JPH049925B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH049925B2 JPH049925B2 JP57014502A JP1450282A JPH049925B2 JP H049925 B2 JPH049925 B2 JP H049925B2 JP 57014502 A JP57014502 A JP 57014502A JP 1450282 A JP1450282 A JP 1450282A JP H049925 B2 JPH049925 B2 JP H049925B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating shaft
- radial bearing
- bearing
- fluid
- circumferential surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C17/00—Sliding-contact bearings for exclusively rotary movement
- F16C17/02—Sliding-contact bearings for exclusively rotary movement for radial load only
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sliding-Contact Bearings (AREA)
- Rotational Drive Of Disk (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は流体を潤滑剤とする流体ラジアル軸受
装置に関する。
装置に関する。
流体ラジアル軸受装置は、第1図に示すよう
に、回転軸1とラジアル軸受2との間に形成され
る軸受隙間3に潤滑油等の流体が充填される。
に、回転軸1とラジアル軸受2との間に形成され
る軸受隙間3に潤滑油等の流体が充填される。
かかる流体ラジアル軸受装置においては、軸受
隙間の間隔が全周に亘り等しい状態から回転軸1
の回転が開始されれば、回転軸1はその中心Qの
位置が変化することなく回転するが、軸受隙間の
間隔が全周に亘り等しくない状態からその回転が
開始されると、その中心Qの位置が一定の周期で
変化しながら即ち、旋回運動しながら回転する。
隙間の間隔が全周に亘り等しい状態から回転軸1
の回転が開始されれば、回転軸1はその中心Qの
位置が変化することなく回転するが、軸受隙間の
間隔が全周に亘り等しくない状態からその回転が
開始されると、その中心Qの位置が一定の周期で
変化しながら即ち、旋回運動しながら回転する。
これにつき第2図を用いて説明すると、第2図
aは回転軸1の回転開始前の状態を示し、軸受隙
間の間隔は不均一の状態にある。この状態から回
転軸1が矢印の時計方向に回軸を始めると、回転
軸1の回転に伴ない軸受隙間3に充填された流体
も時計方向に層流で流れ始める。然しながら、流
体の平均流速V2は回転軸1の回転速度V1の半分
であるため、回転軸1は旋回運動をしながら回転
することになり、この旋回運動は回転軸1が二回
転に対し一回の周期で同じ動きを繰返す。なお、
第2図a〜hは回転軸1が二回転する間の状態を
回転角π/2ごとに示すものであり、回転状態を分 り易くするため記号Aをもつて回転軸1上の一点
を表わしている。
aは回転軸1の回転開始前の状態を示し、軸受隙
間の間隔は不均一の状態にある。この状態から回
転軸1が矢印の時計方向に回軸を始めると、回転
軸1の回転に伴ない軸受隙間3に充填された流体
も時計方向に層流で流れ始める。然しながら、流
体の平均流速V2は回転軸1の回転速度V1の半分
であるため、回転軸1は旋回運動をしながら回転
することになり、この旋回運動は回転軸1が二回
転に対し一回の周期で同じ動きを繰返す。なお、
第2図a〜hは回転軸1が二回転する間の状態を
回転角π/2ごとに示すものであり、回転状態を分 り易くするため記号Aをもつて回転軸1上の一点
を表わしている。
一方、流体ラジアル軸受装置は例えば音響機器
であるレコードプレーヤのターンテーブルの回転
軸受部などに採用されるが、かかる実際の使用に
おいてはその使用態様により或いは回転軸に荷重
などが加えられることにより、起動時には軸受隙
間の間隔が不均一な状態をとるのが普通である。
このため、回転軸は上述のように回転中旋回運動
を行なうことになるが、これは音響機器等におい
て再生特性など劣化を招来する。
であるレコードプレーヤのターンテーブルの回転
軸受部などに採用されるが、かかる実際の使用に
おいてはその使用態様により或いは回転軸に荷重
などが加えられることにより、起動時には軸受隙
間の間隔が不均一な状態をとるのが普通である。
このため、回転軸は上述のように回転中旋回運動
を行なうことになるが、これは音響機器等におい
て再生特性など劣化を招来する。
そして、この旋回運動の防止対策として、先ず
軸受隙間の間隔を小さくすることが有効と考えら
れるが音響機器等で旋回運動を無視できるまでに
間隔を小さくすることは加工精度上困難である。
また、別の対策として、第3図に示すごとく回転
軸1が変位しないように、回転軸1に側圧P1を
加えて回転軸1をラジアル軸受の内周面の一方に
常に押しつける構成も考えられるが、この場合、
回転中、側圧P1に対し流体の油圧による抗力P2
が発生するため大きな回転損失を招く欠点があ
る。
軸受隙間の間隔を小さくすることが有効と考えら
れるが音響機器等で旋回運動を無視できるまでに
間隔を小さくすることは加工精度上困難である。
また、別の対策として、第3図に示すごとく回転
