
るリペラ電圧供給機構が必要となる。
ラ電圧を供給し、試料への一次粒子ビーム照射に
基づいて発生するイオンを質量分析部へ効率良く
導入する必要がある。そのため、移動する薄層液
体クロマトグラフプレートにリペラ電圧を供給す
るリペラ電圧供給機構が必要となる。
そこで、本考案はかかる要求を満足させるため
薄層液体クロマトグラフプレートの位置及び移動
方向規制機構をリペラ電圧供給機構の電極として
利用することにより構成を簡略化したイオン源を
提供することを目的とするものである。
薄層液体クロマトグラフプレートの位置及び移動
方向規制機構をリペラ電圧供給機構の電極として
利用することにより構成を簡略化したイオン源を
提供することを目的とするものである。
［問題点を解決するための手段］
上記目的を達成するために、本考案は試料を付
着させたプレートを保持したホルダをイオン化室
内で移動させ、前記プレート上に展開された試料
を一次粒子ビーム照射位置に順次配置してイオン
化させるようにしたイオン源において、前記ホル
ダの位置及び移動方向を規制する手段をイオン化
室に対して電気的に絶縁した状態で取付けると共
に、該規制手段を介して前記ホルダにリペラ電圧
を供給するための電源を設けてなるイオン源。
着させたプレートを保持したホルダをイオン化室
内で移動させ、前記プレート上に展開された試料
を一次粒子ビーム照射位置に順次配置してイオン
化させるようにしたイオン源において、前記ホル
ダの位置及び移動方向を規制する手段をイオン化
室に対して電気的に絶縁した状態で取付けると共
に、該規制手段を介して前記ホルダにリペラ電圧
を供給するための電源を設けてなるイオン源。
以下、本考案の実施例を図面に基づき詳説す
る。
る。
［実施例］
第１図は本考案の一実施例を示す縦断面図、第
２図は第１図のAA断面図である。
２図は第１図のAA断面図である。
両図において、１は図示外のイオン源内に設け
られた断面コの字状のイオン化室、２はスリツト
群、３は薄層液体クロマトグラフプレート、４は
そのホルダで、絶縁物５を介して支持棒６に取付
けられており、また、このホルダの下面には断面
Ｖ状の長溝７が形成してある。この長溝の長手方
向はホルダの移動方向と一致している。８は前記
イオン化室１のホルダ４の入口側に設けられた押
え板で、この押え板の直下に設けた圧縮コイルバ
ネ９により上方に押圧された押し棒１０との組合
わせにより前記ホルダ４の位置及び移動方向を規
制するためのものである。また、この押え板８の
薄層液体クロマトグラフプレート３と対向する部
分には凹部８ａが形成され、両者が接触しないよ
うにしてある。１１は前記押し棒９を上下動可能
に保持するためのシリンダで、このシリンダは板
体１２を介して前記イオン化室１に取付けられて
いる。前記板体１２とイオン化室１との間には絶
縁体１３が介在され、イオン化室と押し棒９とが
電気的に遮断されている。１４はリペラ電圧用電
源で、前記板体１２に接続されている。
られた断面コの字状のイオン化室、２はスリツト
群、３は薄層液体クロマトグラフプレート、４は
そのホルダで、絶縁物５を介して支持棒６に取付
けられており、また、このホルダの下面には断面
Ｖ状の長溝７が形成してある。この長溝の長手方
向はホルダの移動方向と一致している。８は前記
イオン化室１のホルダ４の入口側に設けられた押
え板で、この押え板の直下に設けた圧縮コイルバ
ネ９により上方に押圧された押し棒１０との組合
わせにより前記ホルダ４の位置及び移動方向を規
制するためのものである。また、この押え板８の
薄層液体クロマトグラフプレート３と対向する部
分には凹部８ａが形成され、両者が接触しないよ
うにしてある。１１は前記押し棒９を上下動可能
に保持するためのシリンダで、このシリンダは板
体１２を介して前記イオン化室１に取付けられて
いる。前記板体１２とイオン化室１との間には絶
縁体１３が介在され、イオン化室と押し棒９とが
電気的に遮断されている。１４はリペラ電圧用電
源で、前記板体１２に接続されている。
かかる構成において、試料液を展開した薄層液
体クロマトグラフプレート３をホルダ４の上面に
固定した状態で、支持棒６を押すことによりホル
ダ４をイオン源内に一定速度で挿入すると、先
ず、第３図にその状態を示すようにホルダ４先端
の上面及び下面が夫々押え板８の下面及び押し棒
１０の先端と係合する。そして支持棒６をさらに
挿入すると、押し棒１０がホルダに形成したテー
パに沿つて押し下げられ、その先端が長溝７内に
嵌合されるため、コイルバネ９の押圧力によりホ
ルダ４が押え板８に押付けられ、ホルダの位置及
び移動方向が規制される。このとき、電源１４か
らのリペラ電圧が板体１２及び押し棒１０を介て
前記ホルダ４に印加される。そして、長溝７と押
し棒１０とをガイドにしてホルダ４を第３図中矢
印Ｂ方向に移動すれば、薄層液体クロマトグラフ
プレート３に展開された各試料が第２図で示す一
次粒子ビーム１５の照射位置に順次送られ、イオ
ン化される。このイオン化によつて生成された試
料イオンＩはホルダ４に印加されたリペラ電圧及
びスリツト群２によつてイオン化室１から取出さ
