JPH049876B2 - - Google Patents
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- JPH049876B2 JPH049876B2 JP61083830A JP8383086A JPH049876B2 JP H049876 B2 JPH049876 B2 JP H049876B2 JP 61083830 A JP61083830 A JP 61083830A JP 8383086 A JP8383086 A JP 8383086A JP H049876 B2 JPH049876 B2 JP H049876B2
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- strip
- plating
- liquid
- electrode
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
現在、電気メツキ方法には下記に示すような方
式がある。 (1) 水平型、横サイドからの噴流方式 (2) 水平型、ライン方向からの噴流方式 (3) 水平型、下面及び上面からの噴流方式 (4) 竪型、浸漬、下面からの噴流方式 (5) 竪型、浸漬、ストリツプ直前の噴流方式 (6) 竪型、浸漬、下面及び上面交互の噴流方式 等がある。しかしこれらの方式では、 (1) 片面メツキの際、メツキしない方にも薄くメ
ツキされる。 (2) ストリツプの両端にメツキしたくない面でも
10mm程度メツキが付着する。 (3) 板巾方向に流速分布を均一に確保できない
為、メツキ層の特性が均一に確保できない。 (4) 両面メツキの際、両端にメツキ部が多く付着
する。 等、問題が多かつた。 又、特開昭59−89792は、金属層をストリツプ
メタルの片面、又は両面に連続的に電気メツキす
る際、重力によつてメツキ液を非水平方向でスト
リツプとアノード間に流す方法を開示している。 しかし、この方法は単純に重力のみによつてメ
ツキ液を流すので、アノード上部と下部の水位差
をａとすると√2の流速差が生じる。ただしｇ
は重力で、9.8ｍ／sec2である。 例えばアノード上部の流速はほぼ０ｍ／secで
あるのに対し1000mm下では4.42ｍ／secとなる流
速比率の大きな違いが生じる。 このように流速比率が大きく異なると、合金め
つき、例えば亜鉛−鉄合金メツキに於いてはメツ
キ層中のFe含有率分布が大きく異なり、メツキ
層の腐食性、塗装二次密着性、メツキ剥離性等に
大きな問題となる。 更に垂直パスに於てはアツプパスでのストリツ
プとの相対流速とダウンパスでの相対流速との差
がライン速度の２倍の違いとなり、亜鉛−鉄合金
メツキ、亜鉛−Niの合金メツキ等で品質上の問
題を生じる。 又、重力だけでメツキ液を落下させるので、そ
の速度が限定され、ライン速度が速くなるとアツ
プパスでは液が上流に吹き上る問題が生じる。例
えば、ライン速度が120ｍ／minでは秒速２ｍ／
secとなりアノード上部でＶ＝√2により２
ｍ／sec以下の液位部ではメツキ液が上に持ちあ
げられ、アノードとストリツプ間にメツキ液が完
全に充満されず、この結果、気相を巻き込んでメ
ツキのピンホールを生ずる。 （発明が解決しようとする技術的課題） この発明は、小さな設備でストリツプと電極と
の間隙の長手方向に対してメツキ液をほぼ均一に
流し、しかも気相の巻き込みを防止してとくに合
金メツキ等の品質を向上し、電力費の低減を図る
ことができ、更に片面ずつのメツキが容易に品質
良く製造でき、ストリツプ両端部のメツキオーバ
ーコートを防止出来、メツキ抵抗電圧の少いメツ
キが出来、しかも低、中速ラインに限らず高速ラ
インにも適用できる電気めつき方法及び装置を提
供することを目的としている。 （技術的課題を解決する手段） 第１の発明は、ストリツプを、垂直又は、所定
角度傾斜して配置した電極に沿いかつ電極と一定
の間隙をもつて走行せしめ、同時に電極の上方に
設置したノズルから、電極とストリツプとの間隙
にメツキ液を所望流速で強制的に流下させてスト
リツプをメツキし、かつノズルの設置個所と上記
間隙の間をメツキ液でシールしている電気メツキ
方法である。 第２の発明は、ストリツプが、垂直又は所定角
