JPS62240793A - 電気メツキ方法及び装置 - Google Patents
電気メツキ方法及び装置Info
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- JPS62240793A JPS62240793A JP8383086A JP8383086A JPS62240793A JP S62240793 A JPS62240793 A JP S62240793A JP 8383086 A JP8383086 A JP 8383086A JP 8383086 A JP8383086 A JP 8383086A JP S62240793 A JPS62240793 A JP S62240793A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
現在、電気メッキ方法には下記に示すような方式がある
。
。
１）水平型、横サイドからの噴流方式
２）水平型、ライ゛ン方向からの噴流方式３）水平型、
下面及び上面からの噴流方式４）竪型、浸漬、下面から
の噴流方式 ５）竪型、８Ｐ漬、ストリップ直前の噴流方式６）竪型
、浸漬、下面及び上面交互の噴流方式等がある。しかし
これらの方式では、 １）片面メッキの際、メッキしない方にも薄くメッキさ
れる。
下面及び上面からの噴流方式４）竪型、浸漬、下面から
の噴流方式 ５）竪型、８Ｐ漬、ストリップ直前の噴流方式６）竪型
、浸漬、下面及び上面交互の噴流方式等がある。しかし
これらの方式では、 １）片面メッキの際、メッキしない方にも薄くメッキさ
れる。
２）ストリップの両端にメッキしたくない面でも１０１
程度メッキが付着する。
程度メッキが付着する。
３〉阪巾方向に流速分布を均一に確保できない為、メッ
キ層の特性が均一に確保できない。
キ層の特性が均一に確保できない。
４）両面メッキの際、両端にメッキ部が多く付着する。
等、問題が多かった。
又、特開昭５９−８９７９２ Ｇｋ、金ｍＩ！Ｗをスト
リップメタルの片面、又は両面に連続的に電気メッキす
る際、重力によってメッキ液を非水平方向でストリップ
とアノード間に流す方法を開示している。
リップメタルの片面、又は両面に連続的に電気メッキす
る際、重力によってメッキ液を非水平方向でストリップ
とアノード間に流す方法を開示している。
しかし、この方法は単純に重力のみによってメッキ液を
流すので、アノード上部と下部の水位差をａとするとｆ
７７］−の流速差が生じる。ただし０は重力で、９．８
１０ ／’ＳｅＣ２である。
流すので、アノード上部と下部の水位差をａとするとｆ
７７］−の流速差が生じる。ただし０は重力で、９．８
１０ ／’ＳｅＣ２である。
例えばアノード上部の流速はほぼＯｉ／ｓｅｃであるの
に対し１０００ｍｍ下では４．４２ ｍ／ｓｅｃとなり
流速比率の大きな違いが生じる。
に対し１０００ｍｍ下では４．４２ ｍ／ｓｅｃとなり
流速比率の大きな違いが生じる。
このように流速比率が大きく異なると、合金めっき、例
えば亜鉛−鉄合金メッキに於いてはメッキ層中のｌ”ｅ
含有率分布が大きく異なり、メッキ層の腐食性、塗装二
次密着性、メッキ剥離性等に大きな問題となる。
えば亜鉛−鉄合金メッキに於いてはメッキ層中のｌ”ｅ
含有率分布が大きく異なり、メッキ層の腐食性、塗装二
次密着性、メッキ剥離性等に大きな問題となる。
更に垂直パスに於てはアップバスでのストリップとの相
対流速とダウンバスでの相対流速との差がライン速度の
２倍の違いとなり、亜鉛−鉄合金メッキ、亜鉛−Ｎｉの
合金メッキ等で品質上の問題を生じる。
対流速とダウンバスでの相対流速との差がライン速度の
２倍の違いとなり、亜鉛−鉄合金メッキ、亜鉛−Ｎｉの
合金メッキ等で品質上の問題を生じる。
又、重力だけでメッキ液を落下させるので、その速度が
限定され、ライン速度が速くなるとアップパスでは液が
