JPH0510602B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0510602B2 JPH0510602B2 JP58205563A JP20556383A JPH0510602B2 JP H0510602 B2 JPH0510602 B2 JP H0510602B2 JP 58205563 A JP58205563 A JP 58205563A JP 20556383 A JP20556383 A JP 20556383A JP H0510602 B2 JPH0510602 B2 JP H0510602B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- polarized light
- optical system
- reflected
- prism
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、カメラなどに用いられるレンズ特に
非球面レンズの面形状を非接触で測定する面形状
測定器に関するる。
非球面レンズの面形状を非接触で測定する面形状
測定器に関するる。
従来技術
ミラーと被検物の回転駆動を組合せて被検物の
全面を走査しその形状を測定する装置としては、
例えばAppl.Opt.20 No.19,1981pp.3367〜3377に
記載の“Aspheric surface caliblator(非球面測
定器)”がある。第1図にその概要を示すと、光
源1から放出された光ビームlはビームエクスパ
ンダ2により光束が拡げられ、ビームスプリツタ
3により参照鏡4に向う光束と対物レンズ5、回
転ミラー6を経て被検物7の表面に集束する光束
とに分けられる。回転ミラー6及び被検物7は図
示されていない回転駆動機構により各々矢印のよ
うに回転せしめられ、集束された光束が被検物7
の全面を走査する。この場合、回転ミラー6と被
検物7との距離は被検物7の表面の曲率半径とほ
ぼ一致させておく。被検物7の表面で反射された
光束は同じ道を逆行し、回転ミラー6、対物レン
ズ5を経て平行光束に変換され、ビームスプリツ
タ3において参照鏡4から反射された光束と重ね
合せられ、干渉縞計数部8に入射する。この干渉
縞計数部8では被検物7の表面の球面からのずれ
量に応じた干渉縞の移動が計数され、被検物7の
非球面量が測定される。ところが、この装置の場
合、原理的に凸面の測定ができないことや非球面
量の大きなものの測定が困難であることなどの欠
点がある。
全面を走査しその形状を測定する装置としては、
例えばAppl.Opt.20 No.19,1981pp.3367〜3377に
記載の“Aspheric surface caliblator(非球面測
定器)”がある。第1図にその概要を示すと、光
源1から放出された光ビームlはビームエクスパ
ンダ2により光束が拡げられ、ビームスプリツタ
3により参照鏡4に向う光束と対物レンズ5、回
転ミラー6を経て被検物7の表面に集束する光束
とに分けられる。回転ミラー6及び被検物7は図
示されていない回転駆動機構により各々矢印のよ
うに回転せしめられ、集束された光束が被検物7
の全面を走査する。この場合、回転ミラー6と被
検物7との距離は被検物7の表面の曲率半径とほ
ぼ一致させておく。被検物7の表面で反射された
光束は同じ道を逆行し、回転ミラー6、対物レン
ズ5を経て平行光束に変換され、ビームスプリツ
タ3において参照鏡4から反射された光束と重ね
合せられ、干渉縞計数部8に入射する。この干渉
縞計数部8では被検物7の表面の球面からのずれ
量に応じた干渉縞の移動が計数され、被検物7の
非球面量が測定される。ところが、この装置の場
合、原理的に凸面の測定ができないことや非球面
量の大きなものの測定が困難であることなどの欠
点がある。
そこで、光束が被検物上に常に集光するように
対物レンズをオートフオーカス方式に構成し、非
球面量の大きいものや凸面のものも計測できるよ
うに改良された装置として、例えば第25回自動制
御連合会講演会予縞4042(P.593〜594)に記載の
ものがある。その概要を第2図に示すと、ゼーマ
ンレーザー10から放出された光束はビームス
プリツタ3により参照鏡4に向う光束とビームス
プリツタ11、対物レンズ5を経て被検物7上に
集束される光束とに分けられる。被検物7上で反
射された光は対物レンズ5で平行光束に変換さ
れ、ビームスプリツタ11によりビームスプリツ
タ3に向う光束と光検知器12に向う光束に分割
される。対物レンズ5は公知技術を用いることに
より光検知器12からの信号に応じて矢印aの方
向に移動せしめられて入射光束を被検物7上に常
に集光させる機能即ちオートフオーカス機能を有
している。被検物7は矢印bで示されたように平
面的(X−Y面とする)に走査される。入射光束
の主光線が被検物7の表面に垂直に入射しない場
合には、入射光束と被検物7からの反射光束は別
の光路をたどり、横ずれした平行光束となつて対
物レンズ5からビームスプリツタ11に向う。こ
の横ずれ量は光検知器12により計測され、対物
レンズ5を光束に対して直交する方向(矢印a方
向)に移動させて入射光束と反射光束とが重なる
ようにする。尚、これと共に被検物7を対応する
量だけ移動させる。ビームスプリツタ3に向つた
光束はこのビームスプリツタ3において参照鏡4
からの反射光と重ね合せられて干渉縞を形成し、
