JPH05109598A - レチクルの位置合わせ方法 - Google Patents
レチクルの位置合わせ方法Info
- Publication number
- JPH05109598A JPH05109598A JP27150191A JP27150191A JPH05109598A JP H05109598 A JPH05109598 A JP H05109598A JP 27150191 A JP27150191 A JP 27150191A JP 27150191 A JP27150191 A JP 27150191A JP H05109598 A JPH05109598 A JP H05109598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- alignment mark
- reticle
- point
- reference point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レチクルを露光装置，検査装置にセッティン
グする際の位置合わせ方法に関し，高精度の位置合わせ
を高速で処理することを目的とする。 【構成】 レチクル基板上に一定距離を隔てて第１の位
置合わせマークおよび第２の位置合わせマークを形成
し，該第１の位置合わせマークを認識してこれのアライ
メントポイントを基準点としてレチクルパターンをデー
タが持つ座標系に合わせ，該基準点から前記一定距離を
隔て且つ第１の位置合わせマークおよび第２の位置合わ
せマークのアライメントポイントを結ぶ線分に対する垂
線上を探索して該第２の位置合わせマークを認識するよ
うに構成する。
グする際の位置合わせ方法に関し，高精度の位置合わせ
を高速で処理することを目的とする。 【構成】 レチクル基板上に一定距離を隔てて第１の位
置合わせマークおよび第２の位置合わせマークを形成
し，該第１の位置合わせマークを認識してこれのアライ
メントポイントを基準点としてレチクルパターンをデー
タが持つ座標系に合わせ，該基準点から前記一定距離を
隔て且つ第１の位置合わせマークおよび第２の位置合わ
せマークのアライメントポイントを結ぶ線分に対する垂
線上を探索して該第２の位置合わせマークを認識するよ
うに構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレチクルを露光装置また
は検査装置にセッティングする際の位置合わせ方法に関
する。
は検査装置にセッティングする際の位置合わせ方法に関
する。
【０００２】近年，デバイスの高集積化，高密度化にと
もない，レチクルを用いた露光および検査に高精度の技
術が要求されている。露光装置または検査装置にレチク
ルをセットするための位置合わせは，露光，検査の実処
理を行うための前処理に相当し，装置上の座標とデータ
上の座標との誤差を少なくする必要がある。
もない，レチクルを用いた露光および検査に高精度の技
術が要求されている。露光装置または検査装置にレチク
ルをセットするための位置合わせは，露光，検査の実処
理を行うための前処理に相当し，装置上の座標とデータ
上の座標との誤差を少なくする必要がある。
【０００３】
【従来の技術】従来，装置にレチクルを載せて位置合わ
せを行う場合，人がマニュアルで行うか，あるいは自動
化されていても処理に長時間を要し，また精度的にも充
分でなかった。
せを行う場合，人がマニュアルで行うか，あるいは自動
化されていても処理に長時間を要し，また精度的にも充
分でなかった。
【０００４】従来の位置合わせ方法は， まず第１のアライメントポイント（位置合わせマー
クの基準点）をディジタイズし， 次いで第２のアラ
イメントポイントをディジタイズする。
クの基準点）をディジタイズし， 次いで第２のアラ
イメントポイントをディジタイズする。
【０００５】手動による場合の処理は，第１及び第２の
アライメントポイントをディジタイズすることで，レチ
クルプレート上のパターンイメージをデータが持つ座標
系に合わせる。
アライメントポイントをディジタイズすることで，レチ
クルプレート上のパターンイメージをデータが持つ座標
系に合わせる。
【０００６】処理の手順は第１のアライメントポイント
をディジタイズした後，手動でステージを移動し，第２
のアライメントポイントをディジタイズしている。
をディジタイズした後，手動でステージを移動し，第２
のアライメントポイントをディジタイズしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来例で
は，上記，の処理はともに手動で行われるため，位
置合わせの処理時間が長く，また精度は人の感覚に依存
するために充分でなかった。
は，上記，の処理はともに手動で行われるため，位
置合わせの処理時間が長く，また精度は人の感覚に依存