上流に吹き上る問題が生じる。例えば、ライン速度が１
２０ ａ＋／ｌ１ｉｎでは秒速２ＩＩ／ＳｅＣとなりア
ノード上部でＶ−ｒ「正により２ ｍ／ｓｅｃ以下の液
位部ではメッキ液が上に持ちあげられ、アノードとスト
リップ間にメッキ液が完全に充満されず、この結果、気
相を巻き込んでメッキのピンホールを生じる。
限定され、ライン速度が速くなるとアップパスでは液が
上流に吹き上る問題が生じる。例えば、ライン速度が１
２０ ａ＋／ｌ１ｉｎでは秒速２ＩＩ／ＳｅＣとなりア
ノード上部でＶ−ｒ「正により２ ｍ／ｓｅｃ以下の液
位部ではメッキ液が上に持ちあげられ、アノードとスト
リップ間にメッキ液が完全に充満されず、この結果、気
相を巻き込んでメッキのピンホールを生じる。
（発明が解決しようとする技術的課題）この発明は、小
さな設備でストリップと電極との間隙の長手方向に対し
てメッキ液をほぼ均一に流し、しかも気相の巻き込みを
防止してとくに合金メッキ等の品質を向上し、電力費の
低減を図ることができ、更に片面ずつのメッキが容易に
品質良く製造でき、ストリップ両端部のメッキオーバー
コー１〜を防止出来、メッキ抵抗電圧の少いメッキが出
来、しかも低、中速ラインに限らず高速ラインにも適用
できる電気めっき方法及び装置を提供することを目的と
している。
さな設備でストリップと電極との間隙の長手方向に対し
てメッキ液をほぼ均一に流し、しかも気相の巻き込みを
防止してとくに合金メッキ等の品質を向上し、電力費の
低減を図ることができ、更に片面ずつのメッキが容易に
品質良く製造でき、ストリップ両端部のメッキオーバー
コー１〜を防止出来、メッキ抵抗電圧の少いメッキが出
来、しかも低、中速ラインに限らず高速ラインにも適用
できる電気めっき方法及び装置を提供することを目的と
している。
（技術的課題を解決する手段）
第１の発明は、ストリップを、垂直又は、所定角度傾斜
して配置した電極に沿いかつ電極と一定の間隙をもって
走行せしめ、同時に電極の上方にＩＩしたノズルから、
電極とストリップとの間隙にメッキ液を所望流速で流下
させてストリップをメッキし、かつノズルの設置個所と
上記間隙の間をメッキ液でシールしている電気メッキ方
法である。
して配置した電極に沿いかつ電極と一定の間隙をもって
走行せしめ、同時に電極の上方にＩＩしたノズルから、
電極とストリップとの間隙にメッキ液を所望流速で流下
させてストリップをメッキし、かつノズルの設置個所と
上記間隙の間をメッキ液でシールしている電気メッキ方
法である。
第２の発明は、ストリップが、垂直又は所定角度傾斜し
て配置した電極に沿い、かつこの電極と一定の間隙をも
って走行してストリップのメッキを行う電気めっき装置
において、電極の上方に配置され、電極とストリップと
の間隙にメッキ液を所望流速で流下させるノズルと、ノ
ズルの設置個所と上記間隙の上部との間をメッキ液でシ
ールするシール機構とを具備した電気メッキ装置である
。
て配置した電極に沿い、かつこの電極と一定の間隙をも
って走行してストリップのメッキを行う電気めっき装置
において、電極の上方に配置され、電極とストリップと
の間隙にメッキ液を所望流速で流下させるノズルと、ノ
ズルの設置個所と上記間隙の上部との間をメッキ液でシ
ールするシール機構とを具備した電気メッキ装置である
。
更に第３の発明は、第２の発明にストリップ幅又はスト
リップ蛇行ｌを検出し、この検出値にもとづいて上記シ
ール機構のシール幅及びノズルから噴出されるメッキ液
の噴流幅を調整するｖ４整機構とを付加した電気メッキ
方法である。
リップ蛇行ｌを検出し、この検出値にもとづいて上記シ
ール機構のシール幅及びノズルから噴出されるメッキ液
の噴流幅を調整するｖ４整機構とを付加した電気メッキ
方法である。
（実施例）
第１図はこの発明の一実施例を示す電気メッキ装置の概
略図、第２図は同装置の要部拡大図である。この装置は
、複数の竪型メッキ槽１０を一列に配置し、各メッキ槽