干渉縞計数部8により計数される。
対物レンズをオートフオーカス方式に構成し、非
球面量の大きいものや凸面のものも計測できるよ
うに改良された装置として、例えば第25回自動制
御連合会講演会予縞4042(P.593〜594)に記載の
ものがある。その概要を第2図に示すと、ゼーマ
ンレーザー10から放出された光束はビームス
プリツタ3により参照鏡4に向う光束とビームス
プリツタ11、対物レンズ5を経て被検物7上に
集束される光束とに分けられる。被検物7上で反
射された光は対物レンズ5で平行光束に変換さ
れ、ビームスプリツタ11によりビームスプリツ
タ3に向う光束と光検知器12に向う光束に分割
される。対物レンズ5は公知技術を用いることに
より光検知器12からの信号に応じて矢印aの方
向に移動せしめられて入射光束を被検物7上に常
に集光させる機能即ちオートフオーカス機能を有
している。被検物7は矢印bで示されたように平
面的(X−Y面とする)に走査される。入射光束
の主光線が被検物7の表面に垂直に入射しない場
合には、入射光束と被検物7からの反射光束は別
の光路をたどり、横ずれした平行光束となつて対
物レンズ5からビームスプリツタ11に向う。こ
の横ずれ量は光検知器12により計測され、対物
レンズ5を光束に対して直交する方向(矢印a方
向)に移動させて入射光束と反射光束とが重なる
ようにする。尚、これと共に被検物7を対応する
量だけ移動させる。ビームスプリツタ3に向つた
光束はこのビームスプリツタ3において参照鏡4
からの反射光と重ね合せられて干渉縞を形成し、
干渉縞計数部8により計数される。
この装置の特徴は、オートフオーカス機能を有
しているため、非球面量の大きいものや凹面だけ
でなく凸面の測定が可能なことにあるが、高精度
を維持するためには参照鏡4と被検物7との相対
的振動を抑制する必要があり、そのため参照鏡4
を被検物7と同じ振動系に固定する必要を生じ
る。しかし、振動条件とアツベの誤差とを同時に
満足させることは困難が多く、干渉光学系の剛性
や振動系の精度に厳しいものが要求されるので高
価になると共に、振動等の機械的擾乱による影響
を軽減するための環境条件を必要とする。又、被
検物7を平面的に移動させているため、深いR
(曲率半径が小さく且つ開き角が大きいこと)の
凸面又は凹面については反射光束が対物レンズ5
のNAを越えることとなり、測定ができないとい
う欠点も有していた。
しているため、非球面量の大きいものや凹面だけ
でなく凸面の測定が可能なことにあるが、高精度
を維持するためには参照鏡4と被検物7との相対
的振動を抑制する必要があり、そのため参照鏡4
を被検物7と同じ振動系に固定する必要を生じ
る。しかし、振動条件とアツベの誤差とを同時に
満足させることは困難が多く、干渉光学系の剛性
や振動系の精度に厳しいものが要求されるので高
価になると共に、振動等の機械的擾乱による影響
を軽減するための環境条件を必要とする。又、被
検物7を平面的に移動させているため、深いR
(曲率半径が小さく且つ開き角が大きいこと)の
凸面又は凹面については反射光束が対物レンズ5
のNAを越えることとなり、測定ができないとい
う欠点も有していた。
そこで、参照鏡を被検物と一致させて振動等の
機械的擾乱の影響を軽減した例を第3図に示す
と、入射する光ビームはウオラストンプリズム
13により正常光と異常光とに分けられ、対物レ
ンズ5により被検物7(ロータリーテーブル14
に支持されている)の異なる二点(そのうち一点
はロータリーテーブル14の回転中心と一致させ
る)に集束される。被検物7で反射した光束は、
対物レンズ5を経て平行光束に変換された後ウオ
ラストンプリズム13において再び重ね合せら
れ、被検物7の凹凸に応じた干渉縞を形成する。
そして、ロータリーテーブル14をその軸のまわ
りに回転させることにより被検物7の軸上の集束
点と他の集束点との間の相対的高低が図示しない
干渉縞計数部により計数される。これは被検物7
の面粗さの測定に用いられる。
機械的擾乱の影響を軽減した例を第3図に示す
と、入射する光ビームはウオラストンプリズム
13により正常光と異常光とに分けられ、対物レ
ンズ5により被検物7(ロータリーテーブル14
に支持されている)の異なる二点(そのうち一点
はロータリーテーブル14の回転中心と一致させ
る)に集束される。被検物7で反射した光束は、
対物レンズ5を経て平行光束に変換された後ウオ
ラストンプリズム13において再び重ね合せら
れ、被検物7の凹凸に応じた干渉縞を形成する。
そして、ロータリーテーブル14をその軸のまわ
りに回転させることにより被検物7の軸上の集束
点と他の集束点との間の相対的高低が図示しない
干渉縞計数部により計数される。これは被検物7
の面粗さの測定に用いられる。
この装置の特徴は、参照鏡が被検物と一致して
いることから両者の間の相対的振動を殆ど無視す
ることができ、振動等の機械的擾乱に対して極め
て安定した系になつていることである。しかし、
測定しているものが二点間の高低の相対的変化い
いかえると被検物の面形状の各点の微分値或は勾
配なので、面形状を求めるためにはこれらの値を
積分する必要があり、個々の微分値或は勾配での
誤差量が積算される欠点があつた。
いることから両者の間の相対的振動を殆ど無視す
ることができ、振動等の機械的擾乱に対して極め
て安定した系になつていることである。しかし、
測定しているものが二点間の高低の相対的変化い