度傾斜して配置した電極に沿い、かつこの電極と
一定の間隙をもつて走行してストリツプのメツキ
を行う電気めつき装置において、電極の上方に配
置され、電極とストリツプとの間隙にメツキ液を
所望流速で強制的に流下させるノズルと、ノズル
の設置個所と上記間隙の上部との間をメツキ液で
シールするシール機構とを具備した電気メツキ装
置である。 更に第３の発明は、第２の発明にストリツプ幅
又はストリツプ蛇行量を検出し、この検出値にも
とづいて上記シール機構のシール幅及びノズルか
ら噴出されるメツキ液の噴流幅を調整する調整機
構とを付加した電気メツキ方法である。 （実施例） 第１図はこの発明の一実施例を示す電気メツキ
装置の概略図、第２図は同装置の要部拡大図であ
る。この装置は、複数の竪型メツキ槽１０を一列
に配置し、各メツキ槽１０内にそれぞれ２対のア
ノード電極１１，１１及び１２，１２を垂直方向
に（又は所定角度傾斜して）配置し、ストリツプ
１３を垂直にアノード電極１１，１１間に上方か
ら導入して下方へ導出し、ロール１４を通つてア
ノード電極１２，１２に下方から導入して上方へ
導出し、しかる後次のメツキ槽１０に導くもので
ある。一方メツキ液はノズルヘツダ１５を経てス
トレート型ノズル１６から電極１１，１１とスト
リツプ１３との間隙に噴出される。メツキ液は、
上記間隙を通つた後メツキ液槽１７に入る。ノズ
ル１６，１８から噴出するメツキ液は、初速吹出
し速度１ｍ／sec以上、実用的には２ｍ／sec〜８
ｍ／secとして、吹出す。ノズル１６，１８から
の吹付け角度は、ストリツプ１３の走行方向を０
度とすると、０〜70°、望ましくは０〜45°とす
る。メツキ液の吹出し部には、ストリツプ１３と
接触する部分に第２図に示すシール機構を設置し
てメツキ液吹出し時に生じ易くなる空気巻き込み
現象を防ぐようにしている。このシール機構で
は、シール液（メツキ液と同組成）をポンプ１８
からバルブV1又はV2を経て、シール液供給ボツ
クス１９に送る。ボツクス１９内のシール液は、
液面調整ゲート２０を経てシール液貯蔵部２１に
溜められる。この貯蔵部２１は、電極１１又は１
２とストリツプ１３との間隙に液体シールスロー
ト部２２を介して連通している。そしてこのスロ
ート部２２によつて液体シールを行う。 液体シールスロート部２２は出来るだけ狭い間
隔とするのがよい。実験結果から空気の侵入を防
止しうるスロート部２２の適正シール間隔d1はノ
ズルからの噴流速度V0ｍ／sec、液面維持ポンプ
吐出量Ｑm3／secとすると、 d1＝ｆ×（Ｑ／V0）（ｆは実験係数） の関係となり一般には（d1は３mmから８mmであ
り、）d1が大き過ぎるとエヤーがメツキ液中に侵
入し、良好なメツキ条件が維持できなくなる。 スリツプ１とアノード電極１１又は１２の間に
出来るだけ均一な流速と適正な所定の流速を維持
して良好なメツキ条件を確保する為には、ストレ
ート型ノズル１６から吹出す初速V0ｍ／secは以
下の通りである。 ノズル吹出し部間隔：d0 流量Q0 液体シールスロート部間隔：d1 流量Q1 同 流速：v1 アノード最下部（出口）間隔：d2 流量Q2 同 流速：v2 とするとQ2＝Q0＋Q1の関係より v2d2＝V0d0＋v1d1となり ノズル吹出し流速V0は、 V0＝v2d2−v1d1／d0で吹出す。 更にストリツプのアツプパスではストリツプ進
行方向と向流となり、ダウンパスでは平行流とな
り、同一噴流速度では相対速度が異なつてくる。
従つてアツプパス用とダウンパス用は別々の流量
可変ポンプとする。ライン速度をＬｍ／secとす
るとダウンパスの流速ｖはアツプパス流速v′に対
し ｖ＝v′＋2L（ｍ／ｓ）とするのがよい。 特に流速の均一性を要求する鉄−亜鉛合金メツ
キの場合はこれを維持することが重要である。 なお第１図中２３は下流パス用噴流ポンプ、２
４は液体シール液面維持ポンプ、２５は通電ロー
ルである。第２図中２６は噴流ガイド部、２７は
シール液受入口である。 第３図及び第４図は、ストリツプ１３の板幅が
変化した場合及びストリツプ１３が蛇行した場合
に、シール液の幅及びメツキ液の噴出幅を調整す
る機構を示す。液面調整ゲート２０は上面を傾斜
した２つの部材２０ａ，２０ｂからなり、両部材
