JPH05101669A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH05101669A
JPH05101669A JP4076619A JP7661992A JPH05101669A JP H05101669 A JPH05101669 A JP H05101669A JP 4076619 A JP4076619 A JP 4076619A JP 7661992 A JP7661992 A JP 7661992A JP H05101669 A JPH05101669 A JP H05101669A
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JP
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word line
block
memory
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output signal
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JP4076619A
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Inventor
Hee-Choul Park
煕哲 朴
Seong-Jin Han
聖▲慎▼ 韓
Byeong-Yun Kim
▲乗▼潤 金
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Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ブロック選択方式のワード線選択論理回路を
備える半導体記憶装置において、メモリセルへの高速ア
クセスおよび高集積化を目的とする。 【構成】 各メモリブロックごとに設けられるワード線
選択論理回路12が合計32のブロック141 ないし1
432に分割される。各ブロックのインバータの活性化/
非活性化制御は、メモリブロック選択デコーダからの出
力信号/BSWL 1 に応答して動作されるPMOSトラ
ンジスタT1 およびNMOSトランジスタTcにより構
成されたスイッチング回路(インバータ)により行なわ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に、複数のメモリブロックに分割されたメモリセ
ルアレイにおけるメモリセルの選択のための回路の改善
に関する。
【0002】
【従来の技術】この発明に関連する先行技術の例は、1
987年のISSCC文献の264ないし265頁に開
示されている。これに関連して、この発明に関連する背
景技術について以下に説明する。
【0003】図1は、多数のメモリブロックに分割され
た集積化された半導体記憶装置の構成を示すブロック図
である。このようなメモリブロック方式は、大容量のメ
モリセルを有するメモリセルアレイへのアクセスを効果
的に行なうために採用される。すなわち、メインワード
線においてブロックワード線へのデータアクセスの遅延
などを減少させるため、メモリセルが多数のメモリブロ
ックに分割される。多数の分割されたメモリブロックの
うち、いずれか1つの選択に応じてそのブロック内にあ
る1つのメモリセルが選択され、高速化とともに低消費
電力が図られる。
【0004】図1を参照して、メモリブロック1ないし
iは、各々がマトリクス状に配列されたメモリセルを有
する。これらのメモリブロック1ないしiは、ブロック
選択デコーダ10から出力されるブロック選択信号/B
SWL1 ないし/BSWLi (ここで記号“/”は信号
の活性状態が低レベルにあることまたは反転信号を示
す。以下同じ)により選択される。同時に、メモリブロ
ック内のワード線WL1 ないしWLn の選択は、行アド
レスが与えられたとき、行デコーダ11により出力され
た行選択信号/MWL1 ないし/MWLn により選択さ
れる。
【0005】そして、各メモリブロック1ないしiは、
ブロック選択信号および行選択信号の有効レベルから選
択信号を出力するワード線選択論理回路12を備えてい
る。
【0006】大容量の記憶回路において、メモリセルア
レイをいくつかのブロックに分けて実現するに際し、そ
の分けられたブロックをデコードするため、図1に示し
たワード線選択論理回路12は、NOR論理回路または
NAND論理回路を備えている。但し、図1において
