JPH0511223B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0511223B2 JPH0511223B2 JP21648587A JP21648587A JPH0511223B2 JP H0511223 B2 JPH0511223 B2 JP H0511223B2 JP 21648587 A JP21648587 A JP 21648587A JP 21648587 A JP21648587 A JP 21648587A JP H0511223 B2 JPH0511223 B2 JP H0511223B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cryopanel
- argon
- shield
- saucer
- cooled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えばスパツタ装置のようなガス
を大量に導入する真空装置に使用され得るクライ
オポンプに関するものである。
を大量に導入する真空装置に使用され得るクライ
オポンプに関するものである。
この種のクライオポンプの一例を添付図面の第
2図に示し、図示装置では、凝縮面はバツフル
A、クライオパネルBおよびシールドcで構成さ
れている。バツフルAおよびシールドcは冷凍機
の1段シリンダDのステージ部分に熱的に接続さ
れ、またクライオパネルBは2段シリンダEのス
テージ部分に熱的に接続されておりそれらはそれ
ぞれ130k以下、20k以下に冷却されている。
2図に示し、図示装置では、凝縮面はバツフル
A、クライオパネルBおよびシールドcで構成さ
れている。バツフルAおよびシールドcは冷凍機
の1段シリンダDのステージ部分に熱的に接続さ
れ、またクライオパネルBは2段シリンダEのス
テージ部分に熱的に接続されておりそれらはそれ
ぞれ130k以下、20k以下に冷却されている。
上記のような従来のクライオポンプにおいて
は、冷凍機の1段シリンダDのステージに熱的に
接続されたバツフルAおよびシールドcは130k
以下に冷却されており、水、二酸化炭素等が凝縮
し排気される。冷凍機の2段シリンダEのステー
ジに熱的に接続されたクライオパネルBは20k以
下に冷却されがおり、アルゴン、窒素、酸素、一
酸化炭素等を排気する。またクライオパネルBの
裏面には、収着剤が取り付けられており20k以下
に冷却されて水素、ヘリウム、ネオンを収着し排
気するように構成されている。
は、冷凍機の1段シリンダDのステージに熱的に
接続されたバツフルAおよびシールドcは130k
以下に冷却されており、水、二酸化炭素等が凝縮
し排気される。冷凍機の2段シリンダEのステー
ジに熱的に接続されたクライオパネルBは20k以
下に冷却されがおり、アルゴン、窒素、酸素、一
酸化炭素等を排気する。またクライオパネルBの
裏面には、収着剤が取り付けられており20k以下
に冷却されて水素、ヘリウム、ネオンを収着し排
気するように構成されている。
ところで、従来のクライオポンプにおいては、
クライオパネルに凝縮したアルゴン、窒素等が振
動や大きな輻射入熱により落下する場合がある。
落下アルゴン等の付着物はより温度の高いシール
ドに落ちるため、再蒸発する。このため、圧力の
不安定や圧力上昇を引き起こすことになる。この
ことは装置を使用する上で極めて不都合となる。
クライオパネルに凝縮したアルゴン、窒素等が振
動や大きな輻射入熱により落下する場合がある。
落下アルゴン等の付着物はより温度の高いシール
ドに落ちるため、再蒸発する。このため、圧力の
不安定や圧力上昇を引き起こすことになる。この
ことは装置を使用する上で極めて不都合となる。
そこで、この発明は、上記のような従来のクラ
イオポンプのもつ問題点を解決してアルゴン等の
付着物が落下しても同じ温度面に落下させ圧力の
不安定や圧力上昇を防ぐことのできるクライオポ
ンプを提供することを目的としている。
イオポンプのもつ問題点を解決してアルゴン等の
付着物が落下しても同じ温度面に落下させ圧力の
不安定や圧力上昇を防ぐことのできるクライオポ
ンプを提供することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の目的を達成するために、この発明による