れ、質量分析部へ導入され質量分析される。
体クロマトグラフプレート３をホルダ４の上面に
固定した状態で、支持棒６を押すことによりホル
ダ４をイオン源内に一定速度で挿入すると、先
ず、第３図にその状態を示すようにホルダ４先端
の上面及び下面が夫々押え板８の下面及び押し棒
１０の先端と係合する。そして支持棒６をさらに
挿入すると、押し棒１０がホルダに形成したテー
パに沿つて押し下げられ、その先端が長溝７内に
嵌合されるため、コイルバネ９の押圧力によりホ
ルダ４が押え板８に押付けられ、ホルダの位置及
び移動方向が規制される。このとき、電源１４か
らのリペラ電圧が板体１２及び押し棒１０を介て
前記ホルダ４に印加される。そして、長溝７と押
し棒１０とをガイドにしてホルダ４を第３図中矢
印Ｂ方向に移動すれば、薄層液体クロマトグラフ
プレート３に展開された各試料が第２図で示す一
次粒子ビーム１５の照射位置に順次送られ、イオ
ン化される。このイオン化によつて生成された試
料イオンＩはホルダ４に印加されたリペラ電圧及
びスリツト群２によつてイオン化室１から取出さ
れ、質量分析部へ導入され質量分析される。
尚、前述の説明は本考案の一例を示すもので、
実際の実施にあたつては幾多の変形が考えられ
る。例えば押し棒１０の先端にローラを回転可能
に取付ければ、ホルダの移動をスムーズに行なわ
せることができる。
実際の実施にあたつては幾多の変形が考えられ
る。例えば押し棒１０の先端にローラを回転可能
に取付ければ、ホルダの移動をスムーズに行なわ
せることができる。
［効果］
以上詳述した如く本考案においては、薄層液体
クロマトグラフプレートを保持したホルダの位置
及び移動方向を規制する手段をイオン化室に対し
て電気的に遮断した状態で取付け、この手段をホ
ルダへのリペラ電圧印加用の電極として兼用させ
るため、構成の簡略化、かつ小形化を図ることが
できる。
クロマトグラフプレートを保持したホルダの位置
及び移動方向を規制する手段をイオン化室に対し
て電気的に遮断した状態で取付け、この手段をホ
ルダへのリペラ電圧印加用の電極として兼用させ
るため、構成の簡略化、かつ小形化を図ることが
できる。
第１図は本考案の一実施例を示す縦断面図、第
２図は第１図のAA断面図、第３図は本考案の動
作を説明するための図である。 １……イオン化室、２……スリツト群、３……
薄層液体クロマトグラフプレート、４……ホル
ダ、５……絶縁物、６……支持棒、７……長溝、
８……押え板、９……圧縮コイルバネ、１０……
押し棒、１１……シリンダ、１２……板体、１３
……絶縁体、１４……電源、１５……一次粒子ビ
ーム。
２図は第１図のAA断面図、第３図は本考案の動
作を説明するための図である。 １……イオン化室、２……スリツト群、３……
薄層液体クロマトグラフプレート、４……ホル
ダ、５……絶縁物、６……支持棒、７……長溝、
８……押え板、９……圧縮コイルバネ、１０……
押し棒、１１……シリンダ、１２……板体、１３
……絶縁体、１４……電源、１５……一次粒子ビ
ーム。
Claims (1)
- 試料を保持させたプレートを保持したホルダを
イオン化室内で移動させ、前記プレート上に展開
された試料を一次粒子ビーム照射位置に順次配置
してイオン化させるようにしたイオン源におい
て、前記ホルダの位置及び移動方向を規制する手
段をイオン化室に対して電気的に絶縁した状態で
取付けると共に、該規制手段を介して前記ホルダ
にリペラ電圧を供給するための電源を設けてなる
イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18313986U JPH049725Y2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18313986U JPH049725Y2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6387763U JPS6387763U (ja) | 1988-06-08 |
| JPH049725Y2 true JPH049725Y2 (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=31129598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18313986U Expired JPH049725Y2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH049725Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP18313986U patent/JPH049725Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6387763U (ja) | 1988-06-08 |
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