１０内にそれぞれ２対のアノード電４１１１．１１及び
１２．１２を垂直方向に（又は所定角度傾斜して）配置
し、ストリップ１３を垂直にアノード電極１１．１１間
に上方から導入して下方へ導出し、ロール１４を通って
アノード電ｆｆ１１２．１２に下方から導入して上方へ
導出し、しかる後次のメッキｌ１１０に導くものである
。一方メッキ液はノズルヘッダ１５を経てストレート型
ノズル１６から電極１１．１１とストリップ１３との間
隙に噴出される。メッキ液は、上記間隙を通った後メッ
キ液槽１７に入る。ノズル１６．１８から噴出するメッ
キ液は、初速吹出し速度１ｉｌｌ、／ＳｅＣ以上、実用
的には２１／ＳｅＣ〜８１１／ＳｅＣとして、吹出す。
略図、第２図は同装置の要部拡大図である。この装置は
、複数の竪型メッキ槽１０を一列に配置し、各メッキ槽
１０内にそれぞれ２対のアノード電４１１１．１１及び
１２．１２を垂直方向に（又は所定角度傾斜して）配置
し、ストリップ１３を垂直にアノード電極１１．１１間
に上方から導入して下方へ導出し、ロール１４を通って
アノード電ｆｆ１１２．１２に下方から導入して上方へ
導出し、しかる後次のメッキｌ１１０に導くものである
。一方メッキ液はノズルヘッダ１５を経てストレート型
ノズル１６から電極１１．１１とストリップ１３との間
隙に噴出される。メッキ液は、上記間隙を通った後メッ
キ液槽１７に入る。ノズル１６．１８から噴出するメッ
キ液は、初速吹出し速度１ｉｌｌ、／ＳｅＣ以上、実用
的には２１／ＳｅＣ〜８１１／ＳｅＣとして、吹出す。
ノズル１６．１８からの吹付は角度は、ストリップ１３
の走行方向を０度とすると、Ｏ〜７０°、望ましくはＯ
〜４５″′とする。メッキ液の吹出し部には、ストリッ
プ１３と接触する部分に第２図に示すシール機構を設置
してメッキ液吹出し時に生じ易くなる空気巻き込み現象
を防ぐようにしている。このシール機構では、シール液
（メッキ液と同組成）をポンプ１８からバルブＶ！又は
ｖ２を経て、シール液供給ボックス１９に送る。ボック
ス１９内のシール液は、液面調整ゲート２０を経てシー
ル液貯蔵部２１に溜められる。この貯蔵部２１は、電極
１１又は１２とストリップ１３との間隙に液体シールス
ロート部２２を介して連通している。そしてこのスロー
ト部２２によって液体シールを行う。
の走行方向を０度とすると、Ｏ〜７０°、望ましくはＯ
〜４５″′とする。メッキ液の吹出し部には、ストリッ
プ１３と接触する部分に第２図に示すシール機構を設置
してメッキ液吹出し時に生じ易くなる空気巻き込み現象
を防ぐようにしている。このシール機構では、シール液
（メッキ液と同組成）をポンプ１８からバルブＶ！又は
ｖ２を経て、シール液供給ボックス１９に送る。ボック
ス１９内のシール液は、液面調整ゲート２０を経てシー
ル液貯蔵部２１に溜められる。この貯蔵部２１は、電極
１１又は１２とストリップ１３との間隙に液体シールス
ロート部２２を介して連通している。そしてこのスロー
ト部２２によって液体シールを行う。
液体シールスロート部２２は出来るだけ狭い間隔とする
のがよい。実験結果から空気の侵入を防止しうるスロー
ト部２２の適正シール間隔ｄ、はノズルからの噴流速度
Ｖａ ｍ／ｓｅｃ 、液面維持ポンプ吐出量Ｑ Ｉ３／
Ｓｅｃとすると、ｄｌ−（Ｘ （Ｑ／Ｖｏ ）（＋は実
験係数）の関係となり一般には（ｄｌは３１ｉから８Ｉ
ＩＩｎであり、）ｄｌが大き過ぎるとエヤーがメッキ液
中に侵入し、良好なメッキ条件が維持できなくなる。
のがよい。実験結果から空気の侵入を防止しうるスロー
ト部２２の適正シール間隔ｄ、はノズルからの噴流速度
Ｖａ ｍ／ｓｅｃ 、液面維持ポンプ吐出量Ｑ Ｉ３／
Ｓｅｃとすると、ｄｌ−（Ｘ （Ｑ／Ｖｏ ）（＋は実
験係数）の関係となり一般には（ｄｌは３１ｉから８Ｉ
ＩＩｎであり、）ｄｌが大き過ぎるとエヤーがメッキ液
中に侵入し、良好なメッキ条件が維持できなくなる。