は、NOR論理回路13のみが示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】これらの論理回路は、
一般に多数のトランジスタにより構成される。すなわ
ち、NOR論理回路やNAND論理回路の場合では、4
個ないし6個のトランジスタを要する。
【0008】したがって、大容量のメモリセルを有する
半導体記憶装置が構成されるとき、これらのメモリセル
の選択的アクセスのための論理回路の半導体チップ上の
占有面積が大きくなる。さらには、これらの論理回路は
反転論理回路よりも遅い速度で動作されるが、メモリブ
ロック内にワード線WL1 ないしWLn に接続された論
理回路の入力ゲート容量が存在するので、高速動作が妨
げられている。
【0009】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、メモリセルへの高速アクセスを
達成するに際し、半導体基板上の占有面積が減少された
ワード線選択論理回路を備えた半導体記憶装置を提供す
ることを目的とする。
【0010】この発明のもう1つの目的は、ワード線を
多数のブロックごとに分け、ブロックごとの選択と同時
に選択されたブロックのワード線が選択されるように構
成された半導体記憶装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る半
導体記憶装置は、マトリクス状に配列された複数のメモ
リセルを有するメモリブロックと、このメモリブロック
のワード線を選択する選択信号を出力する行デコーダ
と、メモリブロックを選択するメモリブロック選択デコ
ーダとを含む。各メモリブロックは、行デコーダの出力
信号とメモリブロック選択デコーダの出力信号に応答し
てワード線を選択するワード線選択論理回路を有する。
ワード線選択論理回路は、行デコーダの出力信号を反転
させてワード線に与える反転手段と、ブロックごとに反
転手段の活性化/非活性化制御のため、メモリブロック
選択デコーダの出力信号に応答して、選択されたブロッ
ク単位でスイッチングするスイッチング手段とを備え
る。
【0012】請求項4の発明に係る半導体記憶装置は、
マトリクス状に配列された複数のメモリセルを有するメ
モリブロックと、このメモリブロックのワード線を選択
する選択信号を出力する行デコーダと、メモリブロック
を選択するメモリブロック選択デコーダとを含む。各メ
モリブロックは行デコーダの出力信号およびメモリブロ
ック選択デコーダの出力信号に応答してワード線を選択
するワード線選択論理回路を有する。ワード線選択論理
回路は、ワード線をブロックに区分して複数のワード線
ブロックで構成され、各ワード線ブロックは、メモリブ
ロック選択デコーダの出力信号を受けるトランジスタ
と、各ワード線に接続される行デコーダ信号反転手段と
ともにNOR論理回路を構成して、メモリブロック選択
デコーダの出力信号と行デコーダ信号に対して選択的N
OR論理機能を有するように構成される。
【0013】請求項5の発明に係る半導体記憶装置は、
マトリクス状に配列された多数のメモリセルを有するメ
モリブロックと、このメモリブロックのワード線を選択
する選択信号を出力する行デコーダと、メモリブロック
を選択するメモリブロック選択デコーダとを含む。各メ
モリブロックは、行デコーダの出力信号とメモリブロッ
ク選択デコーダの出力信号に応答してワード線を選択す
るワード線選択論理回路を備える。ワード線選択論理回
路は、ワード線をブロックに区分して複数のワード線ブ
ロックで構成され、各ワード線ブロックはメモリブロッ
ク選択デコーダの出力信号によりスイッチされる電界効
果トランジスタがブロックごとに設けられ、このスイッ
チング手段のオンによる電源供給に従い行デコーダの出
力信号は反転手段により選択されたワード線に選択信号
を供給するようスイッチング手段に対して反転手段がワ
ード線ごとに並列接続されて構成される。
【0014】
【作用】請求項1の発明における半導体記憶装置では、
ワード線ブロックに分割された各ブロックには、ブロッ
ク選択デコーダからの出力信号に応答して動作するスイ
ッチング手段が設けられており、選択されたワード線ブ
ロックを活性化させ、この活性化されたワード線ブロッ
クには行デコーダから出力される信号が印加される。こ
れにより、メモリブロック内のワード線が選択される。
【0015】請求項4および5の発明における半導体記
憶装置では、スイッチング手段とワード線にそれぞれ接
