JPH05108167A - 制御装置 - Google Patents
制御装置Info
- Publication number
- JPH05108167A JPH05108167A JP3266123A JP26612391A JPH05108167A JP H05108167 A JPH05108167 A JP H05108167A JP 3266123 A JP3266123 A JP 3266123A JP 26612391 A JP26612391 A JP 26612391A JP H05108167 A JPH05108167 A JP H05108167A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- gas
- control device
- mass flow
- abnormality
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Flow Control (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 流体制御手段とそれ自身の異常を検出できる
設定監視手段とからなる制御装置を提供することを目的
とする。 【構成】 シーケンスコントローラ１は、マスフローコ
ントローラ２の制御開始から一定時間、動作の変動状態
を監視することによりマスフローコントローラ２の異常
を検出する。
設定監視手段とからなる制御装置を提供することを目的
とする。 【構成】 シーケンスコントローラ１は、マスフローコ
ントローラ２の制御開始から一定時間、動作の変動状態
を監視することによりマスフローコントローラ２の異常
を検出する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はガスなどの流量を制御
する制御装置に関する。
する制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来のガス流量制御装置の構成
図である。１ａはシーケンスコントローラであり、図５
に示すグラフのように、設定値及びその許容範囲（±２
％）とこの許容範囲から外れた状態を監視する監視時間
とを設定してあり、ガスの流量が設定値の許容範囲を外
れた状態で監視時間を越えた場合にガスの流量異常とし
て検出する。
図である。１ａはシーケンスコントローラであり、図５
に示すグラフのように、設定値及びその許容範囲（±２
％）とこの許容範囲から外れた状態を監視する監視時間
とを設定してあり、ガスの流量が設定値の許容範囲を外
れた状態で監視時間を越えた場合にガスの流量異常とし
て検出する。
【０００３】２はマスフローコントローラであり、精度
が±２％以内で応答時間が３秒以内の性能を持ち、最大
流量が１０ｌ／分で使用圧力範囲が０．５〜３．０kgf/
cm2の仕様を有し、シーケンスコントローラ１に設定さ
れた値にガスの流量を制御する。シーケンスコントロー
ラ１ａは、マスフローコントローラ２にガスの流量と流
している時間を設定し、加えてマスフローコントローラ
の異常を検出する。
が±２％以内で応答時間が３秒以内の性能を持ち、最大
流量が１０ｌ／分で使用圧力範囲が０．５〜３．０kgf/
cm2の仕様を有し、シーケンスコントローラ１に設定さ
れた値にガスの流量を制御する。シーケンスコントロー
ラ１ａは、マスフローコントローラ２にガスの流量と流
している時間を設定し、加えてマスフローコントローラ
の異常を検出する。
【０００４】図６は図４に示した従来のガス流量制御装
置を使用した半導体製造装置のガス供給系の配管図であ
る。２ａ，２ｂ，２ｃは３本のガスラインにそれぞれ設
けられた図４のマスフローコントローラ２と同一のマス
フローコントローラ、３はガス供給元の圧力を０．５kg
f/cm2に調整する減圧弁である。
置を使用した半導体製造装置のガス供給系の配管図であ
る。２ａ，２ｂ，２ｃは３本のガスラインにそれぞれ設
けられた図４のマスフローコントローラ２と同一のマス
フローコントローラ、３はガス供給元の圧力を０．５kg
f/cm2に調整する減圧弁である。
【０００５】ガスが流れていない状態からマスフローコ
ントローラ２の最大流量である１０ｌ／分を流し始めた
ら、供給ガス圧が０．５kgf/cm2なので各マスフローコ
ントローラ２ａ，２ｂ，２ｃにかかるガスの圧力は０．
５kgf/cm2以下になる。
ントローラ２の最大流量である１０ｌ／分を流し始めた
ら、供給ガス圧が０．５kgf/cm2なので各マスフローコ
ントローラ２ａ，２ｂ，２ｃにかかるガスの圧力は０．
５kgf/cm2以下になる。
【０００６】このガス圧では、マスフローコントローラ
２の性能を保証する仕様値からはずれており、図７に示
すのようにガス流量が設定値の許容範囲内に安定するま
でに長い時間（１０秒）がかかってしまう。
２の性能を保証する仕様値からはずれており、図７に示
すのようにガス流量が設定値の許容範囲内に安定するま
でに長い時間（１０秒）がかかってしまう。
【０００７】ここで、シーケンスコントローラ１ａの内
容が図７のようにマスフローコントローラ２の性能に合
わせて監視時間を３秒と設定してある場合、ガスの圧力
がマスフローコントローラ２の規格値（０．５kgf/c
m2）以下になったため流量が安定するまで３秒以上（１
０秒）かかっているので、シーケンスコントローラ１ａ
