JPH0499086A - リフロー装置 - Google Patents
リフロー装置Info
- Publication number
- JPH0499086A JPH0499086A JP2208440A JP20844090A JPH0499086A JP H0499086 A JPH0499086 A JP H0499086A JP 2208440 A JP2208440 A JP 2208440A JP 20844090 A JP20844090 A JP 20844090A JP H0499086 A JPH0499086 A JP H0499086A
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- JP
- Japan
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- substrate
- film
- heat source
- heat
- source section
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は基板上に塗布されたペースト状半田を加熱して
リフロー装置けするリフロー装置に関するものである。
リフロー装置けするリフロー装置に関するものである。
(従来の技術)
従来、リフロー半田付けする場合には、ペースト状半田
を塗布した基板をリフロー炉に挿入している。リフロー
炉は、熱風を吹き付けて加熱する対流方式、赤外線等を
照射する輻射方式、基板をヒートブロック上に載置して
加熱する伝熱方式や、これらを併用した方式等が知られ
ている。
を塗布した基板をリフロー炉に挿入している。リフロー
炉は、熱風を吹き付けて加熱する対流方式、赤外線等を
照射する輻射方式、基板をヒートブロック上に載置して
加熱する伝熱方式や、これらを併用した方式等が知られ
ている。
例えば、第6図に示すように、基板40をリフロー炉4
1内に配設したコンベア42にて搬送する間にその搬送
経路の上部や下部に配置した加熱ユニット43から熱風
を吹き付けたり、赤外線を照射したりして基板40の周
囲の雰囲気温度を240℃程度に所定時間保つように構
成されたものが知られている。
1内に配設したコンベア42にて搬送する間にその搬送
経路の上部や下部に配置した加熱ユニット43から熱風
を吹き付けたり、赤外線を照射したりして基板40の周
囲の雰囲気温度を240℃程度に所定時間保つように構
成されたものが知られている。
又、特開昭54−80565号公報には、溶融半田等の
加熱された液状物質上に良熱伝導性の板を浮かべ、この
板の上に基板を載せ、良熱伝導性の板を介して基板上の
ペースト状半田をリフローし、半田付けする方法が開示
されている。
加熱された液状物質上に良熱伝導性の板を浮かべ、この
板の上に基板を載せ、良熱伝導性の板を介して基板上の
ペースト状半田をリフローし、半田付けする方法が開示
されている。
(発明が解決しようとする諜J!り
ところが、上記リフロー炉41による加熱では基板40
の全面を均一に加熱するのが困難であるばかりでなく、
基板40にハイブリッドIC部品等の耐熱性の低い電子
部品を搭載した状態では、この電子部品が損傷してしま
う恐れがあるため一括してリフロー半田付けすることが
できず、耐熱性の低い電子部品はリフロー半田付けした
後に別途に手作業で半田付けしたり、レーザー光等にて
個別にリフロー半田付けしたりするしかなく、回路基板
の製造工程が複雑になり、コスト高になるという問題が
あった。
の全面を均一に加熱するのが困難であるばかりでなく、
基板40にハイブリッドIC部品等の耐熱性の低い電子
部品を搭載した状態では、この電子部品が損傷してしま
う恐れがあるため一括してリフロー半田付けすることが
できず、耐熱性の低い電子部品はリフロー半田付けした
後に別途に手作業で半田付けしたり、レーザー光等にて
個別にリフロー半田付けしたりするしかなく、回路基板
の製造工程が複雑になり、コスト高になるという問題が
あった。
又、上記公報に開示されたりフロ一方法では、熱源とし
て加熱された溶融半田を用いているので、原理的には温
度分布が均一となり、基板の全面を均一に加熱すること
が可能であるが、実際には基板にある程度のそりが発生
することは避けられないため、良熱伝導性の板との間に
隙間ができることがあり、隙間が生じると熱伝導性が著
しく低下するため、結局均一な加熱ができないという問
題があり、かつ上記と同様に耐熱性の低い電子部品を搭
載した状態で一括してリフローすることはできないとい