続された論理回路は、ブロック選択デコーダからの出力
信号および行デコーダからの出力信号に従って選択的に
組立てられるインバータ,NORまたはNANDなどの
論理回路が構成されるので、回路実現の際要求される能
動素子の数が減少され、したがって高速アクセスおよび
チップ面積の減少が実現できる。
【0016】
【実施例】以下、この発明の好ましい実施例について、
添付の図面を参照して詳細に説明する。
【0017】この発明の第1の実施例を示す半導体記憶
装置は、メモリブロック内のワード線選択のための論理
回路において、行デコーダの出力信号の反転を行なうイ
ンバータの出力をワード線に接続し、1群のインバータ
の動作可否を制御するため、ブロック選択信号の反転さ
れた信号を制御信号として出力するスイッチング手段ま
たはインバータ手段をブロック単位のワード線に備えて
いる。
【0018】図2は、この発明の第1の実施例を示すワ
ード線選択論理回路の回路図である。図1に示したワー
ド線選択論理回路12は、図1に示した回路ブロック1
2として適用することができる。
【0019】上記のように、ワード線選択論理回路12
は、ブロック単位となっているため、図2ではそのブロ
ックうち、第1のブロックに対してその構成例を示すも
のであり、この構成例は他のブロックについても同様で
ある。ブロック全体について、スイッチング手段はトラ
ンジスタT1 ないしT32とTcとによって構成される。
【0020】行デコーダ11から出力されるワード線選
択信号/MWL1 ないし/MWL51 2 は、インバータI
1 ないしI512 にそれぞれ入力される。ここで、各イン
バータはCMOS構成により実現される。すなわち、各
インバータはPMOSトランジスタおよびNMOSトラ
ンジスタによって構成される。そして、これらのインバ
ータI1 ないしI512 は、1群のブロックに分割され
る。すなわち、この実施例においては、16本のワード
線ごとにブロックに分割され、ワード線ブロック141
ないし1432が構成される。図2に示したワード線ブロ
ック141 ないし1432は、図1に示したワード線選択
論理回路12に対応する。
【0021】行デコーダ11からの出力信号/MWL1
ないし/MWL512 は、インバータI1 ないしI512 に
供給されるので、反転された信号がワード線選択に寄与
するのであるが、ブロック選択デコーダ10の出力信号
/BSWL1 ないしBSWL 32に応答して、選択的にイ
ンバータを含むワード線ブロック141 ないし1432に
電源が供給されるので、選択されたブロックのインバー
タのみが動作される。
【0022】以下の説明では、ワード線の本数が一例と
して512本であると仮定する。また、第1のワード線
選択回路ブロック141 内の第16番目のインバータI
16が選択されるものとする。すなわち、行デコーダ11
から信号/MWL16が出力され、同時に、このメモリセ
ルが属しているメモリブロック1にブロック選択デコー
ダ10から出力信号/BSWL1 が与えられる。16個
のワード線ごとに設けられ、かつ電源に接続されたPM
OSトランジスタT1と、一端が接地されたNMOSト
ランジスタTcとが1つの対をなして第2のCMOSイ
ンバータ、すなわちスイッチング手段を構成する。した
がって、信号/BSWL1 が低レベルになると、トラン
ジスタT1 のドレイン電圧はあたかも電源電圧として供
給され、この供給された電源により信号/MWL16を受
けるインバータI16が活性化される。したがって、イン
バータI16がワード線WL16に選択信号を供給するの
で、ブロック内のメモリセルを選択することができる。
【0023】この例において、ワード線は512本であ
り、ワード線ブロックは16本のワード線ごとに分割さ
れるので、合計32個のワード線ブロックが存在するこ
とになる。各ワード線ブロックは、16個のCMOSイ
ンバータが構成される。第2のインバータを構成するP
MOSトランジスタT1 は、ワード線ブロックごとに設
けられるので合計32個のトランジスタが必要となる。
一方、これに対をなすNMOSトランジスタTcは、1
6個のワード線ブロックに共通に使用される1個のみで
十分である。したがって、ワード線の本数が増加すれば
するほど、すなわち大容量の記憶装置になるほど、この
ような構成に基づいて用いられる素子の個数が節約でき
るので、高集積化に非常に有利なものとなる。
【0024】この発明の好ましい実施例に従う具体的な
構成例によると、上記のように、メモリブロックのうち