２０ａ，２０ｂは水平方向に移動可能として、こ
の移動により液体シール幅が変更される。ノズル
１６には、両側にノズル噴き出し幅調整スプール
１６ａ，１６ｂが水平方向に移動可能に配置さ
れ、この移動によりメツキ液の噴出幅が変更され
る。これら液体シール幅及びメツキ液噴出幅の変
更は次のようにしてなされる。 板幅及び蛇行検出装置３０により、ストリツプ
両端を検出しその信号をワークサイドシリンダー
３１とドライブサイドシリンダー３２に送る。 液体シール幅をその信号により調整するため
に、液面調整ゲート２０の各部材２０ａ，２０ｂ
をシリンダー３１，３２にて板幅方向に左右にス
ライドさせる。板幅が広くなると部材２０ａはワ
ークサイド部材２０ｂはドライブサイドに移行す
る。液面は同一レベルを維持しているので液体シ
ール幅は液位面とゲートの傾斜面の交差点の幅ま
で拡大する。 ストリツプが蛇行した時も液面調整ゲートの各
部材２０ａ及び２０ｂがスライドし、ストリツプ
位置に合つた所で設定されシール幅を維持する。 次にノズル噴き出し幅調整について記述する。
板幅に応じノズル噴き出し幅調整スプール１６
ａ，１６ｂが上記シリンダー３１，３２により左
右にスライドし所要のストリツプ幅の部分のみを
メツキ液が噴出する。 ストリツプが蛇行した際は調整スプール１６
ａ，１６ｂが同様にストリツプ位置に合せてスラ
イドする。 次に具体的な実施例につき説明する。 実施例 １ 両面メツキ (1) テスト条件（第５図参照） ライン速度 80ｍ／min ストリツプサイズ 1.0×1000mm メツキ品種 純Zn 付着量 両面メツキ 30ｇ／m2／30ｇ／m2 トレイ数 ９トレイ 両面アノード使用 吹出しノズル間隔d1 11mm 吹出し初速V0 ３ｍ／sec 液体シール高さl1 170mm シール部ギヤツプd2 ５mm 極間距離d3 10mm アノード電極長さl2 1100mm メツキ液主成分 ZnSO4（PH＝1.4） 液体シール幅 1040mm メツキ液噴射スプレー幅 1040mm (2) 結果 (a) 板幅方向の付着分布 従来の竪型方式であれば第６図に示すよう
に両端の付着量が中央部に比較して大きく異
なる。 他方、本発明方法でメツキした板幅方向付
着量分布は両端部に多くメツキが付着する事
なく均一である、理由はストリツプ幅に応じ
てメツキ噴流スプレー幅を合せており、スト
リツプエツジにZnイオンが集中して電着さ
れないためである。 (b) メツキ電圧の減少 従来の竪型方式に比較し極間距離が短か
く、メツキ流速が速くなるための下記表に示
すようにメツキ電圧が減少しメツキ消費電力
が節減できる。
式がある。 (1) 水平型、横サイドからの噴流方式 (2) 水平型、ライン方向からの噴流方式 (3) 水平型、下面及び上面からの噴流方式 (4) 竪型、浸漬、下面からの噴流方式 (5) 竪型、浸漬、ストリツプ直前の噴流方式 (6) 竪型、浸漬、下面及び上面交互の噴流方式 等がある。しかしこれらの方式では、 (1) 片面メツキの際、メツキしない方にも薄くメ
ツキされる。 (2) ストリツプの両端にメツキしたくない面でも
10mm程度メツキが付着する。 (3) 板巾方向に流速分布を均一に確保できない
為、メツキ層の特性が均一に確保できない。 (4) 両面メツキの際、両端にメツキ部が多く付着
する。 等、問題が多かつた。 又、特開昭59−89792は、金属層をストリツプ
メタルの片面、又は両面に連続的に電気メツキす
る際、重力によつてメツキ液を非水平方向でスト
リツプとアノード間に流す方法を開示している。 しかし、この方法は単純に重力のみによつてメ
ツキ液を流すので、アノード上部と下部の水位差
をａとすると√2の流速差が生じる。ただしｇ
は重力で、9.8ｍ／sec2である。 例えばアノード上部の流速はほぼ０ｍ／secで
あるのに対し1000mm下では4.42ｍ／secとなる流
速比率の大きな違いが生じる。 このように流速比率が大きく異なると、合金め
つき、例えば亜鉛−鉄合金メツキに於いてはメツ
キ層中のFe含有率分布が大きく異なり、メツキ
層の腐食性、塗装二次密着性、メツキ剥離性等に
大きな問題となる。 更に垂直パスに於てはアツプパスでのストリツ
プとの相対流速とダウンパスでの相対流速との差
がライン速度の２倍の違いとなり、亜鉛−鉄合金