スリップ１とアノード電極１１又は１２の間に出来るだ
け均一な流速と適正な所定の流速を維持して良好なメッ
キ条件を確保する為には、ストレート型ノズル１６から
吹出す初速ｖｏｍ、”ｓｅｃは以下の通りである。
け均一な流速と適正な所定の流速を維持して良好なメッ
キ条件を確保する為には、ストレート型ノズル１６から
吹出す初速ｖｏｍ、”ｓｅｃは以下の通りである。
ノズル吹出し部間隔＝ｄｏ 流ｊｌＱ。
液体シールスロート部間隔二ｄ里 流ＩＱｔ同
流速＝ｖ！ アノード最下部（出口）間隔：ｄ２ 流量Ｑ２同
流速：ｖ２ とすると０２−ＱＯ＋Ｑｔの関係より Ｖ２ｄ２＝Ｖｏ ｄｏ ＋Ｖｔ Ｌｌとなりノズル吹出
し流速Ｖａは、 更にストリップのアップパスではストリップ進行方向と
向流となり、ダウンパスでは平行流となり、同一噴流速
度では相対速度が異なってくる。
流速＝ｖ！ アノード最下部（出口）間隔：ｄ２ 流量Ｑ２同
流速：ｖ２ とすると０２−ＱＯ＋Ｑｔの関係より Ｖ２ｄ２＝Ｖｏ ｄｏ ＋Ｖｔ Ｌｌとなりノズル吹出
し流速Ｖａは、 更にストリップのアップパスではストリップ進行方向と
向流となり、ダウンパスでは平行流となり、同一噴流速
度では相対速度が異なってくる。
従って７ツプパス用とダウンパス用は別々の流量可変ポ
ンプとする。ライン速度をＬ ｍ ／ ｓｅｃとすると
ダウンバスの流速Ｖはアップパス流速Ｖ′に対し ｖ＝ｖ′＋２Ｌ（ｙ７１／ｓ）とするのがよい。
ンプとする。ライン速度をＬ ｍ ／ ｓｅｃとすると
ダウンバスの流速Ｖはアップパス流速Ｖ′に対し ｖ＝ｖ′＋２Ｌ（ｙ７１／ｓ）とするのがよい。
特に流速の均一性を要求する鉄−亜鉛合金メッキの場合
はこれを維持することが重要である。
はこれを維持することが重要である。
なお第１図中２３は下流パス用噴流ポンプ、２４は液体
シール液面維持ポンプ、２５は通電ロールである。第２
図中２６は噴流ガイド部、２７はシール液受入口である
。
シール液面維持ポンプ、２５は通電ロールである。第２
図中２６は噴流ガイド部、２７はシール液受入口である
。
第３図及び第４図は、ストリップ１３の板幅が変化した
場合及びストリップ１３が蛇行した場合に、シール液の
幅及びメッキ液の噴出幅を調整する機構を示す。液面調
整ゲート２０は上面を傾斜した２つの部材２０ａ、２０
ｂからなり、両部材２０ａ 、２０ｂは水平方向に移動
可能として、この移動により液体シール幅が変更される
。ノズル１６には、両側にノズル噴き出し幅調整スプー
ル１６ａ、１６ｂが水平方向に移動可能に配置され、こ
の移動によりメッキ液の噴出幅が変更される。
場合及びストリップ１３が蛇行した場合に、シール液の
幅及びメッキ液の噴出幅を調整する機構を示す。液面調
整ゲート２０は上面を傾斜した２つの部材２０ａ、２０
ｂからなり、両部材２０ａ 、２０ｂは水平方向に移動
可能として、この移動により液体シール幅が変更される
。ノズル１６には、両側にノズル噴き出し幅調整スプー
ル１６ａ、１６ｂが水平方向に移動可能に配置され、こ
の移動によりメッキ液の噴出幅が変更される。
これら液体シール幅及びメッキ液噴出幅の変更は次のよ
うにしてなされる。
うにしてなされる。
板幅及び蛇行検出装置３０により、ストリップ両端を検
出しその信号をワークサイドシリンダー３１とドライブ
サイドシリンダー３２に送る。
出しその信号をワークサイドシリンダー３１とドライブ
サイドシリンダー３２に送る。
液体シール幅をその信号により調整するために、液面調
整ゲート２０の各部材２０ａ 、２０ｂをシリンダー３
１．３２にて板幅方向に左右にスライドさせる。板幅が
広くなると部材２０ａはワークサイド部材２０ｂはドラ
イブサイドに移行する。
整ゲート２０の各部材２０ａ 、２０ｂをシリンダー３
１．３２にて板幅方向に左右にスライドさせる。板幅が
広くなると部材２０ａはワークサイド部材２０ｂはドラ
イブサイドに移行する。