う問題がある。
て加熱された溶融半田を用いているので、原理的には温
度分布が均一となり、基板の全面を均一に加熱すること
が可能であるが、実際には基板にある程度のそりが発生
することは避けられないため、良熱伝導性の板との間に
隙間ができることがあり、隙間が生じると熱伝導性が著
しく低下するため、結局均一な加熱ができないという問
題があり、かつ上記と同様に耐熱性の低い電子部品を搭
載した状態で一括してリフローすることはできないとい
う問題がある。
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、耐熱性の低い電子
部品が搭載された基板に対して一括してリフロー半田付
けを行え、また均一に加熱できて品質の高い半田付けが
行えるリフロー装置を提供することを目的とする。
部品が搭載された基板に対して一括してリフロー半田付
けを行え、また均一に加熱できて品質の高い半田付けが
行えるリフロー装置を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明のリフロー装置は、上記目的を達成するため、上
面にペースト状半田を塗布されるとともに電子部品を搭
載された基板の下面を接触させて伝熱加熱する熱源部と
、基板を保持して熱源部上に設置する手段と、基板上の
所望の電子部品に対して冷たい物質を接触させて冷却す
る手段とを備えたことを特徴とする。
面にペースト状半田を塗布されるとともに電子部品を搭
載された基板の下面を接触させて伝熱加熱する熱源部と
、基板を保持して熱源部上に設置する手段と、基板上の
所望の電子部品に対して冷たい物質を接触させて冷却す
る手段とを備えたことを特徴とする。
又、好適には熱源部が、上面に開口を有する槽の上面開
口を可撓性のある薄膜体にて密閉し、この槽内に少なく
とも加熱状態で流動性を有する流動体を充満するととも
にこの流動体を所定温度に加熱する加熱手段を設けた構
成とされる。
口を可撓性のある薄膜体にて密閉し、この槽内に少なく
とも加熱状態で流動性を有する流動体を充満するととも
にこの流動体を所定温度に加熱する加熱手段を設けた構
成とされる。
(作 用)
本発明の上記構成によれば、熱源部にて基板の下面から
伝熱方式で効率的にかつ比較的均一に基板を加熱して基
板上に塗布されたペースト状半田をリフローすることが
でき、しかも耐熱性の低い電子部品に対してはその上方
から冷却手段にて冷却することによってその損傷を確実
に防止することができるため、耐熱性の低い電子部品が
搭載されていても一括してリフロー半田を行うことがで
きる。
伝熱方式で効率的にかつ比較的均一に基板を加熱して基
板上に塗布されたペースト状半田をリフローすることが
でき、しかも耐熱性の低い電子部品に対してはその上方
から冷却手段にて冷却することによってその損傷を確実
に防止することができるため、耐熱性の低い電子部品が
搭載されていても一括してリフロー半田を行うことがで
きる。
又、熱源部として、加熱手段にて所定温度に加熱された
温度分布の均一な流動体の上面に接するように可撓性の
ある薄膜体を配置し、その薄膜体上に基板を接触させる
ようにしたものを用いることにより、基板の薄膜体に接
する伝熱面に多少の凹凸があ1ても薄膜体との間に隙間
が生じることはなく、薄いために熱伝導性のよい薄膜体
を介して基板を効率的に均一加熱することができ、品質
の高いリフロー半田付けができる。
温度分布の均一な流動体の上面に接するように可撓性の
ある薄膜体を配置し、その薄膜体上に基板を接触させる
ようにしたものを用いることにより、基板の薄膜体に接
する伝熱面に多少の凹凸があ1ても薄膜体との間に隙間
が生じることはなく、薄いために熱伝導性のよい薄膜体
を介して基板を効率的に均一加熱することができ、品質
の高いリフロー半田付けができる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を第1図〜第5図を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
第1図において、1はリフロー用の第1の熱源部、2は
予熱用の第2の熱源部、3は搬入コンベア、4は搬出コ
ンベアである。5は、搬入コンベア3にて搬入された基
板10を、第2の熱源部2、第1の熱源部1、搬出コン
ベア4に順次搬送する搬送装置である。6は、搬出コン
ベア4の下部に配設された基板10の冷却手段である。
予熱用の第2の熱源部、3は搬入コンベア、4は搬出コ
ンベアである。5は、搬入コンベア3にて搬入された基
板10を、第2の熱源部2、第1の熱源部1、搬出コン