いずれか1つが選択され、信号/BSWL1がプロセス
選択デコーダから低レベル、すなわち0ボルト状態で印
加されたとき、この信号を受けるPMOSトランジスタ
T1 がONし、さらに、NMOSトランジスタTcがO
NからOFFする。したがって、ノードNの電位は低レ
ベルから高レベル、すなわち5ボルトに変化する。ノー
ドNの電位は、低レベルの信号/MWL16を受けるCM
OSインバータI16に電源電圧として供給され、したが
って、インバータI16は高レベルの信号を出力するので
メモリセル選択アクセス時間の短縮が図れる。
【0025】MOSトランジスタを構成する際、ゲート
幅/ゲート長さの比W/Lが、1μm/1μmであると
き、0.14fFのゲート容量があるので、P/Nトラ
ンジスタの物理的大きさを単位なし20.5×1である
と仮定すると、図1に示した従来の回路において、NO
R論理回路アクセスによる信号遅延が上記容量の大き
さ、すなわち20.5×512×1.4fFの大きさの
影響を受けるようになる。これに対し、図2に示した例
では、512個のワード線に従うNORゲートを構成す
るトランジスタに対する容量と比較して、32個のトラ
ンジスタのみ信号/BSWL1 を受けるため、アクセス
時間の高速化を図ることができる。さらに、多数の能動
素子で構成されるNORまたはNAND論理回路に比べ
て、簡単なCMOSインバータを用いているので、高速
動作が実現され得る。
【0026】このように、この発明は高速化および高集
積化の実現にそのまま適用することができ、改善された
デコーダ回路構成が得られる。
【0027】図3は、この発明の第2の実施例を示す回
路図である。図3では、トランジスタ31ないし34が
NOR論理回路を構成しており、NOR論理によるセル
選択方式が示される。NOR論理回路を構成するトラン
ジスタのうち、電源電位に接続されたPMOSトランジ
スタ31がワード線ブロックごとに設けられる。行デコ
ーダの出力信号/MWL1 を受けるトランジスタ32な
いし34は、上記ワード線ブロックごとに割当てられた
トランジスタ31とともに1つのNOR論理回路を構成
する。
【0028】図4は、この発明の第3の実施例を示す回
路図である。図4では、NAND論理回路が採用されて
いる。トランジスタ41ないし44によりNAND論理
が構成され、ワード線ブロックごとに回路が構成され
る。すなわち、ブロック選択デコーダの出力信号を受け
る2つのトランジスタ43,44は、CMOSインバー
タを構成し動作状態にあるが、これに並列に行ワード線
にそれぞれ接続されるトランジスタ41,42はさらに
インバータを構成している。トランジスタ41,42に
よって構成されたインバータは、トランジスタ43,4
4によって構成されたインバータと選択的に結合して、
結果的にNAND論理回路が構成される。
【0029】なお、上記の実施例において、具体的に数
値を挙げ説明しているが、この発明はこれに制限される
ものではなく、多様な実施例を含むものであることが指
摘される。
【0030】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、メモ
リアクセスの高速化に適し、また、低消費電力で動作す
る高速の半導体記憶装置が得られた。
【0031】なお、ワード線選択回路のブロック化は設
計者が任意に設定することができ、このブロックを能動
化/不能化するスイッチング素子は選択回路の構成に応
じて適用され得ることが指摘される。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体記憶装置の概略的なブロック図である。
【図2】この発明の第1の実施例を示すワード線選択論
理回路の回路図である。
【図3】この発明の第2の実施例を示すワード線選択論
理回路の回路図である。
【図4】この発明の第3の実施例を示すワード線選択論
理回路の回路図である。
【符号の説明】
1 メモリブロック 10 ブロック選択デコーダ 11 行デコーダ 12 ワード線選択論理回路 I1 −I16 インバータ /MWL1 −/MWLn ワード線選択信号

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体記憶装置であって、 マトリクス状に配列された複数のメモリセルを有する複
    数のメモリブロックと、 前記メモリブロックのワード線を選択する選択信号を出
    力する行デコーダと、 前記複数のメモリブロックを選択するメモリブロック選