いかえると被検物の面形状の各点の微分値或は勾
配なので、面形状を求めるためにはこれらの値を
積分する必要があり、個々の微分値或は勾配での
誤差量が積算される欠点があつた。
目 的
本発明は、上記問題点に鑑み、振動や空気の流
動等の機械的擾乱や被検物の回転駆動機構の精度
に影響されることが少なく、且つ凹面及び凸面の
両方について高精度な測定を行える面形状測定器
を提供せんとするものである。
動等の機械的擾乱や被検物の回転駆動機構の精度
に影響されることが少なく、且つ凹面及び凸面の
両方について高精度な測定を行える面形状測定器
を提供せんとするものである。
概 要
本発明による面形状測定器は、可干渉性光源を
発した光ビームを直交する二つの偏光(夫々をp
偏光及びs偏光とする)状態にある光束に分離
し、各々被検物上の一定距離だけ横ずれ(シア量
と呼ぶ)した場所に被検物の表面に垂直に自動集
束させ、それらの反射光束をp,s両偏光に対応
した共役光路を形成する参照光路からの光束と
各々独立に干渉させることによりシア量だけ離れ
た被検物上の二点における面形状に関する情報を
取得して、被検物の表面形状の測定を行うように
なつている。
発した光ビームを直交する二つの偏光(夫々をp
偏光及びs偏光とする)状態にある光束に分離
し、各々被検物上の一定距離だけ横ずれ(シア量
と呼ぶ)した場所に被検物の表面に垂直に自動集
束させ、それらの反射光束をp,s両偏光に対応
した共役光路を形成する参照光路からの光束と
各々独立に干渉させることによりシア量だけ離れ
た被検物上の二点における面形状に関する情報を
取得して、被検物の表面形状の測定を行うように
なつている。
実施例
以下、第4図乃至第6図に示した一実施例に基
づき上記従来例と同一の部材には同一符号を付し
て本発明を詳細に説明すれば、第4図は本発明に
よる面形状測定器の基本的な構成を示しており、
光源1は可視、赤外或は紫外の光ビームを発す
る光源であつて、He−Neレーザーのように可干
渉性の光束を発するものが用いられる。15,1
6,17は偏光プリズムで、p,s両偏光を分離
または結合する。18は1/2波長板で、軸のまわ
りに回転可能となつている。19,20はフアラ
デイローテータで、ガラスまたは結晶が用いら
れ、たとえば光ビームの進行方向に磁場が印加さ
れていて入射するp,s両偏光の偏光面を45゜だ
け回転する機能をもつ。尚、ガラスとしては保谷
硝子株式会社製のFR−5などを用いることがで
きる。21,22はπ/4ローテータで、入射光
ビームの偏光面を右または左に45゜回転せしめる。
ビームスプリツタ11は、被検物7からの反射光
束を分割して一方を干渉計の方へ戻し他方を光検
知器12に向ける。23は複屈折プリズムで、た
とえばロシヨンプリズムなどが用いられ、対物レ
ンズ5の焦点位置に固定され、対物レンズ5へプ
リズムの楔角により定まる一定の開き角をもつた
正常光束と異常光束を供給する。これらの光束は
対物レンズ5により平行な二つの光束となつて被
検物7上のたとえば60μmだけ横ずれした二点に
集束せしめられる。又、複屈折プリズム23は対
物レンズ5と組になつて図示しない回転防止機構
を具備した無摩擦の直線案内装置に保持され、や
はり図示しない直線駆動装置により被検物7と対
物レンズ5との間隔が常に該対物レンズ5の焦点
距離に等しくなるように駆動される。光検知器1
2は、対物レンズ5と被検物7の間隔の対物レン
ズ5の焦点距離からのずれ量(デフオーカス量)
を公知の手段を用いて検出し、前述の直線駆動装
置へ誤差信号として送る。24,25,26,2
7は鏡である。参照鏡4には直角プリズムを用い
る。従つて、p,s両偏光成分に対応した参照光
束は丁度共通の光路を逆行する形になる。28,
29は干渉縞計数部であり、たとえば特公昭51−
47344号公報に開示されている偏光を利用した可
逆計数のできる光波干渉計を用いることができ
る。尚、被検物7はガラス或はプラスチツクのレ
ンズ又は金型などが対象となり、光軸のまわり或
は第4図矢印方向へ回転駆動せしめられる。
づき上記従来例と同一の部材には同一符号を付し
て本発明を詳細に説明すれば、第4図は本発明に
よる面形状測定器の基本的な構成を示しており、
光源1は可視、赤外或は紫外の光ビームを発す
る光源であつて、He−Neレーザーのように可干
渉性の光束を発するものが用いられる。15,1
6,17は偏光プリズムで、p,s両偏光を分離
または結合する。18は1/2波長板で、軸のまわ
りに回転可能となつている。19,20はフアラ
デイローテータで、ガラスまたは結晶が用いら
れ、たとえば光ビームの進行方向に磁場が印加さ
れていて入射するp,s両偏光の偏光面を45゜だ
け回転する機能をもつ。尚、ガラスとしては保谷
硝子株式会社製のFR−5などを用いることがで
きる。21,22はπ/4ローテータで、入射光
ビームの偏光面を右または左に45゜回転せしめる。
ビームスプリツタ11は、被検物7からの反射光
束を分割して一方を干渉計の方へ戻し他方を光検
知器12に向ける。23は複屈折プリズムで、た
とえばロシヨンプリズムなどが用いられ、対物レ
ンズ5の焦点位置に固定され、対物レンズ5へプ
リズムの楔角により定まる一定の開き角をもつた
正常光束と異常光束を供給する。これらの光束は
対物レンズ5により平行な二つの光束となつて被
検物7上のたとえば60μmだけ横ずれした二点に
集束せしめられる。又、複屈折プリズム23は対
物レンズ5と組になつて図示しない回転防止機構