ベア4に順次搬送する搬送装置である。6は、搬出コン
ベア4の下部に配設された基板10の冷却手段である。
搬送装置5は、基板10の搬送方向に沿って配設された
ガイドレール7と、このガイドレール7に沿って移動可
能な可動体8と、この可動体8に取付けられた昇降手段
9にて昇降されるとともに基板10を吸着して保持する
保持ヘッド11にて構成されている。基板10上には、
第2図に示すように、リフローすべきペースト状半田が
塗布されるとともにその上に耐熱性のある電子部品10
bに限らず、耐熱性の低い電子部品10aが搭載されて
いる。
ガイドレール7と、このガイドレール7に沿って移動可
能な可動体8と、この可動体8に取付けられた昇降手段
9にて昇降されるとともに基板10を吸着して保持する
保持ヘッド11にて構成されている。基板10上には、
第2図に示すように、リフローすべきペースト状半田が
塗布されるとともにその上に耐熱性のある電子部品10
bに限らず、耐熱性の低い電子部品10aが搭載されて
いる。
保持ヘッド11には、第2図に示すように、基板10の
両端部と中間部のそれぞれ2箇所、計6箇所を吸着して
保持するように吸着ノズル12が設けられるとともに、
この吸着ノズル12にて吸着された基板10上に搭載さ
れた耐熱性の低い電子部品10aの上部に対向するよう
に冷却ノズル13が設けられている。吸着ノズル12は
図示しない吸引源に接続された吸引口14に連通し、冷
却ノズル13は図示しない冷却風供給手段に接続された
冷却風供給口15に連通されている。
両端部と中間部のそれぞれ2箇所、計6箇所を吸着して
保持するように吸着ノズル12が設けられるとともに、
この吸着ノズル12にて吸着された基板10上に搭載さ
れた耐熱性の低い電子部品10aの上部に対向するよう
に冷却ノズル13が設けられている。吸着ノズル12は
図示しない吸引源に接続された吸引口14に連通し、冷
却ノズル13は図示しない冷却風供給手段に接続された
冷却風供給口15に連通されている。
第1の熱源部1及び第2の熱源部2は、第3図に示すよ
うに構成されている。尚、第2の熱源部2は、基板10
を予熱するために低い温度に制御されているだけで、構
成は第1の熱源部1と同一であるため、以下第1の熱源
部1についてのみ説明する。
うに構成されている。尚、第2の熱源部2は、基板10
を予熱するために低い温度に制御されているだけで、構
成は第1の熱源部1と同一であるため、以下第1の熱源
部1についてのみ説明する。
第3図において、21は溶融半田22を収容した上面開
放の槽で、その下面には第1の加熱手段23が配設され
、溶融半田22を所定温度に維持するように構成されて
いる。この槽21の開放された上面は、溶融半田22の
上面に接するように配設された例えば50μm厚のポリ
イミドフィルム等の耐熱性フィルム24にて密閉状態で
覆われている。25はこの耐熱性フィルム4の周囲を槽
21の上端部内周に密閉状態で固定する固定枠である。
放の槽で、その下面には第1の加熱手段23が配設され
、溶融半田22を所定温度に維持するように構成されて
いる。この槽21の開放された上面は、溶融半田22の
上面に接するように配設された例えば50μm厚のポリ
イミドフィルム等の耐熱性フィルム24にて密閉状態で
覆われている。25はこの耐熱性フィルム4の周囲を槽
21の上端部内周に密閉状態で固定する固定枠である。
この槽21の一例には連通関口27を介してこの槽21
に連通ずる予備槽26が配設され、その下面には第2の
加熱手段28が配設され、かつ第1と第2の加熱手段2
3.28間には断熱材29が介装され、別途に加熱でき
るように構成されている。この予備槽26内の上部には
、溶融半田22内に浸漬した下降位置と上方に退避した
上昇位置との間で昇降可能な浸漬体31が設けられてお
り、この浸漬体31を昇降駆動手段32で下降させて溶
融半田22内に浸漬させると、予備槽26内の溶融半田
22の上面が仮想線で示すように上昇し、そのヘッド圧
Hが槽21内の溶融半田22に作用して加圧するように
構成されている。このようにヘッド圧Hを利用して槽2
1内の溶融半田22を加圧することにより、安定した加
圧状態が得られる。
に連通ずる予備槽26が配設され、その下面には第2の
加熱手段28が配設され、かつ第1と第2の加熱手段2
3.28間には断熱材29が介装され、別途に加熱でき
るように構成されている。この予備槽26内の上部には
、溶融半田22内に浸漬した下降位置と上方に退避した
上昇位置との間で昇降可能な浸漬体31が設けられてお
り、この浸漬体31を昇降駆動手段32で下降させて溶