するために充分でなかった。
【０００８】本発明は高精度の位置合わせを高速で処理
することを目的とする。
することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は，レチ
クル基板上に一定距離を隔てて第１の位置合わせマーク
および第２の位置合わせマークを形成し，該第１の位置
合わせマークを認識してこれのアライメントポイントを
基準点としてレチクルパターンをデータが持つ座標系に
合わせ，該基準点から前記一定距離を隔て且つ第１の位
置合わせマークおよび第２の位置合わせマークのアライ
メントポイントを結ぶ線分に対する垂線上を探索して該
第２の位置合わせマークを認識するレチクルの位置合わ
せ方法により達成される。
クル基板上に一定距離を隔てて第１の位置合わせマーク
および第２の位置合わせマークを形成し，該第１の位置
合わせマークを認識してこれのアライメントポイントを
基準点としてレチクルパターンをデータが持つ座標系に
合わせ，該基準点から前記一定距離を隔て且つ第１の位
置合わせマークおよび第２の位置合わせマークのアライ
メントポイントを結ぶ線分に対する垂線上を探索して該
第２の位置合わせマークを認識するレチクルの位置合わ
せ方法により達成される。
【００１０】
【作用】図１は本発明の原理説明図である。図におい
て，１はレチクル，２は第１の位置合わせマーク，３は
第２の位置合わせマーク，４はデバイスパターン領域，
５はレチクルを載置するステージである。
て，１はレチクル，２は第１の位置合わせマーク，３は
第２の位置合わせマーク，４はデバイスパターン領域，
５はレチクルを載置するステージである。
【００１１】本発明では，レチクル１上に形成され且つ
Ｘ方向に一定間隔を持つ２つの位置合わせマーク２，３
により位置合わせを行う。アライメントポイントの認識
方法は以下のようにする。 (1) まず，第１のアライメントポイントを認識し，これ
を基準点としＸ方向，Ｙ方向の位置合わせを行う。すな
わち，レチクルパターンをデータ上の座標に合わせる。 (2) 基準点からＸ方向に一定間隔を隔てたＹ方向上に存
在する第２のアライメントポイントを探索して認識す
る。
Ｘ方向に一定間隔を持つ２つの位置合わせマーク２，３
により位置合わせを行う。アライメントポイントの認識
方法は以下のようにする。 (1) まず，第１のアライメントポイントを認識し，これ
を基準点としＸ方向，Ｙ方向の位置合わせを行う。すな
わち，レチクルパターンをデータ上の座標に合わせる。 (2) 基準点からＸ方向に一定間隔を隔てたＹ方向上に存
在する第２のアライメントポイントを探索して認識す
る。
【００１２】まず，第１のアライメントポイントを認識
して基準点とし，基準点からＸ方向に一定間隔を隔てた
垂線上を走査するようにステージを移動すれば，第２の
アライメントポイントは上記垂線上に存在するから容易
に認識することができる。
して基準点とし，基準点からＸ方向に一定間隔を隔てた
垂線上を走査するようにステージを移動すれば，第２の
アライメントポイントは上記垂線上に存在するから容易
に認識することができる。
【００１３】以上の過程を経て２つのアライメントポイ
ントが短時間に認識できるため，位置合わせの自動化計
画に容易に組み込むことができる。
ントが短時間に認識できるため，位置合わせの自動化計
画に容易に組み込むことができる。
【００１４】
【実施例】図２(A),(B) は本発明の実施例を説明する平
面図である。図２(A) において，ステージの移動により
目的物の存在しそうな一定領域内を横走査して第１の位
置合わせマーク２を認識する。
面図である。図２(A) において，ステージの移動により
目的物の存在しそうな一定領域内を横走査して第１の位
置合わせマーク２を認識する。
【００１５】第１のアライメントポイントを認識する場
合，任意のアライメント領域内を下側から順次横走査し
て探索するが，この場合，最初に見つけるポイントはａ
かｂである。第１のアライメントポイントをａかｂに設
定した場合，これを認識するために，最初に見つけたパ
ターンが，このポイントより右側にあるパターンか，左
側にあるパターンかで判断する。
合，任意のアライメント領域内を下側から順次横走査し
て探索するが，この場合，最初に見つけるポイントはａ
かｂである。第１のアライメントポイントをａかｂに設
定した場合，これを認識するために，最初に見つけたパ
ターンが，このポイントより右側にあるパターンか，左
側にあるパターンかで判断する。
【００１６】図２(B) において，第１のアライメントポ
イントからＸ方向に一定間隔を隔てた垂線上を走査する
ようにステージを移動して，第２の位置合わせマーク３
を探索する。
イントからＸ方向に一定間隔を隔てた垂線上を走査する
ようにステージを移動して，第２の位置合わせマーク３
を探索する。
【００１７】この場合最初に見つけたパターンと２番目