液面は同一レベルを維持しているので液体シール幅は液
位面とゲートの傾斜面の交差点の幅まで拡大する。
位面とゲートの傾斜面の交差点の幅まで拡大する。
ストリップが蛇行した時も液面調整ゲートの各部材２０
ａ及び２０ｂがスライドし、ス１〜リップ位置に合った
所で設定されシール幅を維持する。
ａ及び２０ｂがスライドし、ス１〜リップ位置に合った
所で設定されシール幅を維持する。
次にノズル噴き出し幅調整について記述する。
板幅に応じノズル噴き出し幅ｖ４整スプール１６ａ。
１６ｂが上記シリング−３１，３２により左右にスライ
ドし所要のストリップ幅の部分のみをメッキ液が噴出す
る。
ドし所要のストリップ幅の部分のみをメッキ液が噴出す
る。
ストリップが蛇行した際は調整スプール１６ａ。
１６ｂが同様にス１〜リップ位置に合せてスライドする
。
。
次に具体的な実施例につき説明する。
（実施例１） 両面メッキ
１）テスト条件（第５図参照）
ライン速度 ８０ｍ／ｍｉｎ
ストリップサイズ １．０Ｘ１００Ｏｓメッキ品種 純
Ｚｎ 付着量 両面メッキ ３０ｇ／ＴＩｔ／３０ｇ／Ｔｄト
レイ数 ９トレイ 両面アノード使用吹出しノズル間隔
６１ １１＃１ 吹出し初速Ｖｇ３ｍ／ｓｅｃ 液体シール高さＪｌｌ １７０ｍ シール部ギャップｄ２５１１１ 極間距離ｄ３１０ＩＩＩＩＩ ７ノード電極長さＪ１２１１００ｍ メッキ液主成分 Ｚｌｌ ８０４ （ｐＨ”” １．
４）液体シール幅 １０４０１Ｍ メッキ液噴射スプレー幅 １０４０＃ ２）結 果 ａ）板幅方向の付着分布 従来の竪型方式であれば第６図に示すように両端の付着
層が中央部に比較して大きく異なる。
Ｚｎ 付着量 両面メッキ ３０ｇ／ＴＩｔ／３０ｇ／Ｔｄト
レイ数 ９トレイ 両面アノード使用吹出しノズル間隔
６１ １１＃１ 吹出し初速Ｖｇ３ｍ／ｓｅｃ 液体シール高さＪｌｌ １７０ｍ シール部ギャップｄ２５１１１ 極間距離ｄ３１０ＩＩＩＩＩ ７ノード電極長さＪ１２１１００ｍ メッキ液主成分 Ｚｌｌ ８０４ （ｐＨ”” １．
４）液体シール幅 １０４０１Ｍ メッキ液噴射スプレー幅 １０４０＃ ２）結 果 ａ）板幅方向の付着分布 従来の竪型方式であれば第６図に示すように両端の付着
層が中央部に比較して大きく異なる。
他方、本発明方法でメッキした板幅方向付着量分布は両
端部に多くメッキが付着する事なく均一である、理由は
ストリップ幅に応じてメッキ噴流スプレー幅を合せてお
り、ストリップエツジにＺｎイオンが集中して１１１さ
れないためである。
端部に多くメッキが付着する事なく均一である、理由は
ストリップ幅に応じてメッキ噴流スプレー幅を合せてお
り、ストリップエツジにＺｎイオンが集中して１１１さ
れないためである。
ｂ）メッキ電圧の減少
従来の竪型方式に比較し極間距離が短かく、メッキ流速
が速くなるための下記表に示すようにメッキ電圧が減少
しメッキ消費電力が節減できる。
が速くなるための下記表に示すようにメッキ電圧が減少
しメッキ消費電力が節減できる。
（実施例２）片面メッキ
１）テスト条件
ライン速度 ６０ ｍ／ｌｉｎ
ストリップサイズ ０．８ｘ１２２０
メッキ品種 純ｚｎ
付！ｆｆｔ 片面メッキ Ｏ／４０（１／ボトレイ数
９トレイ 片面アノードのみ使用吹出しノズル間隔
１１ｍｍ 吹出し初速 ２ｍ／ＳｅＣ 液体シール高さ １６０ｍ シールギャップ ５ｍ 極間距離 １０ｍ アノード電極長さＪ１２ １１００＃＋ｌｌＩメッキ液
主成分 Ｚｎ ＳＯ４（ｐＨ−１，４）液体シール幅
１２５０層 メッキ液噴射スプレー幅 １２５０ｍ＋２）結 果 ａ）非メッキ面の付着量 非メッキ面の両端、中央の３点平均付＠量は従来方式で
５００ｑ／Ｔｄであるのに対し、本発明では１０ｕＩｇ
／イ以下である。
９トレイ 片面アノードのみ使用吹出しノズル間隔
１１ｍｍ 吹出し初速 ２ｍ／ＳｅＣ 液体シール高さ １６０ｍ シールギャップ ５ｍ 極間距離 １０ｍ アノード電極長さＪ１２ １１００＃＋ｌｌＩメッキ液