融半田22内に浸漬させると、予備槽26内の溶融半田
22の上面が仮想線で示すように上昇し、そのヘッド圧
Hが槽21内の溶融半田22に作用して加圧するように
構成されている。このようにヘッド圧Hを利用して槽2
1内の溶融半田22を加圧することにより、安定した加
圧状態が得られる。
又、耐熱性フィルム24の破損検出手段33として、浸
漬体31を浸漬して予備槽26内の溶融半田22の上面
が上昇した状態で溶融半田22にて互いに短絡する一対
の電極34a、34bが設けられ、電源35及び警報器
36に接続されていおり、浸漬体31を浸漬した状態で
溶融半田22の上面が下降して画電極34a、34bが
絶縁されたときに警報を発するように構成されている。
漬体31を浸漬して予備槽26内の溶融半田22の上面
が上昇した状態で溶融半田22にて互いに短絡する一対
の電極34a、34bが設けられ、電源35及び警報器
36に接続されていおり、浸漬体31を浸漬した状態で
溶融半田22の上面が下降して画電極34a、34bが
絶縁されたときに警報を発するように構成されている。
以上の構成において、基l1jlO上のペースト状半田
をリフローして半田付けするには、その基板10を搬入
コンベア3にて搬入し、搬送装置5の保持ヘノドエ1に
て基板1oを吸着保持した状態でこの保持ヘッド11に
て基板1oを第1と第2の熱源部1.2上に順次供給す
る。これら熱源部1.2においては、保持ヘッド11に
て保持した基板10を、第4図に示すように槽21の上
面の耐熱性フィルム24上に接触させ、さらに第5図に
示すように、基板1oを耐熱性フィルム24に向けて若
干押し付ける。その際、溶融半田22が加圧されている
ために、第4図に示すように耐熱性フィルム24はその
中央部が若干上方に膨らんでおり、そのため基板lOを
単に上方から押し付けるだけで中央部から周囲に順次耐
熱性フィルム24に密着させることができて基板1oと
耐熱性フィルム24の間に空気を噛み込むことがない。
をリフローして半田付けするには、その基板10を搬入
コンベア3にて搬入し、搬送装置5の保持ヘノドエ1に
て基板1oを吸着保持した状態でこの保持ヘッド11に
て基板1oを第1と第2の熱源部1.2上に順次供給す
る。これら熱源部1.2においては、保持ヘッド11に
て保持した基板10を、第4図に示すように槽21の上
面の耐熱性フィルム24上に接触させ、さらに第5図に
示すように、基板1oを耐熱性フィルム24に向けて若
干押し付ける。その際、溶融半田22が加圧されている
ために、第4図に示すように耐熱性フィルム24はその
中央部が若干上方に膨らんでおり、そのため基板lOを
単に上方から押し付けるだけで中央部から周囲に順次耐
熱性フィルム24に密着させることができて基板1oと
耐熱性フィルム24の間に空気を噛み込むことがない。
又、耐熱性フィルム24は可撓性があるため、基板10
に多少のそりがあっても陳間を住しることがないため、
耐熱性フィルム24が基板1oの下面に沿って強く密着
し、所定温度に加熱された溶融半田22にて耐熱性フィ
ルム24を介して基板10の全面が均一に加熱される。
に多少のそりがあっても陳間を住しることがないため、
耐熱性フィルム24が基板1oの下面に沿って強く密着
し、所定温度に加熱された溶融半田22にて耐熱性フィ
ルム24を介して基板10の全面が均一に加熱される。
即ち、溶融半田22は液体状態であるためその温度分布
を容易に均一化でき、その上面に接している薄い耐熱性
フィルム24に対して基板1oの下面を密着状態で押し
付けることによって基板1oに均一に熱が伝わって効率
的に均一加熱される。又、溶融半田22がその上面に接
する耐熱性フィルム24にて覆われているので、その酸
化が防止され、酸化物の性成による熱伝導度の低下や不
均一性の全体を防止できる。かくして、基板10上のペ
ースト状半田が均一にリフローし、高品質の半田付けが
行われる。
を容易に均一化でき、その上面に接している薄い耐熱性
フィルム24に対して基板1oの下面を密着状態で押し
付けることによって基板1oに均一に熱が伝わって効率
的に均一加熱される。又、溶融半田22がその上面に接
する耐熱性フィルム24にて覆われているので、その酸
化が防止され、酸化物の性成による熱伝導度の低下や不
均一性の全体を防止できる。かくして、基板10上のペ
ースト状半田が均一にリフローし、高品質の半田付けが
行われる。
又、第1の熱源部1においてリフローする際には、耐熱
性の低い電子部品10aに対してその上方から冷却ノズ
ル13にて冷却風を吹き付けて冷却するので、その損傷
