JPH0510902U - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPH0510902U
JPH0510902U JP5748691U JP5748691U JPH0510902U JP H0510902 U JPH0510902 U JP H0510902U JP 5748691 U JP5748691 U JP 5748691U JP 5748691 U JP5748691 U JP 5748691U JP H0510902 U JPH0510902 U JP H0510902U
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JP
Japan
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mounting table
heating
heating chamber
shaft
bottom wall
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Pending
Application number
JP5748691U
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Inventor
義治 大森
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 無負荷状態での加熱時の載置台及び載置台駆
動シャフトの異常加熱を防止する。 【構成】 無負荷加熱時のマイクロ波の反射が、加熱室
１底壁に回転自在に設けられた載置台４中央、及び、載
置台４を駆動するシャフト８に集中しないように、載置
台４を駆動するシャフト８に近接して、加熱室底壁に形
成された環状の突起からなるマイクロ波反射位相調節座
９を設ける。

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本考案はマイクロ波により被加熱物を加熱調理する高周波加熱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特開平３−１１２４３等に開示の加熱室内に回転載置台を備えた高周波加熱装 置においては、載置台を駆動するシャフトの影響で、載置台の中央部の加熱が他 の場所に比べて弱くなる。従って、食品の加熱を均一にするために、載置台の中 央の加熱が強くなるように加熱室が形成される。このように形成された高周波加 熱装置を無負荷に近い状態で運転されると、載置台を駆動するシャフト、及び、 載置台のシャフト当接部が異常に加熱され、シャフトの変形、溶融などが生じる 。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】
軽負荷及び、無負荷状態での加熱運転時、載置台及び載置台を駆動するシャフ トの異常加熱を防止する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本考案は、加熱室と、この加熱室内にマイクロ波を供給する高周波発生装置と 、上記加熱室底壁に回転自在に設けられた載置台と、この載置台を回転駆動する モータと、上記加熱室底壁を貫通しモータの回転力を載置台に伝達するシャフト とを備え、上記加熱室底壁に上記シャフトに近接する環状の突起からなるマイク ロ波反射位相調節座を設ける。
【０００５】
【作用】
無負荷に近い状態での加熱モードを、マイクロ波反射位相調節座により容易に 調節できる。
【０００６】
【実施例】
図１及び図２は本考案実施例の高周波加熱装置を示し、１は食品を収容し、高 周波発生装置（図示せず）から供給されるマイクロ波により食品を加熱する加熱 室、２は加熱室開口を開閉するドアー、３は加熱条件を入力する操作パネルであ る。
【０００７】 ４は加熱室底壁に設けられた載置台で、この載置台４は複数の支持ローラ５を 有する回転ローラリング６により、加熱室底壁に回転自在に支持されている。７ は上記載置台４を回転駆動するモータ、８は加熱室底壁を貫通しモータ７の回転 駆動力を載置台４に伝達する合成樹脂製のシャフトで、シャフト８の加熱室内側 には、載置台の凹部と係合するカップリング部８ａを有している。９は加熱室１ 底壁に一体に形成され、カップリング部８ａに近接する環状の突起からなるマイ クロ波反射位相調節座で、マイクロ波反射位相調節座の高さにより、載置台中央 へ反射するマイクロ波の位相を調節する。マイクロ波反射位相調節座９の高さを 変え、２分間無負荷加熱したときの、載置台４中央表面、及び、シャフト８の温 度上昇測定結果を下表に示す。
【０００８】
【表１】
【０００９】 この表より、マイクロ波反射位相調節座９の高さが３．０ｍｍの場合、載置台 ４中央表面、及び、シャフト８は最も温度上昇しにくいことが分かり、本実施例 においては、マイクロ波反射位相調節座９の高さを３．０ｍｍとした。
【００１０】 更に、この時マイクロ波反射位相調節座９の上面は、加熱室１底壁面で最も高 く、誤って加熱室１内にこぼした液体が、シャフト８を伝ってモータ７へ流入す るのを阻止できる。
【００１１】
【考案の効果】
回転載置台を有する高周波加熱装置の無負荷加熱時は、加熱モードが略固定し て変化しないため、無負荷加熱時のマイクロ波の反射が回転載置台中央、及び、 シャフトに集中しないように、マイクロ波反射位相調節座で容易に調整でき、載 置台及びシャフトの異常加熱が防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案実施例の高周波加熱装置の外観斜視図で
ある。
【図２】本考案実施例の要部断面図である。
【符号の説明】
１ 加熱室 ４ 載置台 ７ モータ ８ シャフト ９ マイクロ波反射位相調節座

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】 加熱室と、この加熱室内にマイクロ波を
    供給する高周波発生装置と、上記加熱室底壁に回転自在
    に設けられた載置台と、この載置台を回転駆動するモー
    タと、上記加熱室底壁を貫通しモータの回転力を載置台
    に伝達するシャフトとを備え、上記加熱室底壁に上記シ
    ャフトに近接する環状の突起からなるマイクロ波反射位
    相調節座を設けてなる高周波加熱装置。
JP5748691U 1991-07-23 1991-07-23 高周波加熱装置 Pending JPH0510902U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5223365U (ja) * 1975-08-08 1977-02-18

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0311073A (ja) * 1989-06-06 1991-01-18 Mitsui Petrochem Ind Ltd グリシジル化合物およびその製造方法ならびにグリシジル化合物含有組成物

Patent Citations (1)

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