主成分 Ｚｎ ＳＯ４（ｐＨ−１，４）液体シール幅
１２５０層 メッキ液噴射スプレー幅 １２５０ｍ＋２）結 果 ａ）非メッキ面の付着量 非メッキ面の両端、中央の３点平均付＠量は従来方式で
５００ｑ／Ｔｄであるのに対し、本発明では１０ｕＩｇ
／イ以下である。
理由は非メッキ面ではメッキ液を噴射しないのでメッキ
液に接触する事なくメッキが付着されないためである。
液に接触する事なくメッキが付着されないためである。
ｂ）非メッキ面の両端のメッキ付着
非メッキ面の両端は従来方式であると第７図に実線で示
すような付着量分布となるが、本発明であれば破線に示
すように殆んど両端に付着されない。
すような付着量分布となるが、本発明であれば破線に示
すように殆んど両端に付着されない。
（実施例３）鉄−亜鉛合金メッキ
１）テスト条件
ライン速度 ５０ ｍ／ｍｉｎ
ストリップサイズ ０．７ｘ１３００
メッキ品種 鉄−亜鉛合金メッキ
付Ｗ！ｔ Ｏ／４０Ｍ尻
］・レイ数 ９トレイ 片面アノード使用吹出しノズル
間隔 １１Ｍ 吹出し初速 ６ ｍ ／ ｓｅａ 液体シール高さ ２００ｍ＋ シールギャップ ５層 極間距離 １０履 アノード電極長さ−ｔ２１１００＃ メッキ液主成分 Ｚｎ ８０４ 、Ｆｅ ３０４液体シ
ール幅 １３４０ｓｘ メッキ液噴射スプレー幅 １３４０＃１ｌ１２）結 果 ａ）合金メッキ層のＦｅ含有率の均一性従来方式（例え
ば特開昭５９−８９７９２）であれば７ノード電極の上
部と下部とで流速が大きく異なる。
間隔 １１Ｍ 吹出し初速 ６ ｍ ／ ｓｅａ 液体シール高さ ２００ｍ＋ シールギャップ ５層 極間距離 １０履 アノード電極長さ−ｔ２１１００＃ メッキ液主成分 Ｚｎ ８０４ 、Ｆｅ ３０４液体シ
ール幅 １３４０ｓｘ メッキ液噴射スプレー幅 １３４０＃１ｌ１２）結 果 ａ）合金メッキ層のＦｅ含有率の均一性従来方式（例え
ば特開昭５９−８９７９２）であれば７ノード電極の上
部と下部とで流速が大きく異なる。
例えば上部で１．５ ｍ／ｓｅｃ、
下部で４．５ ｍ／ｓｅｃ 。
流速比率は３００％である。Ｆｅ−Ｚｎのメッキ層のＦ
ｅ含有量はアノード電極とストリップ間を流れるメッキ
液の流速に大きく影響を受け、例えば第８図のようにな
る。
ｅ含有量はアノード電極とストリップ間を流れるメッキ
液の流速に大きく影響を受け、例えば第８図のようにな
る。
従って従来方式（特開昭５９−８９７９２＞で行うと竪
型トレイの場合トレイの上部と下部でメッキ層のＦｅ含
有率が第９図のように大きく異なる。
型トレイの場合トレイの上部と下部でメッキ層のＦｅ含
有率が第９図のように大きく異なる。
これを９トレイでメッキすると第１０図のようになる。
他方、本発明方式で行うと上部アノード電極の初速６Ｔ
ｒＬ／ＳｅＣで行うと上部で５ Ｉｌｌ／ＳｅＣ１下部
で９７ＦＬ／ＳｅＣ，流速比率は５０％上昇程度に収ま
る。
ｒＬ／ＳｅＣで行うと上部で５ Ｉｌｌ／ＳｅＣ１下部
で９７ＦＬ／ＳｅＣ，流速比率は５０％上昇程度に収ま
る。
従ってｌ”ｅの含有率の分布は第１１図となり、第９図
に比較すると大きく異なり良好の品質を製造できる。
に比較すると大きく異なり良好の品質を製造できる。
これを９トレイでメッキすると第１２図となり、均一な
ｌ”ｅ含有率分布となり、塗料密着性（特に二次密着性
）二次耐食性の良い自動車用防錆鋼板を製造できる。
ｌ”ｅ含有率分布となり、塗料密着性（特に二次密着性
）二次耐食性の良い自動車用防錆鋼板を製造できる。
（発明の効果）
この発明によれば、ノズルからメッキ液を噴出するので
、上部と下部の流速差を小さくすることができ、しかも
ノズルによりメッキ液を上部から噴出させていること及
びシール機構を設けていることにより気相の巻き込みを
防ぐことができ、このため所望組成の高品質の合金メッ
キ層を確実に形成することができる。またメッキ液は電
極とスＩ〜リップとの間にのみ噴出させる方式なので、
片面メッキを行う場合に非メッキ面にメッキ液が入りに
くくなり、更にストリップ幅に合せてメッキ液の噴流幅
を調整しているので、ストリップエツジへの付着ｍの増
加を防ぐことができる。この結果片面メッキを良好にお
こなえる。また極間距離を短くしてメッキ消費電力を節
減できる。
、上部と下部の流速差を小さくすることができ、しかも
ノズルによりメッキ液を上部から噴出させていること及
びシール機構を設けていることにより気相の巻き込みを
防ぐことができ、このため所望組成の高品質の合金メッ
キ層を確実に形成することができる。またメッキ液は電
極とスＩ〜リップとの間にのみ噴出させる方式なので、
片面メッキを行う場合に非メッキ面にメッキ液が入りに
くくなり、更にストリップ幅に合せてメッキ液の噴流幅
を調整しているので、ストリップエツジへの付着ｍの増
加を防ぐことができる。この結果片面メッキを良好にお
こなえる。また極間距離を短くしてメッキ消費電力を節
減できる。
第１図は本発明の一実施例を示す電気めっき装示す説明
図、第５図は実施例で使用した電気めっき装置の仕様例
を示す図、第６図は実施例１の結果を示す図、第７図は
実施例２の結果を示す図、第８図はメッキ液の流速とＦ
ｅ−Ｚｎメッキ層の１”ｅ含有量との関係を示す図、第
９図及び第１０図は実施例３において比較の対象となっ
た従来例の結果を示す図、第１１図及び第１２図は実施
例３の結果を示す図である。 １０・・・竪型メッキ槽、１１．１２・・・電極、１３
・・・ストリップ、１４・・・ロール、１５・・・ノズ
ルヘッダ、１６・・・ノズル、１７・・・メッキ液槽、
１８・・・上流バス用噴流ポンプ、１９・・・シール液
供給ボックス、２０・・・液面調整ゲート、２１・・・
貯蔵部、２２・・・液体シールスロート部、２３・・・
下流パス用噴硫ポンプ、２４・・・液体シール液面維持
ポンプ、２５・・・通電ロール、２６・・・噴流ガイド
部、２７・・・シール液受入口、３０・・・検出装置、
３１・・・ワークシリンダー、３２・・・ドライブサイ
ドシリンダー。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 Ｈ従弁。 第６図 ５１０１５２０ ３） ４ｏｓｏ
５０ ４０ ３０ ２０１５［５）−７４ｒイＶ
ドライ・７ザ
イド九ｊＬ （ｍ／５ｅｃ） 第１０図 第１１図 第１２図
図、第５図は実施例で使用した電気めっき装置の仕様例
を示す図、第６図は実施例１の結果を示す図、第７図は
実施例２の結果を示す図、第８図はメッキ液の流速とＦ
ｅ−Ｚｎメッキ層の１”ｅ含有量との関係を示す図、第
９図及び第１０図は実施例３において比較の対象となっ
た従来例の結果を示す図、第１１図及び第１２図は実施
例３の結果を示す図である。 １０・・・竪型メッキ槽、１１．１２・・・電極、１３
・・・ストリップ、１４・・・ロール、１５・・・ノズ
ルヘッダ、１６・・・ノズル、１７・・・メッキ液槽、
１８・・・上流バス用噴流ポンプ、１９・・・シール液
供給ボックス、２０・・・液面調整ゲート、２１・・・
貯蔵部、２２・・・液体シールスロート部、２３・・・
下流パス用噴硫ポンプ、２４・・・液体シール液面維持
ポンプ、２５・・・通電ロール、２６・・・噴流ガイド
部、２７・・・シール液受入口、３０・・・検出装置、
３１・・・ワークシリンダー、３２・・・ドライブサイ
ドシリンダー。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 Ｈ従弁。 第６図 ５１０１５２０ ３） ４ｏｓｏ
５０ ４０ ３０ ２０１５［５）−７４ｒイＶ
ドライ・７ザ
イド九ｊＬ （ｍ／５ｅｃ） 第１０図 第１１図 第１２図
Claims (3)
- （１）ストリップを、垂直又は所定角度傾斜して配置し
た電極に沿いかつ電極と一定の間隙をもつて走行せしめ
、同時に電極の上方に配置したノズルから、電極とスト