メツキ、亜鉛−Niの合金メツキ等で品質上の問
題を生じる。 又、重力だけでメツキ液を落下させるので、そ
の速度が限定され、ライン速度が速くなるとアツ
プパスでは液が上流に吹き上る問題が生じる。例
えば、ライン速度が120ｍ／minでは秒速２ｍ／
secとなりアノード上部でＶ＝√2により２
ｍ／sec以下の液位部ではメツキ液が上に持ちあ
げられ、アノードとストリツプ間にメツキ液が完
全に充満されず、この結果、気相を巻き込んでメ
ツキのピンホールを生ずる。 （発明が解決しようとする技術的課題） この発明は、小さな設備でストリツプと電極と
の間隙の長手方向に対してメツキ液をほぼ均一に
流し、しかも気相の巻き込みを防止してとくに合
金メツキ等の品質を向上し、電力費の低減を図る
ことができ、更に片面ずつのメツキが容易に品質
良く製造でき、ストリツプ両端部のメツキオーバ
ーコートを防止出来、メツキ抵抗電圧の少いメツ
キが出来、しかも低、中速ラインに限らず高速ラ
インにも適用できる電気めつき方法及び装置を提
供することを目的としている。 （技術的課題を解決する手段） 第１の発明は、ストリツプを、垂直又は、所定
角度傾斜して配置した電極に沿いかつ電極と一定
の間隙をもつて走行せしめ、同時に電極の上方に
設置したノズルから、電極とストリツプとの間隙
にメツキ液を所望流速で強制的に流下させてスト
リツプをメツキし、かつノズルの設置個所と上記
間隙の間をメツキ液でシールしている電気メツキ
方法である。 第２の発明は、ストリツプが、垂直又は所定角
度傾斜して配置した電極に沿い、かつこの電極と
一定の間隙をもつて走行してストリツプのメツキ
を行う電気めつき装置において、電極の上方に配
置され、電極とストリツプとの間隙にメツキ液を
所望流速で強制的に流下させるノズルと、ノズル
の設置個所と上記間隙の上部との間をメツキ液で
シールするシール機構とを具備した電気メツキ装
置である。 更に第３の発明は、第２の発明にストリツプ幅
又はストリツプ蛇行量を検出し、この検出値にも
とづいて上記シール機構のシール幅及びノズルか
ら噴出されるメツキ液の噴流幅を調整する調整機
構とを付加した電気メツキ方法である。 （実施例） 第１図はこの発明の一実施例を示す電気メツキ
装置の概略図、第２図は同装置の要部拡大図であ
る。この装置は、複数の竪型メツキ槽１０を一列
に配置し、各メツキ槽１０内にそれぞれ２対のア
ノード電極１１，１１及び１２，１２を垂直方向
に（又は所定角度傾斜して）配置し、ストリツプ
１３を垂直にアノード電極１１，１１間に上方か
ら導入して下方へ導出し、ロール１４を通つてア
ノード電極１２，１２に下方から導入して上方へ
導出し、しかる後次のメツキ槽１０に導くもので
ある。一方メツキ液はノズルヘツダ１５を経てス
トレート型ノズル１６から電極１１，１１とスト
リツプ１３との間隙に噴出される。メツキ液は、
上記間隙を通つた後メツキ液槽１７に入る。ノズ
ル１６，１８から噴出するメツキ液は、初速吹出
し速度１ｍ／sec以上、実用的には２ｍ／sec〜８
ｍ／secとして、吹出す。ノズル１６，１８から
の吹付け角度は、ストリツプ１３の走行方向を０
度とすると、０〜70°、望ましくは０〜45°とす
る。メツキ液の吹出し部には、ストリツプ１３と
接触する部分に第２図に示すシール機構を設置し
てメツキ液吹出し時に生じ易くなる空気巻き込み
現象を防ぐようにしている。このシール機構で
は、シール液（メツキ液と同組成）をポンプ１８
からバルブV1又はV2を経て、シール液供給ボツ
クス１９に送る。ボツクス１９内のシール液は、
液面調整ゲート２０を経てシール液貯蔵部２１に
溜められる。この貯蔵部２１は、電極１１又は１
２とストリツプ１３との間隙に液体シールスロー
ト部２２を介して連通している。そしてこのスロ
ート部２２によつて液体シールを行う。 液体シールスロート部２２は出来るだけ狭い間
隔とするのがよい。実験結果から空気の侵入を防
止しうるスロート部２２の適正シール間隔d1はノ
ズルからの噴流速度V0ｍ／sec、液面維持ポンプ
吐出量Ｑm3／secとすると、 d1＝ｆ×（Ｑ／V0）（ｆは実験係数） の関係となり一般には（d1は３mmから８mmであ
り、）d1が大き過ぎるとエヤーがメツキ液中に侵