クライオポンプは、クライオパネルに凝縮しはく
離して落下するアルゴン等の付着物を受ける極低
温の受皿をクライオパネル下部に設け、この受皿
をクライオパネルとほぼ同じ温度に保つようにし
たことを特徴としている。
クライオポンプは、クライオパネルに凝縮しはく
離して落下するアルゴン等の付着物を受ける極低
温の受皿をクライオパネル下部に設け、この受皿
をクライオパネルとほぼ同じ温度に保つようにし
たことを特徴としている。
またこの発明の別の特徴によれば、受皿自体の
下面側や側面にアルゴン等が凝縮するとはく離落
下の現象がおこり易くなるので受皿の下側にアル
ゴンガスが極力入り込めないようにするため、シ
ールドに熱的に接続され、シールドと同程度の温
度に冷却されるL型リングが受皿の周縁部とシー
ルドとの間に設けられている。
下面側や側面にアルゴン等が凝縮するとはく離落
下の現象がおこり易くなるので受皿の下側にアル
ゴンガスが極力入り込めないようにするため、シ
ールドに熱的に接続され、シールドと同程度の温
度に冷却されるL型リングが受皿の周縁部とシー
ルドとの間に設けられている。
受皿とL型リングとの隙間は極力小さくされ、
リングの端や裏面にアルゴンが凝縮しないように
する。またL型リングは好ましくは、クライオパ
ネルから落下してくるアルゴン等がL型リング上
に落下しないだけの距離を置いて設置され得る。
リングの端や裏面にアルゴンが凝縮しないように
する。またL型リングは好ましくは、クライオパ
ネルから落下してくるアルゴン等がL型リング上
に落下しないだけの距離を置いて設置され得る。
この発明のクライオポンプでは、クライオパネ
ルの下部に設けた受皿はクライオパネルと同程度
の温度例えば20k以下に冷却されているので、ア
ルゴン等の付着物が落下しても同じ20k以下に冷
却された受皿に落ちるため圧力の不安定や、圧力
の上昇は極力押さえられ得る。
ルの下部に設けた受皿はクライオパネルと同程度
の温度例えば20k以下に冷却されているので、ア
ルゴン等の付着物が落下しても同じ20k以下に冷
却された受皿に落ちるため圧力の不安定や、圧力
の上昇は極力押さえられ得る。
また、受皿とシールドとの間に設けられたL型
リングは、受皿自体の下面側や側面にアルゴン等
が凝縮するのを防止するように作用する。
リングは、受皿自体の下面側や側面にアルゴン等
が凝縮するのを防止するように作用する。
以下、この発明の一実施例を添付図面の第1図
を参照して説明する。
を参照して説明する。
第1図にはこの発明の一実施例を示し、1はポ
ンプケースで、このポンプケース内に凝縮面を構
成するバツフル2とクライオパネル3とシールド
4とが設けられており、バツフル2およびシール
ド4は、冷凍機の一段シリンダ5のステージに熱
的に接続され、そして130k以下に冷却され、水、
二酸化炭素等を凝縮し排気するようにされる。ク
ライオパネル3は冷凍機の二段シリンダ6のステ
ージに熱的に接続され、そして20k以下に冷却さ
れて、アルゴン、窒素、酸素、一酸化炭素等を排
気するようにされている。また、クライオパネル
3の裏面には、通常のように収着剤が取付けら
れ、そして20k以下に冷却されて水素、ヘリウ
ム、ネオンを収着し排するようにされている。
ンプケースで、このポンプケース内に凝縮面を構
成するバツフル2とクライオパネル3とシールド
4とが設けられており、バツフル2およびシール
ド4は、冷凍機の一段シリンダ5のステージに熱
的に接続され、そして130k以下に冷却され、水、
二酸化炭素等を凝縮し排気するようにされる。ク
ライオパネル3は冷凍機の二段シリンダ6のステ
ージに熱的に接続され、そして20k以下に冷却さ
れて、アルゴン、窒素、酸素、一酸化炭素等を排
気するようにされている。また、クライオパネル
3の裏面には、通常のように収着剤が取付けら
れ、そして20k以下に冷却されて水素、ヘリウ
ム、ネオンを収着し排するようにされている。
また、クライオパネル3の下部には、冷凍機の
二段シリンダ6のステージと熱的に接続され、
20k以下に冷却された受皿7が設けられ、この受
皿7はアルゴン等が落下しても同じ20k以下に冷
却されているので、圧力の不安定や、圧力上昇を
極力押さえることができる。また受皿7自体の下
面側や側面にアルゴンが凝縮すると振動等でシー
ルド4上に落下し圧力の不安定や圧力上昇を起こ