リップとの間隙にメッキ液を所望流速で流下させてスト
リップをメッキし、かつノズルの設置個所と上記間隙の
上部との間をメッキ液でシールしている電気メッキ方法
。 - （２）ストリップが、垂直又は所定角度傾斜して配置し
た電極に沿いかつこの電極と一定の間隙をもって走行し
てストリップのメッキを行う電気めっき装置において、
電極の上方に配置され電極とストリップとの間隙にメッ
キ液を所望流速で流下させるノズルと、ノズルの設置個
所と上記間隙の上部との間をメッキ液でシールするシー
ル機構とを具備した電気メッキ装置。 - （３）ストリップが、垂直又は所定角度傾斜して配置し
た電極に沿いかつこの電極と一定の間隙をもって走行し
てストリップのメッキを行う電気メッキ装置において、
電極の上方に配置され電極とストリップとの間隙にメッ
キ液を所望流速で流下させるノズルと、ノズルの設置個
所と上記間隙との間をメッキ液でシールするシール機構
と、ストリップ幅又はストリップ蛇行量を検出し、この
検出値にもとづいて上記シール機構のシール幅及びノズ
ルから噴出されるメッキ液の噴流幅を調整する機構とを
具備した電気メッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8383086A JPS62240793A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 電気メツキ方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8383086A JPS62240793A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 電気メツキ方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62240793A true JPS62240793A (ja) | 1987-10-21 |
| JPH049876B2 JPH049876B2 (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=13813611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8383086A Granted JPS62240793A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 電気メツキ方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62240793A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5989792A (ja) * | 1982-08-05 | 1984-05-24 | アンドリツツ−ルスナ・インダストリアンラ−ゲン・アクチエンゲゼルシヤフト | 金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法 |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP8383086A patent/JPS62240793A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5989792A (ja) * | 1982-08-05 | 1984-05-24 | アンドリツツ−ルスナ・インダストリアンラ−ゲン・アクチエンゲゼルシヤフト | 金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH049876B2 (ja) | 1992-02-21 |
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