軸1が変位しないように、回転軸1に側圧P1を
加えて回転軸1をラジアル軸受の内周面の一方に
常に押しつける構成も考えられるが、この場合、
回転中、側圧P1に対し流体の油圧による抗力P2
が発生するため大きな回転損失を招く欠点があ
る。
本発明はラジアル軸受の軸心に回転軸の軸心を
正確に一致させ、且つこの状態で回転軸を旋回運
動を行うことなく回転させることにより、回転軸
の回転損失を防止するラジアル軸受装置を提供す
ることを目的とするものであり、以下その実施例
をもつて説明する。
正確に一致させ、且つこの状態で回転軸を旋回運
動を行うことなく回転させることにより、回転軸
の回転損失を防止するラジアル軸受装置を提供す
ることを目的とするものであり、以下その実施例
をもつて説明する。
第4図において、1は回転軸、2はラジアル軸
受をそれぞれ示し、図のX−X方向における要部
断面が、第1図或いは第2図等に示す軸受装置の
要部断面図に対応する。
受をそれぞれ示し、図のX−X方向における要部
断面が、第1図或いは第2図等に示す軸受装置の
要部断面図に対応する。
透孔41がラジアル軸受2の内径より径大に形
成されたリング部材4は回転軸1に遊嵌され、第
5図aなどに示すごとく、ラジアル軸受2の内周
の一部においてラジアル軸受2の内周面21側か
ら軸受隙間3の一部を覆う状態で突出されてラジ
アル軸受2の上端面22にネジ5,5で取付けら
れることにより、回転軸1と係合し、ラジアル軸
受2の内周の一部において回転軸1の外周面11
とラジアル軸受2の内周面21との接触を禁止す
ると共に、回転軸1を、その中心Qとラジアル軸
受2の中心とが一致する位置に案内する案内手段
を成す。ここで案内手段であるリング部材4が軸
受隙間3を覆う部分におけるラジアル軸受2の内
周面21側からの半径方向の最大突出量Tは軸受
隙間3の間隔が全周に亘り均一である状態時(第
5図d〜h)のその間隔と等しく設定されるもの
で、回転軸1の回転中において、リング部材4は
回転軸1に常に係合した状態となるも、回転軸1
に側圧を加えることはない。
成されたリング部材4は回転軸1に遊嵌され、第
5図aなどに示すごとく、ラジアル軸受2の内周
の一部においてラジアル軸受2の内周面21側か
ら軸受隙間3の一部を覆う状態で突出されてラジ
アル軸受2の上端面22にネジ5,5で取付けら
れることにより、回転軸1と係合し、ラジアル軸
受2の内周の一部において回転軸1の外周面11
とラジアル軸受2の内周面21との接触を禁止す
ると共に、回転軸1を、その中心Qとラジアル軸
受2の中心とが一致する位置に案内する案内手段
を成す。ここで案内手段であるリング部材4が軸
受隙間3を覆う部分におけるラジアル軸受2の内
周面21側からの半径方向の最大突出量Tは軸受
隙間3の間隔が全周に亘り均一である状態時(第
5図d〜h)のその間隔と等しく設定されるもの
で、回転軸1の回転中において、リング部材4は
回転軸1に常に係合した状態となるも、回転軸1
に側圧を加えることはない。
かかる構成により、回転軸1が第2図aに示す
ような軸受隙間3の間隔が不均一な状態から回転
を開始しても、その回転初期時において必ず軸受
隙間3の一部を覆う状態で内周面21側から突出
されるリング部材4の透孔41に係合し、軸受隙
間3の間隔が均一となる位置、即ちその軸心とラ
ジアル軸受2の軸心とが一致する位置に案内され
ることになり、回転軸1はこの位置に案内された
後はその中心Qの位置が変化することなく回転を
行なう。なお、第5図a〜hは、第2図と同様に
回転軸1が二回転する間の状態をそれぞれ回転角
π/2ごとに示すものである。
ような軸受隙間3の間隔が不均一な状態から回転
を開始しても、その回転初期時において必ず軸受
隙間3の一部を覆う状態で内周面21側から突出
されるリング部材4の透孔41に係合し、軸受隙
間3の間隔が均一となる位置、即ちその軸心とラ
ジアル軸受2の軸心とが一致する位置に案内され
ることになり、回転軸1はこの位置に案内された
後はその中心Qの位置が変化することなく回転を
行なう。なお、第5図a〜hは、第2図と同様に
回転軸1が二回転する間の状態をそれぞれ回転角
π/2ごとに示すものである。
上述の実施例においては、案内手段であるリン
グ部材4のラジアル軸受2の内周面21側からの
最大突出量Tを軸受〓間3の間隔が全周に亘り均
一である状態時のその間隔と等しく設定したが、
リング部材4の最大突出量Tを上記均一である状
態時の間隔以下の所要の範囲内の値に設定するこ
ともできる。これは、回転軸1の中心Qがラジア
ル軸受2の中心の近傍に案内されることにより、
回転軸1にラジアル軸受2(流体)自体による調
心力、即ち、回転軸1をその中心Qとラジアル軸
受2の中心とが一致する位置(軸受〓間の間隔が
全周に亘り等しくなる位置)に引き込む力が作用
するためである。従つて、この場合、回転軸1
は、その回転初期においてリング部材4と係合す
ることにより、その中心Qとラジアル軸受2の中
心が略一致する位置に案内される。そして、その
後の回転に伴い、回転軸1には上記調心力が作用
されてリング部材4との係合が解除され、その中
心Qがラジアル軸受2の中心と一致する位置に案
内される。
グ部材4のラジアル軸受2の内周面21側からの
最大突出量Tを軸受〓間3の間隔が全周に亘り均
一である状態時のその間隔と等しく設定したが、
リング部材4の最大突出量Tを上記均一である状
態時の間隔以下の所要の範囲内の値に設定するこ
ともできる。これは、回転軸1の中心Qがラジア
ル軸受2の中心の近傍に案内されることにより、
回転軸1にラジアル軸受2(流体)自体による調
心力、即ち、回転軸1をその中心Qとラジアル軸
受2の中心とが一致する位置(軸受〓間の間隔が
全周に亘り等しくなる位置)に引き込む力が作用
するためである。従つて、この場合、回転軸1
は、その回転初期においてリング部材4と係合す
ることにより、その中心Qとラジアル軸受2の中
心が略一致する位置に案内される。そして、その
後の回転に伴い、回転軸1には上記調心力が作用
されてリング部材4との係合が解除され、その中
心Qがラジアル軸受2の中心と一致する位置に案
内される。
従つて、この場合、回転軸1はリング部材4と
の係合が解除された状態で回転するので、回転軸
1の、リング部材4との摩擦による回転損失をも
なくすことができる。
の係合が解除された状態で回転するので、回転軸
1の、リング部材4との摩擦による回転損失をも
なくすことができる。
更に、上述の実施例においては案内手段をリン
グ部材をもつて構成したが、これに限定されるも
のではなく種々の態様においても同一の作用、効
果を奏することができる。また、案内手段はラジ
アル軸受の内周面側からのその最大突出量Tが、
軸受〓間3の間隔が全周に亘り均一である状態時
のその間隔以下の所要の範囲内で調整可能に配置
されることもできる。また、上述の実施例におい
ては、案内手段を軸受の端面に設けたが、軸受の
内部に設けてもよい。
グ部材をもつて構成したが、これに限定されるも
のではなく種々の態様においても同一の作用、効
果を奏することができる。また、案内手段はラジ
アル軸受の内周面側からのその最大突出量Tが、
軸受〓間3の間隔が全周に亘り均一である状態時
のその間隔以下の所要の範囲内で調整可能に配置
されることもできる。また、上述の実施例におい
ては、案内手段を軸受の端面に設けたが、軸受の
内部に設けてもよい。
以上の本発明流体ラジアル軸受装置によれば、
回転軸は、その軸心がラジアル軸受の軸心と一致
した状態で旋回運動を行うことなく回転するの
で、回転軸の回転損失を防ぐことができる。
回転軸は、その軸心がラジアル軸受の軸心と一致
した状態で旋回運動を行うことなく回転するの
で、回転軸の回転損失を防ぐことができる。
第1図乃至第3図は従来例の説明に供する流体
ラジアル軸受装置の要部断面図、第4図は本発明
装置の一実施例の要部斜視図および第5図a〜h
は第4図の実施例の動作を表わす要部断面図をそ
れぞれ示す。 1……回転軸、11……回転軸の外周面、2…
…ラジアル軸受、21……ラジアル軸受の内周面、
3……軸受隙間、4……リング部材。
ラジアル軸受装置の要部断面図、第4図は本発明
装置の一実施例の要部斜視図および第5図a〜h
は第4図の実施例の動作を表わす要部断面図をそ
れぞれ示す。 1……回転軸、11……回転軸の外周面、2…
…ラジアル軸受、21……ラジアル軸受の内周面、
3……軸受隙間、4……リング部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 回転軸を回転自在に支持する流体ラジアル軸
受装置であり、 その内周面と前記回転軸の外周面とで形成され
る軸受〓間に流体を充填してなる流体ラジアル軸
受と、 前記回転軸に係合すべく、前記流体ラジアル軸
受の内周面側から前記軸受〓間の一部を覆う状態
で突出されると共に、前記流体ラジアル軸受の半
径方向に沿つた前記内周面からの最大突出量が、
前記軸受〓間の間隔が全周に亘り均一である状態
時における該間隔以下とされる案内手段とを備
え、 前記回転軸は、少なくともその回転初期におい
て前記案内手段に係合することにより、その中心
が前記流体ラジアル軸受の中心と略一致する位置
に案内されることを特徴とする流体ラジアル軸受
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1450282A JPS58131424A (ja) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | 流体ラジアル軸受装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1450282A JPS58131424A (ja) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | 流体ラジアル軸受装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58131424A JPS58131424A (ja) | 1983-08-05 |
| JPH049925B2 true JPH049925B2 (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=11862829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1450282A Granted JPS58131424A (ja) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | 流体ラジアル軸受装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58131424A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56109416U (ja) * | 1980-01-25 | 1981-08-25 |
-
1982
- 1982-02-01 JP JP1450282A patent/JPS58131424A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58131424A (ja) | 1983-08-05 |
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