はこの状態を異常と判断する。
容が図７のようにマスフローコントローラ２の性能に合
わせて監視時間を３秒と設定してある場合、ガスの圧力
がマスフローコントローラ２の規格値（０．５kgf/c
m2）以下になったため流量が安定するまで３秒以上（１
０秒）かかっているので、シーケンスコントローラ１ａ
はこの状態を異常と判断する。
【０００８】この状態は初期の供給ガス圧力のふらつき
でありマスフローコントローラ２の異常ではない。従っ
てシーケンスコントローラ１ａは、前記のような不具合
を避けるため、通常マスフローコントローラ２の性能も
考慮して図５に示すように設定値の許容範囲から外れた
流量値が１分以上継続した場合、これを異常とみなすよ
うにしている。
でありマスフローコントローラ２の異常ではない。従っ
てシーケンスコントローラ１ａは、前記のような不具合
を避けるため、通常マスフローコントローラ２の性能も
考慮して図５に示すように設定値の許容範囲から外れた
流量値が１分以上継続した場合、これを異常とみなすよ
うにしている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の流量制御装置は
以上のように構成されいるので、供給ガス圧力のふらつ
きでなくマスフローコントローラ２自身が図８に示すよ
うに応答時間が初期性能を維持していたときより長くな
るような劣化をしていた場合、シーケンスコントローラ
１ａはこの状態ををマスフローコントローラの異常とし
て検出できない。
以上のように構成されいるので、供給ガス圧力のふらつ
きでなくマスフローコントローラ２自身が図８に示すよ
うに応答時間が初期性能を維持していたときより長くな
るような劣化をしていた場合、シーケンスコントローラ
１ａはこの状態ををマスフローコントローラの異常とし
て検出できない。
【００１０】一方、シーケンスコントローラ１ａの設定
のモニタ時間を短くするとマスフローコントローラ２の
異常でない供給ガス圧の変動等の他の異常を検出するよ
うになる。
のモニタ時間を短くするとマスフローコントローラ２の
異常でない供給ガス圧の変動等の他の異常を検出するよ
うになる。
【００１１】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、流体制御手段自身の異常を検出
できる設定監視手段を有する制御装置を提供することを
目的とする。
ためになされたもので、流体制御手段自身の異常を検出
できる設定監視手段を有する制御装置を提供することを
目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明の制御装置は、
ある動作の開始直後もしくは変更直後の一定時間その動
作を監視し、その状態が設定値と異なるとき異常とする
設定監視手段を有するようにしたものである。
ある動作の開始直後もしくは変更直後の一定時間その動
作を監視し、その状態が設定値と異なるとき異常とする
設定監視手段を有するようにしたものである。
【００１３】
【作用】流体制御手段の異常による動作の異常を検出
し、他の要因による動作の異常は検出しない。
し、他の要因による動作の異常は検出しない。
【００１４】
【実施例】以下本発明の１実施例を図を参照して説明す
る。図１は本発明の１実施例を示す流量制御装置の構成
図である。１は、図２に示すグラフのような流量の設定
値とその許容範囲（±２％）と監視時間を設定してある
シーケンスコントローラであり、ガス供給開始直後の設
定した監視時間内のガス流量変動を監視しガスの流量異
常を検出する。
る。図１は本発明の１実施例を示す流量制御装置の構成
図である。１は、図２に示すグラフのような流量の設定
値とその許容範囲（±２％）と監視時間を設定してある
シーケンスコントローラであり、ガス供給開始直後の設
定した監視時間内のガス流量変動を監視しガスの流量異
常を検出する。
【００１５】２は、図４と同一のマスフローコントロー
ラである。マスフローコントローラ２が異常を来たして
いる場合は、図３に示すように正常な場合と異なり１５
秒以内に設定流量範囲（設定値±２％）に到達せず、シ
ーケンスコントローラ１によって異常と判断される。
ラである。マスフローコントローラ２が異常を来たして
いる場合は、図３に示すように正常な場合と異なり１５
秒以内に設定流量範囲（設定値±２％）に到達せず、シ
ーケンスコントローラ１によって異常と判断される。
【００１６】一方、ガスの供給初期に発生するふらつき
は、図３に示す正常な場合と同様に１５秒以内に収まる
ので異常と判断されない。
は、図３に示す正常な場合と同様に１５秒以内に収まる
ので異常と判断されない。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、設定監視
手段にて制御開始直後の動作不良を検出できるようにし
たので、装置の動作環境のふらつきなどの異常ではなく
流体制御手段の異常を検出できる。
手段にて制御開始直後の動作不良を検出できるようにし
たので、装置の動作環境のふらつきなどの異常ではなく
流体制御手段の異常を検出できる。
【図１】本発明の１実施例を示すガス流量制御装置の構
成図である。
成図である。
【図２】図１に示したガス流量制御装置の監視内容を示
した時間と流量の相関図である。
した時間と流量の相関図である。
【図３】図１に示したガス流量制御装置の正常動作と異
常動作を示した時間と流量の相関図である。
常動作を示した時間と流量の相関図である。
【図４】従来のガス流量制御装置を示した構成図であ
る。
る。
【図５】図４に示したガス流量制御装置の監視内容を示
した時間と流量の相関図である。
した時間と流量の相関図である。
【図６】図４に示した従来のガス流量制御装置を使用し
た半導体製造装置のガス供給系の配管図である。
た半導体製造装置のガス供給系の配管図である。
【図７】図６に示したガス供給系を用いてガス供給を行
なった場合の時間と流量の相関図である。
なった場合の時間と流量の相関図である。
【図８】マスフローコントローラに異常があるときの時
間と流量の相関図である。
間と流量の相関図である。
１ シーケンスコントローラ ２ マスフローコントローラ
Claims (1)
- 【請求項１】 流体の体積流量を制御する流量制御手段
と、 前記流体制御手段の動作条件が設定してあり前記流体制
御手段の制御の動作開始直後の前記動作の変動を監視す
ることにより前記流体制御手段の異常を検出する設定監
視手段とから構成された制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3266123A JPH05108167A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3266123A JPH05108167A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05108167A true JPH05108167A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17426648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3266123A Pending JPH05108167A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05108167A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0784649A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Kitz Corp | 定流量機能と変流量機能を同時に持つ流量制御ユニット |
| US7108009B2 (en) | 2002-11-15 | 2006-09-19 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto |
| JP2008091518A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 異常検出方法 |
| JP2010093047A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Ulvac Japan Ltd | 処理装置の管理システム |
| JP2013033967A (ja) * | 2012-08-09 | 2013-02-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置の異常検出方法、及び基板処理装置 |
| CN114883217A (zh) * | 2022-04-20 | 2022-08-09 | 上海华力微电子有限公司 | 一种薄膜沉积设备的监控系统及监控方法 |
-
1991
- 1991-10-15 JP JP3266123A patent/JPH05108167A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0784649A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Kitz Corp | 定流量機能と変流量機能を同時に持つ流量制御ユニット |
| US7108009B2 (en) | 2002-11-15 | 2006-09-19 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto |
| US7658204B2 (en) | 2002-11-15 | 2010-02-09 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto |
| JP2008091518A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 異常検出方法 |
| JP2010093047A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Ulvac Japan Ltd | 処理装置の管理システム |
| JP2013033967A (ja) * | 2012-08-09 | 2013-02-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置の異常検出方法、及び基板処理装置 |
| CN114883217A (zh) * | 2022-04-20 | 2022-08-09 | 上海华力微电子有限公司 | 一种薄膜沉积设备的监控系统及监控方法 |
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