を具備した無摩擦の直線案内装置に保持され、や
はり図示しない直線駆動装置により被検物7と対
物レンズ5との間隔が常に該対物レンズ5の焦点
距離に等しくなるように駆動される。光検知器1
2は、対物レンズ5と被検物7の間隔の対物レン
ズ5の焦点距離からのずれ量(デフオーカス量)
を公知の手段を用いて検出し、前述の直線駆動装
置へ誤差信号として送る。24,25,26,2
7は鏡である。参照鏡4には直角プリズムを用い
る。従つて、p,s両偏光成分に対応した参照光
束は丁度共通の光路を逆行する形になる。28,
29は干渉縞計数部であり、たとえば特公昭51−
47344号公報に開示されている偏光を利用した可
逆計数のできる光波干渉計を用いることができ
る。尚、被検物7はガラス或はプラスチツクのレ
ンズ又は金型などが対象となり、光軸のまわり或
は第4図矢印方向へ回転駆動せしめられる。
本発明による面形状測定器は上述の如く構成さ
れているから、光ビームが直線偏光であつて紙
面内の偏光(p偏光)から45゜傾いた偏光面をも
つように設定されているとすれば、光ビームは
偏光プリズム15によりp偏光とs偏光成分に分
離され、前者は1/2波長板18を通り楕円偏光に
変換される。この偏光状態は1/2波長板18を回
転することにより変えることができる。この回転
角は、被検物7の反射率が低い場合たとえばガラ
ス面での反射のように4%程度の反射率となる場
合には、偏光プリズム16に入射する光をp偏光
に近い楕円偏光とし、被検物7からの反射光と参
照鏡4からの反射光量とがなるべく同程度となる
ように選ぶ。逆に、被検物7が一部の金型のよう
に反射率の高いものの場合には、偏光プリズム1
6に対し45゜の方向に偏光面を選び、なるべく等
量の光が被検物7及び参照鏡4に向うようにす
る。
れているから、光ビームが直線偏光であつて紙
面内の偏光(p偏光)から45゜傾いた偏光面をも
つように設定されているとすれば、光ビームは
偏光プリズム15によりp偏光とs偏光成分に分
離され、前者は1/2波長板18を通り楕円偏光に
変換される。この偏光状態は1/2波長板18を回
転することにより変えることができる。この回転
角は、被検物7の反射率が低い場合たとえばガラ
ス面での反射のように4%程度の反射率となる場
合には、偏光プリズム16に入射する光をp偏光
に近い楕円偏光とし、被検物7からの反射光と参
照鏡4からの反射光量とがなるべく同程度となる
ように選ぶ。逆に、被検物7が一部の金型のよう
に反射率の高いものの場合には、偏光プリズム1
6に対し45゜の方向に偏光面を選び、なるべく等
量の光が被検物7及び参照鏡4に向うようにす
る。
次に、偏光プリズム16では、楕円偏光のp偏
光成分がフアラデイローテータ19に向い、s偏
光成分は反射されて参照鏡4に向う。最初にp偏
光成分についてのべるとフアラデイローテータ1
9により45゜だけ偏光面が回転せしめられる。こ
の様子を第5図に示す。p偏光を第5図ので表
わすと、フアラデイローテータ19を通過するこ
とによりたとえばの状態に変り、π/4ローテ
ータ21に左旋性のものを用いるならばこれを通
過することによりのp偏光に戻り、偏光プリズ
ム17を通過してビームスプリツタ11を経て複
屈折プリズム23に至る。この複屈折プリズム2
3にロシヨンプリズムを用いた時にはp偏光は方
向を変化させずに進み、対物レンズ5により被検
物7の表面に集束される。そして、p偏光は被検
物7の形状による位相変化を受けた後再び同じ光
路を逆行し、対物レンズ5、複屈折プリズム23
を経てビームスプリツタ11に至る。ここで反射
された光束は光検知器12に入射するので、デフ
オーカス量が検知される。通過した光束は偏光プ
リズム17を通過し、π/4ローテータ21を通
過して第5図のからの状態に偏光面が変り、
更にフアラデイローテータ19を通過することに
よりからの状態即ちs偏光に変換され、偏光
プリズム16で反射して干渉縞計数部28に向
う。
光成分がフアラデイローテータ19に向い、s偏
光成分は反射されて参照鏡4に向う。最初にp偏
光成分についてのべるとフアラデイローテータ1
9により45゜だけ偏光面が回転せしめられる。こ
の様子を第5図に示す。p偏光を第5図ので表
わすと、フアラデイローテータ19を通過するこ
とによりたとえばの状態に変り、π/4ローテ
ータ21に左旋性のものを用いるならばこれを通
過することによりのp偏光に戻り、偏光プリズ
ム17を通過してビームスプリツタ11を経て複
屈折プリズム23に至る。この複屈折プリズム2
3にロシヨンプリズムを用いた時にはp偏光は方
向を変化させずに進み、対物レンズ5により被検
物7の表面に集束される。そして、p偏光は被検
物7の形状による位相変化を受けた後再び同じ光
路を逆行し、対物レンズ5、複屈折プリズム23
を経てビームスプリツタ11に至る。ここで反射
された光束は光検知器12に入射するので、デフ
オーカス量が検知される。通過した光束は偏光プ
リズム17を通過し、π/4ローテータ21を通
過して第5図のからの状態に偏光面が変り、
更にフアラデイローテータ19を通過することに
よりからの状態即ちs偏光に変換され、偏光
プリズム16で反射して干渉縞計数部28に向
う。
また、偏光プリズム16に左から入射した楕円
偏光のもう一方のs偏光成分についてのべると、
これは偏光プリズム16で反射され参照鏡4への
光路を左まわりにたどり、再び偏光プリズム16