に見つけたパターンのピッチと，２番目に見つけたパタ
ーンと３番目に見つけたパターンのピッチを位置合わせ
識別用パッファに取り込み，システム側で両方のピッチ
が等しいことを確認することにより第２の位置合わせマ
ーク３を認識する。
に見つけたパターンのピッチと，２番目に見つけたパタ
ーンと３番目に見つけたパターンのピッチを位置合わせ
識別用パッファに取り込み，システム側で両方のピッチ
が等しいことを確認することにより第２の位置合わせマ
ーク３を認識する。
【００１８】実施例では，人の感覚にたよらないで，す
べての処理をシステマティックに基準通りにソフト上で
行えるため，処理は安定性がある。
べての処理をシステマティックに基準通りにソフト上で
行えるため，処理は安定性がある。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば，高精度の位置合わせを
高速で処理することが可能となった。この結果，位置合
わせの自動化への対応が容易となった。
高速で処理することが可能となった。この結果，位置合
わせの自動化への対応が容易となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の原理説明図
【図２】 本発明の実施例を説明する平面図
１ レチクル ２ 第１の位置合わせマーク ３ 第２の位置合わせマーク ４ デバイスパターン領域 ５ レチクルを載置するステージ
Claims (1)
- 【請求項１】 レチクル基板上に一定距離を隔てて第１
の位置合わせマークおよび第２の位置合わせマークを形
成し，該第１の位置合わせマークを認識してこれのアラ
イメントポイントを基準点としてレチクルパターンをデ
ータが持つ座標系に合わせ，該基準点から前記一定距離
を隔て且つ第１の位置合わせマークおよび第２の位置合
わせマークのアライメントポイントを結ぶ線分に対する
垂線上を探索して該第２の位置合わせマークを認識する
ことを特徴とするレチクルの位置合わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27150191A JPH05109598A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | レチクルの位置合わせ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27150191A JPH05109598A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | レチクルの位置合わせ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109598A true JPH05109598A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17500940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27150191A Withdrawn JPH05109598A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | レチクルの位置合わせ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05109598A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000029347A (ko) * | 1998-10-28 | 2000-05-25 | 카네코 히사시 | 위치정렬을 검출하는 마크를 구비한 레티클과 위치정렬검출방법 |
| CN100535755C (zh) | 2005-11-24 | 2009-09-02 | 上海微电子装备有限公司 | 同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法 |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP27150191A patent/JPH05109598A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000029347A (ko) * | 1998-10-28 | 2000-05-25 | 카네코 히사시 | 위치정렬을 검출하는 마크를 구비한 레티클과 위치정렬검출방법 |
| CN100535755C (zh) | 2005-11-24 | 2009-09-02 | 上海微电子装备有限公司 | 同轴对准垂向扫描长度的自适应优化方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |