JPH0510810B2 - - Google Patents
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- JPH0510810B2 JPH0510810B2 JP59194731A JP19473184A JPH0510810B2 JP H0510810 B2 JPH0510810 B2 JP H0510810B2 JP 59194731 A JP59194731 A JP 59194731A JP 19473184 A JP19473184 A JP 19473184A JP H0510810 B2 JPH0510810 B2 JP H0510810B2
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C3/00—Vessels not under pressure
- F17C3/02—Vessels not under pressure with provision for thermal insulation
- F17C3/08—Vessels not under pressure with provision for thermal insulation by vacuum spaces, e.g. Dewar flask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F6/00—Superconducting magnets; Superconducting coils
- H01F6/04—Cooling
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F17C2203/0391—Thermal insulations by vacuum
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-
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- F17C2203/068—Special properties of materials for vessel walls
- F17C2203/0687—Special properties of materials for vessel walls superconducting
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
- F17C2223/0146—Two-phase
- F17C2223/0153—Liquefied gas, e.g. LPG, GPL
- F17C2223/0161—Liquefied gas, e.g. LPG, GPL cryogenic, e.g. LNG, GNL, PLNG
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は超電導装置に係り、特に超電導コイル
を極低温冷媒中に浸漬して極低温容器内に収納す
るに好適な超電導装置に関する。
を極低温冷媒中に浸漬して極低温容器内に収納す
るに好適な超電導装置に関する。
一般に超電導装置では、超電導現象を得るため
には超電導コイルを極低温（4.2〓）に冷却する
ことが絶対的条件となる。従つて、大気（300〓）
よりの熱侵入を極限的に防止する必要がある。ま
た、超電導コイルを極低温に冷却する液体ヘリウ
ムは、高価であるため消費量を軽減することも経
済上重要な事項である。このため、大気と極低温
間の領域である液体窒素（77〓）を中間冷却剤と
して通常用いている。また、熱侵入防止用として
アルミ蒸着極薄膜を多層に重ね巻回した方式をも
併用している。
には超電導コイルを極低温（4.2〓）に冷却する
ことが絶対的条件となる。従つて、大気（300〓）
よりの熱侵入を極限的に防止する必要がある。ま
た、超電導コイルを極低温に冷却する液体ヘリウ
ムは、高価であるため消費量を軽減することも経
済上重要な事項である。このため、大気と極低温
間の領域である液体窒素（77〓）を中間冷却剤と
して通常用いている。また、熱侵入防止用として
アルミ蒸着極薄膜を多層に重ね巻回した方式をも
併用している。
これらは熱輻射シールドと称し、銅製板に銅管
を固着し、この銅管内へ液体窒素を流通させ、銅
製板に対し大気側へは前記したアルミ蒸着薄膜を
多層に巻回した方式がある（実開昭57−134809号
公報参照）。また、類似構成としては特開昭57−
208111号公報がある。これらはいずれも熱侵入防
止のため断熱支持円筒や輻射シールド板が設けら
れている。
を固着し、この銅管内へ液体窒素を流通させ、銅
製板に対し大気側へは前記したアルミ蒸着薄膜を
多層に巻回した方式がある（実開昭57−134809号
公報参照）。また、類似構成としては特開昭57−
208111号公報がある。これらはいずれも熱侵入防
止のため断熱支持円筒や輻射シールド板が設けら
れている。
しかしながら、このような構成だと断熱支持材
を通しした熱侵入や窒素温度（77〓）から輻射が
極低温（4.2〓）領域へ入る恐れがあり、このた
め液体ヘリウムの蒸発が生じ、液体ヘリウムの消
費量を軽減するためには十分とは言えない欠点が
ある。
を通しした熱侵入や窒素温度（77〓）から輻射が
極低温（4.2〓）領域へ入る恐れがあり、このた
め液体ヘリウムの蒸発が生じ、液体ヘリウムの消
費量を軽減するためには十分とは言えない欠点が
ある。
本発明は上述の点に鑑み成されたもので、その
目的とするところは、極低温冷媒である液体ヘリ
ウムの消費量を軽減し、かつ、超電導現象を安定
化させることのできる超電導装置を提供するにあ
る。
目的とするところは、極低温冷媒である液体ヘリ
ウムの消費量を軽減し、かつ、超電導現象を安定
化させることのできる超電導装置を提供するにあ
る。
本発明は超電導コイルを極低温冷媒中に浸漬し
て収納する極低温容器内に、前記超電導コイルを
覆うように極低温伝導板を設けることにより、所
期の目的を達成するようになしたものである。
て収納する極低温容器内に、前記超電導コイルを
覆うように極低温伝導板を設けることにより、所
期の目的を達成するようになしたものである。
以下、図面の実施例に基づいて本発明を説明す
る。
る。
図に本発明の超電導装置の一実施例を示す。該
図において、１は超電導コイルで、巻枠２に超電
導線を巻回して形成され、図示の如く複数個有し
ている。通常、超電導コイル１は液体ヘリウム８
に浸漬されて極低温容器３内に収納され、上記巻
枠２は極低温容器３の底部に固定されている。極
低温容器３の周囲には、熱輻射を行なう輻射シー
ルド４が設けられており、この輻射シールド４は
液体窒素で冷却され、更に、その輻射シールド４
の外周にはアルミ蒸着極薄膜（フイルム）５が多
数枚重ねて取り付けられている。最外周には内部
を真空にし断熱をつかさどる断熱真空容器６が設
けられ、上記した極低温容器３や輻射シールド４
等の内蔵物は、複数個設けた吊りロツド７を介し
て断熱真空容器６に保持されている。そして、本
実施例では、超電導コイル１と極低温容器３との
間に、該超電導コイル１の周囲を覆うよう２枚の
枚低温度伝導板１０，１１を所定間隔をもつて設
置している。この極低温度伝導板１０，１１は、
液体ヘリウム８中にあり極低温状態で、液体ヘリ
ウム８の温度領域において伝熱特性の良い高純度
アルミニウム製が使用されている。また、極低温
に冷却する過程においては、液体中、及び壁面に
吸着したガスが発生するため、このガス抜きを行
なう小穴１２が各々の極低温度伝導板１０，１１
に設けられており、しかも、この小穴１２は極低
温度伝導板１０，１１の各々で位置がずれて開口
されている。
図において、１は超電導コイルで、巻枠２に超電
導線を巻回して形成され、図示の如く複数個有し
ている。通常、超電導コイル１は液体ヘリウム８
に浸漬されて極低温容器３内に収納され、上記巻
枠２は極低温容器３の底部に固定されている。極
低温容器３の周囲には、熱輻射を行なう輻射シー
ルド４が設けられており、この輻射シールド４は
液体窒素で冷却され、更に、その輻射シールド４
の外周にはアルミ蒸着極薄膜（フイルム）５が多
数枚重ねて取り付けられている。最外周には内部
を真空にし断熱をつかさどる断熱真空容器６が設
けられ、上記した極低温容器３や輻射シールド４
等の内蔵物は、複数個設けた吊りロツド７を介し
て断熱真空容器６に保持されている。そして、本
実施例では、超電導コイル１と極低温容器３との
間に、該超電導コイル１の周囲を覆うよう２枚の
枚低温度伝導板１０，１１を所定間隔をもつて設
置している。この極低温度伝導板１０，１１は、
液体ヘリウム８中にあり極低温状態で、液体ヘリ
ウム８の温度領域において伝熱特性の良い高純度
アルミニウム製が使用されている。また、極低温
に冷却する過程においては、液体中、及び壁面に
吸着したガスが発生するため、このガス抜きを行
なう小穴１２が各々の極低温度伝導板１０，１１
に設けられており、しかも、この小穴１２は極低
温度伝導板１０，１１の各々で位置がずれて開口
されている。
このような本実施例の構成とすることにより、
極低温領域（4.2〓）における熱輻射の侵入が防
止され液体ヘリウム８の消費量が軽減される。ま
た、液体ヘリウム８の液面に異常熱侵入が生じた
り、液体ヘリウム８の供給が一時的に停止し液体
ヘリウム８の液面が下降した場合（図中９の位置
に液体ヘリウムの液面が下降した場合）でも、上
方よりの熱侵入が超電導コイル１に入らず、より
安定した超電導装置を得ることが可能である。
極低温領域（4.2〓）における熱輻射の侵入が防
止され液体ヘリウム８の消費量が軽減される。ま
た、液体ヘリウム８の液面に異常熱侵入が生じた
り、液体ヘリウム８の供給が一時的に停止し液体
ヘリウム８の液面が下降した場合（図中９の位置
に液体ヘリウムの液面が下降した場合）でも、上
方よりの熱侵入が超電導コイル１に入らず、より
安定した超電導装置を得ることが可能である。
以上説明した本発明の超電導装置によれば、超
電導コイルを極低温冷媒中に浸漬して収納する極
低温容器内に、前記超電導コイルを覆うように極
低温伝導板を設けたものであるから、極低温冷媒
の消費量を軽減し、かつ、超電導現象を安定化さ
せることができるため、比種超電導装置には非常
に有効である。
電導コイルを極低温冷媒中に浸漬して収納する極
低温容器内に、前記超電導コイルを覆うように極
低温伝導板を設けたものであるから、極低温冷媒
の消費量を軽減し、かつ、超電導現象を安定化さ
せることができるため、比種超電導装置には非常
に有効である。
図は本発明の超電導装置の一実施例を示す断面
図である。 １……超電導コイル、２……巻枠、３……極低
温容器、４……輻射シールド、５……アルミ蒸着
極薄膜、６……真空断熱容器、７……吊りロツ
ド、８……液体ヘリウム、１０，１１……極低温
伝導板、１２……小穴。
図である。 １……超電導コイル、２……巻枠、３……極低
温容器、４……輻射シールド、５……アルミ蒸着
極薄膜、６……真空断熱容器、７……吊りロツ
ド、８……液体ヘリウム、１０，１１……極低温
伝導板、１２……小穴。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 超電導コイルと、該超電導コイルを極低温冷
媒中に浸漬して収納する極低温容器と、該極低温
容器の周囲に設けられた輻射シールドと、これら
を収納する断熱真空容器とを備えた超電導装置に
おいて、前記極低温容器内に超電導コイルを覆う
ように極低温伝導板を設けたことを特徴とする超
電導装置。 ２ 前記極低温伝導板は、極低温領域で熱伝導性
の良好な材質で形成されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の超電導装置。 ３ 前記極低温伝導板は、高純度アルミニウム製
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項、
又は第２項記載の超電導装置。 ４ 前記極低温伝導板は、複数枚互いに所定間隔
をもつて設置されると共に、各々の極低温伝導板
には極低温ガス中の気泡を逃がすための穴が形成
され、かつ、該穴は互いに位置がずれていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項、又
は第３項記載の超電導装置。 ５ 前記超電導コイルは極低温容器の下部に固定
されている巻枠に支持されていると共に、この超
電導コイルを覆うように設けられた極低温伝導板
も前記極低温容器の下部に固定されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項、第３
項、又は第４項記載の超電導装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59194731A JPS6174307A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 超電導装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59194731A JPS6174307A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 超電導装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6174307A JPS6174307A (ja) | 1986-04-16 |
| JPH0510810B2 true JPH0510810B2 (ja) | 1993-02-10 |
Family
ID=16329293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59194731A Granted JPS6174307A (ja) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | 超電導装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6174307A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0619776Y2 (ja) * | 1987-12-16 | 1994-05-25 | 愛知機械工業株式会社 | カムシャフトロケーティングプレートの潤滑構造 |
| JP2012146821A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Tokyo Denki Univ | 超電導コイル装置 |
-
1984
- 1984-09-19 JP JP59194731A patent/JPS6174307A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6174307A (ja) | 1986-04-16 |
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