    択デコーダとを含み、 各前記メモリブロックは、前記行デコーダの出力信号お
    よび前記メモリブロック選択デコーダの出力信号に応答
    して、ワード線を選択するためのワード線選択論理回路
    を備え、 各前記ワード線選択論理回路は、 それぞれの行デコーダの出力信号を反転させてそれぞれ
    のワード線に与える反転手段と、 ブロックごとの前記反転手段の活性化/非活性化制御の
    ため、前記メモリブロック選択デコーダの出力信号に応
    答して、選択されたブロックごとにスイッチングされる
    スイッチング手段とを備える、半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記ワード線選択論理回路内の前記反転
    手段は、相補型電界効果トランジスタによって構成され
    る、請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記ワード線選択論理回路内の前記スイ
    ッチング手段は、各ワード線ブロックごとに設けられ、
    電源電位に接続されかつ前記ブロック選択デコーダから
    の出力信号に応答して動作する第1導電型の第1の電界
    効果トランジスタと、ブロックごとに第1導電型の第2
    の電界効果トランジスタが共通に接続された共通接続ノ
    ードと、前記共通接続ノードと接地との間に接続され、
    前記ブロック選択デコーダからの出力信号に応答して動
    作する単一の第2導電型の第3の電界効果トランジスタ
    とを含み、前記第3の電界効果トランジスタは、すべて
    の前記ブロックに共通に接続され、ブロック選択デコー
    ダからの出力信号に応答して動作する、請求項1に記載
    の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 半導体記憶装置であって、 マトリクス状に配列された複数のメモリセルを有する複
    数のメモリブロックと、 前記メモリブロックのワード線を選択する選択信号を出
    力する行デコーダと、 前記複数のメモリブロックを選択するメモリブロック選
    択デコーダとを含み、 各前記メモリブロックは、前記行デコーダの出力信号お
    よび前記メモリブロック選択デコーダの出力信号に応答
    して、ワード線を選択するためのワード線選択論理回路
    を備え、 各前記ワード線選択論理回路は、ワード線をブロックに
    区分して複数のワード線ブロックで構成され、各ワード
    線ブロックは前記メモリブロック選択デコーダの出力信
    号を受けるトランジスタと、各ワード線に接続される行
    デコーダ信号反転手段とともにNOR論理回路を構成し
    て、前記メモリブロック選択デコーダの出力信号と前記
    行デコーダの出力信号に応答して、選択的にNOR論理
    機能を行なう、半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 半導体記憶装置であって、 マトリクス状に配列された複数のメモリセルを有する複
    数のメモリブロックと、 前記メモリブロックのワード線を選択する選択信号を出
    力する行デコーダと、 前記複数のメモリブロックを選択するメモリブロック選
    択デコーダとを含み、 各前記メモリブロックは、前記行デコーダの出力信号お
    よび前記メモリブロック選択デコーダの出力信号に応答
    して、ワード線を選択するためのワード線選択論理回路
    を備え、 各前記ワード線選択論理回路は、ワード線をブロックに
    区分して複数のワード線ブロックで構成され、各ワード
    線ブロックは前記メモリブロック選択デコーダの出力信
    号によりスイッチングする電界効果トランジスタがブロ
    ックごとに割当てられ、前記スイッチング手段の導通に
    よる電源供給に従い前記行デコーダの出力信号は前記反
    転手段により選択されたワード線に選択信号を供給する
    よう前記スイッチング手段に対して反転手段がワード線
    ごとに並列接続される、半導体記憶装置。
JP4076619A 1991-08-27 1992-03-31 半導体記憶装置 Pending JPH05101669A (ja)

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