入し、良好なメツキ条件が維持できなくなる。 スリツプ１とアノード電極１１又は１２の間に
出来るだけ均一な流速と適正な所定の流速を維持
して良好なメツキ条件を確保する為には、ストレ
ート型ノズル１６から吹出す初速V0ｍ／secは以
下の通りである。 ノズル吹出し部間隔：d0 流量Q0 液体シールスロート部間隔：d1 流量Q1 同 流速：v1 アノード最下部（出口）間隔：d2 流量Q2 同 流速：v2 とするとQ2＝Q0＋Q1の関係より v2d2＝V0d0＋v1d1となり ノズル吹出し流速V0は、 V0＝v2d2−v1d1／d0で吹出す。 更にストリツプのアツプパスではストリツプ進
行方向と向流となり、ダウンパスでは平行流とな
り、同一噴流速度では相対速度が異なつてくる。
従つてアツプパス用とダウンパス用は別々の流量
可変ポンプとする。ライン速度をＬｍ／secとす
るとダウンパスの流速ｖはアツプパス流速v′に対
し ｖ＝v′＋2L（ｍ／ｓ）とするのがよい。 特に流速の均一性を要求する鉄−亜鉛合金メツ
キの場合はこれを維持することが重要である。 なお第１図中２３は下流パス用噴流ポンプ、２
４は液体シール液面維持ポンプ、２５は通電ロー
ルである。第２図中２６は噴流ガイド部、２７は
シール液受入口である。 第３図及び第４図は、ストリツプ１３の板幅が
変化した場合及びストリツプ１３が蛇行した場合
に、シール液の幅及びメツキ液の噴出幅を調整す
る機構を示す。液面調整ゲート２０は上面を傾斜
した２つの部材２０ａ，２０ｂからなり、両部材
２０ａ，２０ｂは水平方向に移動可能として、こ
の移動により液体シール幅が変更される。ノズル
１６には、両側にノズル噴き出し幅調整スプール
１６ａ，１６ｂが水平方向に移動可能に配置さ
れ、この移動によりメツキ液の噴出幅が変更され
る。これら液体シール幅及びメツキ液噴出幅の変
更は次のようにしてなされる。 板幅及び蛇行検出装置３０により、ストリツプ
両端を検出しその信号をワークサイドシリンダー
３１とドライブサイドシリンダー３２に送る。 液体シール幅をその信号により調整するため
に、液面調整ゲート２０の各部材２０ａ，２０ｂ
をシリンダー３１，３２にて板幅方向に左右にス
ライドさせる。板幅が広くなると部材２０ａはワ
ークサイド部材２０ｂはドライブサイドに移行す
る。液面は同一レベルを維持しているので液体シ
ール幅は液位面とゲートの傾斜面の交差点の幅ま
で拡大する。 ストリツプが蛇行した時も液面調整ゲートの各
部材２０ａ及び２０ｂがスライドし、ストリツプ
位置に合つた所で設定されシール幅を維持する。 次にノズル噴き出し幅調整について記述する。
板幅に応じノズル噴き出し幅調整スプール１６
ａ，１６ｂが上記シリンダー３１，３２により左
右にスライドし所要のストリツプ幅の部分のみを
メツキ液が噴出する。 ストリツプが蛇行した際は調整スプール１６
ａ，１６ｂが同様にストリツプ位置に合せてスラ
イドする。 次に具体的な実施例につき説明する。 実施例 １ 両面メツキ (1) テスト条件（第５図参照） ライン速度 80ｍ／min ストリツプサイズ 1.0×1000mm メツキ品種 純Zn 付着量 両面メツキ 30ｇ／m2／30ｇ／m2 トレイ数 ９トレイ 両面アノード使用 吹出しノズル間隔d1 11mm 吹出し初速V0 ３ｍ／sec 液体シール高さl1 170mm シール部ギヤツプd2 ５mm 極間距離d3 10mm アノード電極長さl2 1100mm メツキ液主成分 ZnSO4（PH＝1.4） 液体シール幅 1040mm メツキ液噴射スプレー幅 1040mm (2) 結果 (a) 板幅方向の付着分布 従来の竪型方式であれば第６図に示すよう
に両端の付着量が中央部に比較して大きく異
なる。 他方、本発明方法でメツキした板幅方向付
着量分布は両端部に多くメツキが付着する事
なく均一である、理由はストリツプ幅に応じ
てメツキ噴流スプレー幅を合せており、スト
リツプエツジにZnイオンが集中して電着さ
れないためである。 (b) メツキ電圧の減少 従来の竪型方式に比較し極間距離が短か
く、メツキ流速が速くなるための下記表に示
すようにメツキ電圧が減少しメツキ消費電力
が節減できる。
【表】
実施例 ２
片面メツキ
(1) テスト条件
ライン速度 60ｍ／min
ストリツプサイズ 0.8×1220