を確実に防止することができる。勿論、この電子部品1
0aのリードも基板10の下面から供給された熱によっ
て確実にリフロー半田付けされる。このように、基板1
oに耐熱性の低い電子部品10aが搭載されていても、
それを損傷する恐れなく、−括してリフロー半田付けを
行うことができる 尚、耐熱性フィルム24が破損した場合には、溶融半田
22が漏れ出して予備槽26内の溶融半田22の上面が
下降し、電極34a、34b間が絶縁されるので、警報
器36が作動してすぐに知ることができ、速やかに適当
な処理を施すことができる。
性の低い電子部品10aに対してその上方から冷却ノズ
ル13にて冷却風を吹き付けて冷却するので、その損傷
を確実に防止することができる。勿論、この電子部品1
0aのリードも基板10の下面から供給された熱によっ
て確実にリフロー半田付けされる。このように、基板1
oに耐熱性の低い電子部品10aが搭載されていても、
それを損傷する恐れなく、−括してリフロー半田付けを
行うことができる 尚、耐熱性フィルム24が破損した場合には、溶融半田
22が漏れ出して予備槽26内の溶融半田22の上面が
下降し、電極34a、34b間が絶縁されるので、警報
器36が作動してすぐに知ることができ、速やかに適当
な処理を施すことができる。
又、作業終了時には、まず第1の加熱手段23の作動を
停止して槽21の溶融半田22を冷却固化させ、その時
の収縮分を予備槽26から供給することによって耐熱性
フィルム24を保護し、槽21内の溶融半田22が冷却
固化した後、第2の加熱手段28の作動を停止して予備
槽26内の溶融半田22を冷却固化させる。又、作業開
始時には、同様の理由から第2の加熱手段28を作動さ
せて予備槽26内の半田を溶融させた後、第1の加熱手
段23を作動させ、槽21内の半田を溶融させる。
停止して槽21の溶融半田22を冷却固化させ、その時
の収縮分を予備槽26から供給することによって耐熱性
フィルム24を保護し、槽21内の溶融半田22が冷却
固化した後、第2の加熱手段28の作動を停止して予備
槽26内の溶融半田22を冷却固化させる。又、作業開
始時には、同様の理由から第2の加熱手段28を作動さ
せて予備槽26内の半田を溶融させた後、第1の加熱手
段23を作動させ、槽21内の半田を溶融させる。
上記実施例では、加熱流動体として溶融半田2を用いた
が、シリコンオイル等を用いることもできる。又、薄膜
体としてポリイミドフィルム等の耐熱性フィルム24を
用いた例を示したが、その他必要な強度と加熱流動体に
対する耐熱性があり、かつ加熱流動体が透過して上方に
流出することのない任意の材質の薄い膜状体を用いるこ
とができる。
が、シリコンオイル等を用いることもできる。又、薄膜
体としてポリイミドフィルム等の耐熱性フィルム24を
用いた例を示したが、その他必要な強度と加熱流動体に
対する耐熱性があり、かつ加熱流動体が透過して上方に
流出することのない任意の材質の薄い膜状体を用いるこ
とができる。
又、耐熱性の低い電子部品10aを冷却する手段として
冷却ノズル13から冷却風を吹き出すようにした例を示
したが、冷却ブロックを接触させて冷却するようにして
もよい。
冷却ノズル13から冷却風を吹き出すようにした例を示
したが、冷却ブロックを接触させて冷却するようにして
もよい。
(発明の効果)
本発明によれば、熱源部にて基板の下面がら伝熱方式で
効率的にかつ比較的均一に基板を加熱して基板上に塗布
されたペースト状半田をリフローすることができ、しか
も耐熱性の低い電子部品に対してはその上方から冷却手
段にて冷却することによってその損傷を確実に防止する
ことができるため、耐熱性の低い電子部品が搭載されて
いても一括してリフロー半田を行うことができるという
効果を発揮する。
効率的にかつ比較的均一に基板を加熱して基板上に塗布
されたペースト状半田をリフローすることができ、しか
も耐熱性の低い電子部品に対してはその上方から冷却手
段にて冷却することによってその損傷を確実に防止する
ことができるため、耐熱性の低い電子部品が搭載されて
いても一括してリフロー半田を行うことができるという
効果を発揮する。
又、熱源部として、加熱手段にて所定温度に加熱された
温度分布の均一な流動体の上面に接するように可撓性の
ある薄膜体を配置し、その薄膜体上に基板を接触させる
ようにしたものを用いることにより、基板の薄膜体に接
する伝熱面に多少の凹凸があっても薄膜体との間に陳間
が生じることはなく、薄いために熱伝導性のよい薄膜体
を介して基板を効率的に均一加熱することができ、品質
の高いリフロー半田付けができる。