で反射され鏡25を経て干渉縞計数部29に入射
する。
偏光のもう一方のs偏光成分についてのべると、
これは偏光プリズム16で反射され参照鏡4への
光路を左まわりにたどり、再び偏光プリズム16
で反射され鏡25を経て干渉縞計数部29に入射
する。
要約すれば、偏光プリズム16に左から入射し
た光束のp偏光成分は被検物7の形状に関する情
報を坦つて干渉縞計数部28に入射し、s偏光成
分は参照光束となり干渉縞計数部29に入射す
る。
た光束のp偏光成分は被検物7の形状に関する情
報を坦つて干渉縞計数部28に入射し、s偏光成
分は参照光束となり干渉縞計数部29に入射す
る。
以上偏光プリズム15を通過したp偏光成分に
ついてのべたきたが、偏光プリズム15で反射し
たs偏光成分についても全く同様の経過をたど
る。s偏光成分は、1/2波長板18により楕円偏
光に変換され、鏡24,26を経て偏光プリズム
16に下から入射する。入射光束のうちp偏光成
分は、偏光プリズム16を通過して参照鏡4への
光路を右まわりにたどり偏光プリズム16を経て
干渉縞計数部28に入射する。s偏光成分は、偏
光プリズム16で反射された後フアラデイローテ
ータ20、π/4ローテータ22、鏡27、偏光
プリズム17、複屈折プリズム23を経てp偏光
の光路に対して一定の開き角を有する異常光の光
路をとり、対物レンズ5によりp偏光の集束点に
対してシア量だけ横ずれした点に集束し、その点
の形状に対する情報を担つて同じ光路を逆にたど
り、対物レンズ5、複屈折プリズム23を経て偏
光プリズム17で反射され、鏡27、π/4ロー
テータ22、フアラデイローテータ20を経てp
偏光に変換され、偏光プリズム16を通過して鏡
25を経て干渉縞計数部29に入射する。
ついてのべたきたが、偏光プリズム15で反射し
たs偏光成分についても全く同様の経過をたど
る。s偏光成分は、1/2波長板18により楕円偏
光に変換され、鏡24,26を経て偏光プリズム
16に下から入射する。入射光束のうちp偏光成
分は、偏光プリズム16を通過して参照鏡4への
光路を右まわりにたどり偏光プリズム16を経て
干渉縞計数部28に入射する。s偏光成分は、偏
光プリズム16で反射された後フアラデイローテ
ータ20、π/4ローテータ22、鏡27、偏光
プリズム17、複屈折プリズム23を経てp偏光
の光路に対して一定の開き角を有する異常光の光
路をとり、対物レンズ5によりp偏光の集束点に
対してシア量だけ横ずれした点に集束し、その点
の形状に対する情報を担つて同じ光路を逆にたど
り、対物レンズ5、複屈折プリズム23を経て偏
光プリズム17で反射され、鏡27、π/4ロー
テータ22、フアラデイローテータ20を経てp
偏光に変換され、偏光プリズム16を通過して鏡
25を経て干渉縞計数部29に入射する。
以上のことから、干渉縞計数部28では、偏光
プリズム15を透過した成分のうちのp成分がフ
アラデイローテータ19を往復二回通過すること
によりs偏光に変換されて被検物7の一場所の形
状の情報を担つた信号光として入射し、偏光プリ
ズム15で反射した成分のうちのp成分が参照光
として入射する。同様に、干渉縞計数部29で
は、偏光プリズム15で反射した成分のうちs偏
光がフアラデイローテータ20を往復二回通過す
ることによりp偏光に変換されて被検物7のシア
量だけ横ずれした場所の形状情報を担つた信号光
として入射し、偏光プリズム15を透過した成分
のうちのs偏光成分が参照光として入射する。い
いかえると、被検物7のシア量だけ離れた二点に
対して偏光の異なる独立の干渉計が二つあること
になる。そして、両方の参照光路及び信号光路は
共通光路に近い配置をとつているため、振動或は
空気の流動などの機械的擾乱や被検物7の回転駆
動系の精度の影響を受けにくい構成となつてい
る。
プリズム15を透過した成分のうちのp成分がフ
アラデイローテータ19を往復二回通過すること
によりs偏光に変換されて被検物7の一場所の形
状の情報を担つた信号光として入射し、偏光プリ
ズム15で反射した成分のうちのp成分が参照光
として入射する。同様に、干渉縞計数部29で
は、偏光プリズム15で反射した成分のうちs偏
光がフアラデイローテータ20を往復二回通過す
ることによりp偏光に変換されて被検物7のシア
量だけ横ずれした場所の形状情報を担つた信号光
として入射し、偏光プリズム15を透過した成分
のうちのs偏光成分が参照光として入射する。い
いかえると、被検物7のシア量だけ離れた二点に
対して偏光の異なる独立の干渉計が二つあること
になる。そして、両方の参照光路及び信号光路は
共通光路に近い配置をとつているため、振動或は
空気の流動などの機械的擾乱や被検物7の回転駆
動系の精度の影響を受けにくい構成となつてい
る。
更に第6図を用いて詳しく説明すれば、第6図
は縦軸に非球面量Lを横軸に回転角θを夫々とつ
たものであり、第4図に於て被検物7をその近似
曲率中心を中心として回転させた時の回転角θと
非球面量Lとの関係を示したものである。被検物
7の形状情報をシア量だけ横ずれした偏光の異な
る二つの光束を用いて取得しているため、同じ形
状を二重に測定している。たとえば、P偏光の光
束が第6図のOからPまで測定したとすれば、S
偏光は同じ形状をOからPを経てシア量だけずれ
たQまで測定することになる。測定の途中で振動
などの機械的擾乱や回転駆動系の不完全性などに
より被検物7が移動したとすれば、たとえばP偏
光の測定値には図中矢印で示した実線の擾乱が入
るが、これとほぼ同じ擾乱(図中点線図示)がS
偏光の測定値にも入る。従つて、測定から得られ
た非球面曲線OP⌒と横軸θの間の面積と非球面曲
線OPQ⌒と横軸θとの間の面積の差を求めると、
擾乱等によるノイズ成分は打ち消されて非球面曲
線PQ⌒と横軸θとの間のノイズを含まない真の面
積が求められ、これをシア量で除去することによ
りPQ⌒の中間点での非球面量の真の値が求められ
る。即ち、本発明の面形状測定器は、P,S両偏
光について共通の参照鏡4を有していると共に
各々独立の干渉計を有しているので、被検物7の
非球面量Lを各回転角に対し誤差の積算なしに求
めることができることに特徴があり、この点が第
3図に示した従来例と異なるところである。従つ
て、本発明の面形状測定器によれば、振動や空気
の流動等の機械的擾乱や被検物7の回転駆動機構
の精度に影響されることが少なく高精度の測定が
可能である。又、本発明の面形状測定器は、オー
トフオーカス機能を有しているので非球面量の大
きいものや凹面だけでなく凸面の測定も可能であ
ると共に、被検物7を回転駆動する構成となつて
いるので深いRのものも測定し得る。
は縦軸に非球面量Lを横軸に回転角θを夫々とつ
たものであり、第4図に於て被検物7をその近似
曲率中心を中心として回転させた時の回転角θと
非球面量Lとの関係を示したものである。被検物
7の形状情報をシア量だけ横ずれした偏光の異な
る二つの光束を用いて取得しているため、同じ形
状を二重に測定している。たとえば、P偏光の光
束が第6図のOからPまで測定したとすれば、S
偏光は同じ形状をOからPを経てシア量だけずれ
たQまで測定することになる。測定の途中で振動
などの機械的擾乱や回転駆動系の不完全性などに
より被検物7が移動したとすれば、たとえばP偏
光の測定値には図中矢印で示した実線の擾乱が入
るが、これとほぼ同じ擾乱(図中点線図示)がS
偏光の測定値にも入る。従つて、測定から得られ
た非球面曲線OP⌒と横軸θの間の面積と非球面曲
線OPQ⌒と横軸θとの間の面積の差を求めると、
擾乱等によるノイズ成分は打ち消されて非球面曲
線PQ⌒と横軸θとの間のノイズを含まない真の面
積が求められ、これをシア量で除去することによ
りPQ⌒の中間点での非球面量の真の値が求められ
る。即ち、本発明の面形状測定器は、P,S両偏
光について共通の参照鏡4を有していると共に
各々独立の干渉計を有しているので、被検物7の
非球面量Lを各回転角に対し誤差の積算なしに求
めることができることに特徴があり、この点が第
3図に示した従来例と異なるところである。従つ
て、本発明の面形状測定器によれば、振動や空気
の流動等の機械的擾乱や被検物7の回転駆動機構
の精度に影響されることが少なく高精度の測定が
可能である。又、本発明の面形状測定器は、オー
トフオーカス機能を有しているので非球面量の大
きいものや凹面だけでなく凸面の測定も可能であ
ると共に、被検物7を回転駆動する構成となつて
いるので深いRのものも測定し得る。
第7図は第二の実施例を示す。図中、30,3
1は直角プリズムで、30は矢印で示したように
紙面内で光軸に垂直な方向に図示されていない駆
動機構により駆動できるように保持され、31は
固定されている。また、ビームスプリツタ11と
光検知器12は偏光プリズム16と干渉縞計数部
28との間に設置され、公知の技術によりデフオ
ーカス量の検出と共に光ビームの横ずれ量をも検
出できる構造を有しているものとする。この実施
例は、入射光束の主光線と被検物7の表面とが直
交しない場合に入射光束を横ずれさせてその主光
線が被検物7の表面に垂直に入射させるための補
正光学系を具備したものである。第8図に示すよ
うに入射光束に対し被検物7がβだけ傾いてい
る場合には、反射光束は2βだけ振られて実線で
示す反射光路をとり、対物レンズ5を通過した後
では入射光束に対して平行に横ずれした光束とな
つて干渉計の方へ戻つてゆく。この光束の横ずれ
量は光検知器12により検知され、直角プリズム
30が光検知器12からの誤差信号が零となるよ
うに光束の横ずれ量の半分だけ平行移動され、第
8図の点線で示した光路をとり対物レンズ5によ
り被検物7に垂直に入射する。従つて、反射光は
入射と同じ光路を逆にたどる。本実施例に示され
た傾き角補正光学系の、従来の第2図に示された
対物レンズ5を移動させる方式に対する利点は、
第8図に示されたように、入射光束と被検物7
との交点が入射光束を点線のように平行移動さ
せても対物レンズ5の球面収差を除いて全く同じ
位置にあるので、第2図に示されたように被検物
7を移動させる必要がなく、サーボ機構が簡単に
なり且つ測定時間が短縮されることにある。
1は直角プリズムで、30は矢印で示したように
紙面内で光軸に垂直な方向に図示されていない駆
動機構により駆動できるように保持され、31は
固定されている。また、ビームスプリツタ11と
光検知器12は偏光プリズム16と干渉縞計数部
28との間に設置され、公知の技術によりデフオ
ーカス量の検出と共に光ビームの横ずれ量をも検
出できる構造を有しているものとする。この実施
例は、入射光束の主光線と被検物7の表面とが直
交しない場合に入射光束を横ずれさせてその主光
線が被検物7の表面に垂直に入射させるための補
正光学系を具備したものである。第8図に示すよ
うに入射光束に対し被検物7がβだけ傾いてい
る場合には、反射光束は2βだけ振られて実線で
示す反射光路をとり、対物レンズ5を通過した後
では入射光束に対して平行に横ずれした光束とな
つて干渉計の方へ戻つてゆく。この光束の横ずれ
量は光検知器12により検知され、直角プリズム
30が光検知器12からの誤差信号が零となるよ
うに光束の横ずれ量の半分だけ平行移動され、第
8図の点線で示した光路をとり対物レンズ5によ
り被検物7に垂直に入射する。従つて、反射光は
入射と同じ光路を逆にたどる。本実施例に示され
た傾き角補正光学系の、従来の第2図に示された
対物レンズ5を移動させる方式に対する利点は、
第8図に示されたように、入射光束と被検物7
との交点が入射光束を点線のように平行移動さ
せても対物レンズ5の球面収差を除いて全く同じ
位置にあるので、第2図に示されたように被検物
7を移動させる必要がなく、サーボ機構が簡単に
なり且つ測定時間が短縮されることにある。
第9図は第三の実施例を示す。図中、32は光
アイソレータであり、33は1/4波長板である。
光アイソレータ32は光源1と干渉計との間の干
渉を遮断するもので公知のものである。第一及び
第二の実施例のフアラデイローテータ19,20
およびπ/4ローテータ21,22の代りに本実
施例では1/4波長板33が挿入してある。偏光プ
リズム16を通過したP偏光は1/4波長板33に
より円偏光に変換され、偏光プリズム17により
円偏光のうちのP偏光成分が透過し、S偏光成分
は系の外に向う。偏光プリズム17を通過したP
偏光は、第一の実施例の説明でのべたようにビー
ムスプリツタ11、複屈折プリズム23、対物レ
ンズ5を経て被検物7に収束され、反射された後
入射の光路を逆にたどり対物レンズ5等を経て1/
4波長板33に入射する。ここでP偏光は円偏光
に変換され、そのうちのS偏光成分は信号光とし
て偏光プリズム16により反射され干渉縞計数部
28に至る。又、円偏光のうちのP偏光成分は、
偏光プリズム16、1/2波長板18を経て偏光プ
リズム15に入射し、光束の一部は偏光プリズム
15により反射され系の外に向い、残りの光学系
はこれを通過して光アイソレータ32に入射し遮
断される。1/4波長板33に左から入射するS偏
光の光束も同様にして一部は信号光として干渉縞
計数部29に入射し、残りは系外に或いは光アイ
ソレータ32により遮断され失なわれる。以上の
べた事から、本実施例は、光量の損失を除けば第
4図に示された第一の実施例と全く同じ作用を示
すことがわかる。
アイソレータであり、33は1/4波長板である。
光アイソレータ32は光源1と干渉計との間の干
渉を遮断するもので公知のものである。第一及び
第二の実施例のフアラデイローテータ19,20
およびπ/4ローテータ21,22の代りに本実
施例では1/4波長板33が挿入してある。偏光プ
リズム16を通過したP偏光は1/4波長板33に
より円偏光に変換され、偏光プリズム17により
円偏光のうちのP偏光成分が透過し、S偏光成分
は系の外に向う。偏光プリズム17を通過したP
偏光は、第一の実施例の説明でのべたようにビー
ムスプリツタ11、複屈折プリズム23、対物レ
ンズ5を経て被検物7に収束され、反射された後
入射の光路を逆にたどり対物レンズ5等を経て1/
4波長板33に入射する。ここでP偏光は円偏光
に変換され、そのうちのS偏光成分は信号光とし
て偏光プリズム16により反射され干渉縞計数部
28に至る。又、円偏光のうちのP偏光成分は、
偏光プリズム16、1/2波長板18を経て偏光プ
リズム15に入射し、光束の一部は偏光プリズム
15により反射され系の外に向い、残りの光学系
はこれを通過して光アイソレータ32に入射し遮
断される。1/4波長板33に左から入射するS偏
光の光束も同様にして一部は信号光として干渉縞
計数部29に入射し、残りは系外に或いは光アイ
ソレータ32により遮断され失なわれる。以上の
べた事から、本実施例は、光量の損失を除けば第
4図に示された第一の実施例と全く同じ作用を示
すことがわかる。
尚、以上のべた各実施例では偏光プリズム15
として偏光ビームスプリツタを用いているがふつ
うのビームスプリツタを用いることも可能であ
る。また4あるいは30して直角プリズムを用い
ているが、キヤツアイを用いることもできる。ま
た被検物7の駆動機構として回転駆動機構を用い
た場合を示したが、平面駆動機構を用いることが
できることはもちろんである。また対物レンズ5
の代りにホログラムレンズなどの他の光収束部材
を使用することもできる。
として偏光ビームスプリツタを用いているがふつ
うのビームスプリツタを用いることも可能であ
る。また4あるいは30して直角プリズムを用い
ているが、キヤツアイを用いることもできる。ま
た被検物7の駆動機構として回転駆動機構を用い
た場合を示したが、平面駆動機構を用いることが
できることはもちろんである。また対物レンズ5
の代りにホログラムレンズなどの他の光収束部材
を使用することもできる。
発明の効果
上述の如く、本発明による面形状測定器は、振
動や空気の流動等の機械的擾乱や被検物の回転駆
動機構の精度に影響されることが少なく、且つ凹
面及び凸面の両方について高精度に測定できると
いう実用上極めて重要な利点を有している。
動や空気の流動等の機械的擾乱や被検物の回転駆
動機構の精度に影響されることが少なく、且つ凹
面及び凸面の両方について高精度に測定できると
いう実用上極めて重要な利点を有している。
第1図乃至第3図は夫々従来の面形状測定器の
光学系を示す図、第4図は本発明による面形状測
定器の一実施例の光学系を示す図、第5図は上記
実施例における偏光面の回転を説明する図、第6
図は上記実施例の非球面量算出の原理図、第7図
は第二の実施例の光学系を示す図、第8図は上記
第二の実施例の傾き角補正光学系の作用を説明す
る図、第9図は第三の実施例の光学系を示す図で
ある。 1…光源、4…参照鏡、5…対物レンズ、7…
被検物、11…ビームスプリツタ、12…光検知
器、15,16,17…偏光プリズム、18…1/
2波長板、19,20…フアラデイローテータ、
21,22…π/4ローテータ、23…複屈折プ
リズム、24,25,26,27…鏡、28,2
9…干渉縞計数部。
光学系を示す図、第4図は本発明による面形状測
定器の一実施例の光学系を示す図、第5図は上記
実施例における偏光面の回転を説明する図、第6
図は上記実施例の非球面量算出の原理図、第7図
は第二の実施例の光学系を示す図、第8図は上記
第二の実施例の傾き角補正光学系の作用を説明す
る図、第9図は第三の実施例の光学系を示す図で
ある。 1…光源、4…参照鏡、5…対物レンズ、7…
被検物、11…ビームスプリツタ、12…光検知
器、15,16,17…偏光プリズム、18…1/
2波長板、19,20…フアラデイローテータ、
21,22…π/4ローテータ、23…複屈折プ
リズム、24,25,26,27…鏡、28,2
9…干渉縞計数部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 可干渉性の光束を発する光源と、 該光束を相異なる二つの偏光成分に一旦分離
し、各偏光成分を楕円偏光に変換し、各楕円偏光
を各々異なる偏光成分に分離して各楕円偏光から
夫々参照光成分と測定光成分とを生成する光束分
離光学系と、 該光束分離光学系で生成された二つの参照光成
分に対して共通光路を有する参照光学系と、 前記光束分離光学系で生成された二つの測定光
成分を結合させる結合光学系と、 結合された二つの測定光成分を分離して被検物
上の横ずれした二点に夫々集束させる集束光学系
と、 被検面上での測定光成分の集束位置を変化させ
ながら、被検面上で反射した二つの測定光成分と
前記二つの参照光成分の同じ偏光成分同士を干渉
させることにより形成される干渉縞を夫々計数す
る二つの干渉縞計数部と、 を備えた面形状測定器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58205563A JPS6097205A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 面形状測定器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58205563A JPS6097205A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 面形状測定器 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3118474A Division JPH0678894B2 (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 面形状測定器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097205A JPS6097205A (ja) | 1985-05-31 |
| JPH0510602B2 true JPH0510602B2 (ja) | 1993-02-10 |
Family
ID=16508962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58205563A Granted JPS6097205A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 面形状測定器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6097205A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101023193B1 (ko) | 2007-08-29 | 2011-03-18 | 한국전광(주) | 삼차원 형상 측정용 엘티피 시스템 |
| CN111238419B (zh) * | 2020-01-20 | 2021-10-01 | 中车齐齐哈尔车辆有限公司 | 制动阀滑阀副平面度的检测装置及检测方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS531174B2 (ja) * | 1974-10-21 | 1978-01-17 | ||
| JPS58173423A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Canon Inc | 面形状測定方法 |
-
1983
- 1983-11-01 JP JP58205563A patent/JPS6097205A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6097205A (ja) | 1985-05-31 |
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