メツキ品種 純Zn
付着量 片面メツキ ０／40ｇ／m2
トレイ数 ９トレイ 片面アノードのみ使用
吹出しノズル間隔 11mm
吹出し初速V0 ２ｍ／sec
液体シール高さ 160mm
シールギヤツプ ５mm
極間距離 10mm
アノード電極長さl2 1100mm
メツキ液主成分 ZnSO4（PH＝1.4）
液体シール幅 1250mm
メツキ液噴射スプレー幅 1250mm
(2) 結果
(a) 非メツキ面の付着量
非メツキ面の両端、中央の３点平均付着量
は従来方式で500mg／m2であるのに対し、本
発明では10mg／m2以下である。 理由は非メツキ面ではメツキ液を噴射しな
いのでメツキ液に接触する事なくメツキが付
着されないためである。 (b) 非メツキ面の両端のメツキ付着 非メツキ面の両端は従来方式であると第７
図に実線で示すような付着量分布となるが、
本発明であれば破線に示すように殆んど両端
に付着されない。 実施例 ３ 鉄−亜鉛合金メツキ (1) テスト条件 ライン速度 50ｍ／min ストリツプサイズ 0.7×1300 メツキ品種 鉄−亜鉛合金メツキ 付着量 ０／40ｇ／m2 トレイ数 ９トレイ 片面アノード使用 吹出しノズル間隔 11mm 吹出し初速 ６ｍ／sec 液体シール高さ 200mm シールギヤツプ ５mm 極間距離 10mm アノード電極長さl2 1100mm メツキ液主成分 ZnSO4、FeSO4 液体シール幅 1340mm メツキ液噴射スプレー幅 1340mm (2) 結果 (a) 合金メツキ層のFe含有率の均一性 従来方式（例えば特開昭59−89792）であ
ればアノード電極の上部と下部とで流路が大
きく異なる。 例えば上部で1.5ｍ／sec、 下部で4.5ｍ／sec、 流速比率は300％である。Fe−Znのメツキ層
のFe含有量はアノード電極とストリツプ間
を流れるメツキ液の流速に大きく影響を受
け、例えば第８図のようになる。 従つて従来方式（特開昭59−89792）で行
うと竪型トレイの場合トレイの上部と下部で
メツキ層のFe含有率が第９図のように大き
く異なる。 これを９トレイでメツキすると第１０図の
ようになる。 他方、本発明方式で行うと上部アノード電
極の初速６ｍ／secで行うと上部で６ｍ／
sec、下部で９ｍ／sec、流速比率は50％上昇
程度に収まる。 従つてFeの含有率の分布は第１１図とな
り、第９図に比較すると大きく異なり良好の
品質を製造できる。 これを９トレイでメツキすると第１２図と
なり、均一なFe含有率分布となり、塗料密
着性（特に二次密着性）二次耐食性の良い自
動車用防錆鋼板を製造できる。 （発明の効果） この発明によれば、ノズルからメツキ液を噴出
するので、上部と下部の流速差を小さくすること
ができ、しかもノズルによりメツキ液を上部から
噴出させていること及びシール機構を設けている
ことにより気相の巻き込みを防ぐことができ、こ
のため所望組成の高品質の合金メツキ層を確実に
形成することができる。またメツキ液は電極とス
トリツプとの間にのみ噴出させる方式なので、片
面メツキを行う場合に非メツキ面にメツキ液が入
りにくくなり、更にストリツプ幅に合せてメツキ
液の噴流幅を調整しているので、ストリツプエツ
ジへの付着量の増加を防ぐことができる。この結
果片面メツキを良好におこなえる。また極間距離
を短くしてメツキ消費電力を節減できる。
は従来方式で500mg／m2であるのに対し、本
発明では10mg／m2以下である。 理由は非メツキ面ではメツキ液を噴射しな
いのでメツキ液に接触する事なくメツキが付
着されないためである。 (b) 非メツキ面の両端のメツキ付着 非メツキ面の両端は従来方式であると第７
図に実線で示すような付着量分布となるが、
本発明であれば破線に示すように殆んど両端
に付着されない。 実施例 ３ 鉄−亜鉛合金メツキ (1) テスト条件 ライン速度 50ｍ／min ストリツプサイズ 0.7×1300 メツキ品種 鉄−亜鉛合金メツキ 付着量 ０／40ｇ／m2 トレイ数 ９トレイ 片面アノード使用 吹出しノズル間隔 11mm 吹出し初速 ６ｍ／sec 液体シール高さ 200mm シールギヤツプ ５mm 極間距離 10mm アノード電極長さl2 1100mm メツキ液主成分 ZnSO4、FeSO4 液体シール幅 1340mm メツキ液噴射スプレー幅 1340mm (2) 結果 (a) 合金メツキ層のFe含有率の均一性 従来方式（例えば特開昭59−89792）であ