温度分布の均一な流動体の上面に接するように可撓性の
ある薄膜体を配置し、その薄膜体上に基板を接触させる
ようにしたものを用いることにより、基板の薄膜体に接
する伝熱面に多少の凹凸があっても薄膜体との間に陳間
が生じることはなく、薄いために熱伝導性のよい薄膜体
を介して基板を効率的に均一加熱することができ、品質
の高いリフロー半田付けができる。
第1図は本発明の一実施例の縦断正面図、第2図は同要
部である保持ヘッド部の拡大図、第3図は熱源部の構成
を示す縦断側面図、第4図、第5図は基板の加熱直前と
加熱状態における薄膜体との接触状態を示す断面図、第
6図は従来例の構成図である。 1−−−−−−・・−・・−一−−−〜−−・・−・第
1の熱源部0−・・−・・−−−−−一−−−−−−・
−・基板1 ・−・−・−−−−−一保持ヘッド3
・・−・−−−−−−−・−−−−−−−−−−−・−
冷却ノズル1−・−・・−・−・−・−槽 2・−・−−−−一・−・・・−・・−−一−−−−−
溶融半田3 −・−・−・−第1の加熱手段4−−
−−−・−−−−−−−・・・−・−−一−−−−−−
耐熱性フィルム。
部である保持ヘッド部の拡大図、第3図は熱源部の構成
を示す縦断側面図、第4図、第5図は基板の加熱直前と
加熱状態における薄膜体との接触状態を示す断面図、第
6図は従来例の構成図である。 1−−−−−−・・−・・−一−−−〜−−・・−・第
1の熱源部0−・・−・・−−−−−一−−−−−−・
−・基板1 ・−・−・−−−−−一保持ヘッド3
・・−・−−−−−−−・−−−−−−−−−−−・−
冷却ノズル1−・−・・−・−・−・−槽 2・−・−−−−一・−・・・−・・−−一−−−−−
溶融半田3 −・−・−・−第1の加熱手段4−−
−−−・−−−−−−−・・・−・−−一−−−−−−
耐熱性フィルム。
Claims (2)
- (1)上面にペースト状半田を塗布されるとともに電子
部品を搭載された基板の下面を接触させて伝熱加熱する
熱源部と、基板を保持して熱源部上に設置する手段と、
基板上の所望の電子部品に対して冷たい物質を接触させ
て冷却する手段とを備えたことを特徴とするリフロー装
置。 - (2)熱源部が、上面に開口を有する槽の上面開口を可
撓性のある薄膜体にて密閉し、この槽内に少なくとも加
熱状態で流動性を有する流動体を充満するとともにこの
流動体を所定温度に加熱する加熱手段を設けて構成した
ことを特徴とする請求項1記載のリフロー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2208440A JPH0499086A (ja) | 1990-08-06 | 1990-08-06 | リフロー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2208440A JPH0499086A (ja) | 1990-08-06 | 1990-08-06 | リフロー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0499086A true JPH0499086A (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=16556248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2208440A Pending JPH0499086A (ja) | 1990-08-06 | 1990-08-06 | リフロー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0499086A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011235311A (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Yokota Technica:Kk | 伝熱装置 |
-
1990
- 1990-08-06 JP JP2208440A patent/JPH0499086A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011235311A (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Yokota Technica:Kk | 伝熱装置 |
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