ればアノード電極の上部と下部とで流路が大
きく異なる。 例えば上部で1.5ｍ／sec、 下部で4.5ｍ／sec、 流速比率は300％である。Fe−Znのメツキ層
のFe含有量はアノード電極とストリツプ間
を流れるメツキ液の流速に大きく影響を受
け、例えば第８図のようになる。 従つて従来方式（特開昭59−89792）で行
うと竪型トレイの場合トレイの上部と下部で
メツキ層のFe含有率が第９図のように大き
く異なる。 これを９トレイでメツキすると第１０図の
ようになる。 他方、本発明方式で行うと上部アノード電
極の初速６ｍ／secで行うと上部で６ｍ／
sec、下部で９ｍ／sec、流速比率は50％上昇
程度に収まる。 従つてFeの含有率の分布は第１１図とな
り、第９図に比較すると大きく異なり良好の
品質を製造できる。 これを９トレイでメツキすると第１２図と
なり、均一なFe含有率分布となり、塗料密
着性（特に二次密着性）二次耐食性の良い自
動車用防錆鋼板を製造できる。 （発明の効果） この発明によれば、ノズルからメツキ液を噴出
するので、上部と下部の流速差を小さくすること
ができ、しかもノズルによりメツキ液を上部から
噴出させていること及びシール機構を設けている
ことにより気相の巻き込みを防ぐことができ、こ
のため所望組成の高品質の合金メツキ層を確実に
形成することができる。またメツキ液は電極とス
トリツプとの間にのみ噴出させる方式なので、片
面メツキを行う場合に非メツキ面にメツキ液が入
りにくくなり、更にストリツプ幅に合せてメツキ
液の噴流幅を調整しているので、ストリツプエツ
ジへの付着量の増加を防ぐことができる。この結
果片面メツキを良好におこなえる。また極間距離
を短くしてメツキ消費電力を節減できる。
第１図は本発明の一実施例を示す電気めつき装
置の概略図、第２図は同装置の要部拡大図、第３
図及び第４図はシール液幅及びメツキ液噴出幅の
調整機構を示す説明図、第５図は実施例で使用し
た電気めつき装置の仕様例を示す図、第６図は実
施例１の結果を示す図、第７図は実施例２の結果
を示す図、第８図はメツキ液の流速とFe−Znメ
ツキ層のFe含有量との関係を示す図、第９図及
び第１０図は実施例３において比較の対象となつ
た従来例の結果を示す図、第１１図及び第１２図
は実施例３の結果を示す図である。 １０……竪型メツキ槽、１１，１２……電極、
１３……ストリツプ、１４……ロール、１５……
ノズルヘツダ、１６……ノズル、１７……メツキ
液槽、１８……上流パス用噴流ポンプ、１９……
シール液供給ボツクス、２０……液面調整ゲー
ト、２１……貯蔵部、２２……液体シールスロー
ト部、２３……下流パス用噴流ポンプ、２４……
液体シール液面維持ポンプ、２５……通電ロー
ル、２６……噴流ガイド部、２７……シール液受
入口、３０……検出装置、３１……ワークシリン
ダー、３２……ドライブサイドシリンダー。
置の概略図、第２図は同装置の要部拡大図、第３
図及び第４図はシール液幅及びメツキ液噴出幅の
調整機構を示す説明図、第５図は実施例で使用し
た電気めつき装置の仕様例を示す図、第６図は実
施例１の結果を示す図、第７図は実施例２の結果
を示す図、第８図はメツキ液の流速とFe−Znメ
ツキ層のFe含有量との関係を示す図、第９図及
び第１０図は実施例３において比較の対象となつ
た従来例の結果を示す図、第１１図及び第１２図
は実施例３の結果を示す図である。 １０……竪型メツキ槽、１１，１２……電極、
１３……ストリツプ、１４……ロール、１５……
ノズルヘツダ、１６……ノズル、１７……メツキ
液槽、１８……上流パス用噴流ポンプ、１９……
シール液供給ボツクス、２０……液面調整ゲー
ト、２１……貯蔵部、２２……液体シールスロー
ト部、２３……下流パス用噴流ポンプ、２４……
液体シール液面維持ポンプ、２５……通電ロー
ル、２６……噴流ガイド部、２７……シール液受
入口、３０……検出装置、３１……ワークシリン
ダー、３２……ドライブサイドシリンダー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ストリツプを、垂直又は所定角度傾斜して配
置した電極に沿いかつ電極と一定の間隔をもつて
走行せしめ、同時に電極の上方に配置したノズル
から、電極とストリツプとの間隔にメツキ液を所
望流速で強制的に流下させてストリツプをメツキ
し、かつノズルの設置箇所と上記間隔の上部との
間をメツキ液でシールしている電気メツキ方法。 ２ ストリツプが、垂直又は所定角度傾斜して配
置した電極に沿いかつ電極と一定の間隔をもつて
走行してストリツプのメツキを行う電気メツキ装
置において、電極の上方に配置され電極とストリ
ツプとの間隔にメツキ液を所望流速で強制的に流
下させるノズルと、ノズルの設置箇所と上記間隔
の上部との間をメツキ液でシールするシール機構
とを具備し、このシール機構は、シール液貯蔵部
と、このシール液貯蔵部と上記間〓の上部とに連
通し、シール液貯蔵部のシール液を上記間〓の上
部に流下せしめる液体シールスロート部とを備え
ている電気メツキ装置。 ３ ストリツプが、垂直又は所定角度傾斜して配
置した電極に沿いかつ電極と一定の間隔をもつて
走行してストリツプのメツキを行う電気メツキ装
置において、電極の上方に配置され電極とストリ
ツプとの間隔にメツキ液を所望流速で強制的に流
下させるノズルと、ノズルの設置箇所と上記間隔
との間をメツキ液でシールするシール機構と、ス
トリツプ幅又はストリツプ蛇行を検出し、この検
出値にもとづいて上記シール機構のシール幅及び
ノズルから噴出されるメツキ液の噴流幅を調整す
る機構とを具備し、前記シール機構は、シール液
貯蔵部と、このシール液貯蔵部と上記間〓の上部
とに連通し、シール液貯蔵部のシール液を上記間
〓の上部に流下せしめる液体シールスロート部と
を備えている電気メツキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8383086A JPS62240793A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 電気メツキ方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8383086A JPS62240793A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 電気メツキ方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62240793A JPS62240793A (ja) | 1987-10-21 |
| JPH049876B2 true JPH049876B2 (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=13813611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8383086A Granted JPS62240793A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 電気メツキ方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62240793A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT373922B (de) * | 1982-08-05 | 1984-03-12 | Ruthner Industrieanlagen Ag | Verfahren und vorrichtung zur ein- oder beidseitigen kontinuierlichen beschichtung eines metallbandes |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP8383086A patent/JPS62240793A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62240793A (ja) | 1987-10-21 |
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