す危険性があるため受皿7の下側にアルゴンガス
等が極力入り込まないようにシールド4と受皿7
の周縁部との間にはL型リング8が設けられ、こ
のL型リング8はシールド4に熱的に接続され、
そして130k以下に冷却されている。受皿7とL
型リング8との隙間は極力小さくし、リングの端
や裏面にアルゴン等が凝縮しないようにされ、ま
たL型リング8は、クライオパネルから落下して
くるアルゴン等がこのL型リング8上に落下しな
いだけの距離を置いて、位置決めされている。
二段シリンダ6のステージと熱的に接続され、
20k以下に冷却された受皿7が設けられ、この受
皿7はアルゴン等が落下しても同じ20k以下に冷
却されているので、圧力の不安定や、圧力上昇を
極力押さえることができる。また受皿7自体の下
面側や側面にアルゴンが凝縮すると振動等でシー
ルド4上に落下し圧力の不安定や圧力上昇を起こ
す危険性があるため受皿7の下側にアルゴンガス
等が極力入り込まないようにシールド4と受皿7
の周縁部との間にはL型リング8が設けられ、こ
のL型リング8はシールド4に熱的に接続され、
そして130k以下に冷却されている。受皿7とL
型リング8との隙間は極力小さくし、リングの端
や裏面にアルゴン等が凝縮しないようにされ、ま
たL型リング8は、クライオパネルから落下して
くるアルゴン等がこのL型リング8上に落下しな
いだけの距離を置いて、位置決めされている。
なお、第1図において9は水素蒸気圧温度計、
10はクロメル−アルメル熱電対温度計である。
10はクロメル−アルメル熱電対温度計である。
以上説明してきたように、この発明によるクラ
イオポンプは、クライオパネルの下部にそれと同
程度の温度に保持された受皿を設けているので、
落下してきたアルゴン等の付着物が再蒸発するこ
とがなく、圧力の不安定や上昇は発生しなくな
る。その結果、スパツタ等の作業終了後真空度の
回復が早くなり、圧力の不安定な現象も現れなく
なるため、作業能率が向上し、またクライオポン
プの再生周期も長く取れることになる。
イオポンプは、クライオパネルの下部にそれと同
程度の温度に保持された受皿を設けているので、
落下してきたアルゴン等の付着物が再蒸発するこ
とがなく、圧力の不安定や上昇は発生しなくな
る。その結果、スパツタ等の作業終了後真空度の
回復が早くなり、圧力の不安定な現象も現れなく
なるため、作業能率が向上し、またクライオポン
プの再生周期も長く取れることになる。
第1図はこの発明の実施例を示す断面図を示
す。第2図は従来のクライオポンプの断面図を示
す。 図中、1:ポンプケース、2:バツフル、3:
クライオパネル、4:シールド、5:一段シリン
ダ、6:二段シリンダ、7:受皿、8:L型リン
グ、9:水素蒸気圧温度計、10:クロメル−ア
ルメル熱電対温度計。
す。第2図は従来のクライオポンプの断面図を示
す。 図中、1:ポンプケース、2:バツフル、3:
クライオパネル、4:シールド、5:一段シリン
ダ、6:二段シリンダ、7:受皿、8:L型リン
グ、9:水素蒸気圧温度計、10:クロメル−ア
ルメル熱電対温度計。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 クライオパネルに凝縮しはく離して落下する
アルゴン等の付着物を受ける極低温の受皿をクラ
イオパネル下部に設け、この受皿をクライオパネ
ルとほぼ同じ温度に保つようにしたことを特徴と
するクライオポンプ。 2 クライオパネルに凝縮しはく離して落下する
アルゴン等の付着物を受ける極低温の受皿をクラ
イオパネル下部に設け、この受皿をクライオパネ
ルとほぼ同じ温度に保つようにし、さらにシール
ドと同程度の温度に冷却されるL型リングを受皿
の周縁部とシールドとの間に設けたことを特徴と
するクライオポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21648587A JPS6460781A (en) | 1987-09-01 | 1987-09-01 | Cryopump for spatter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21648587A JPS6460781A (en) | 1987-09-01 | 1987-09-01 | Cryopump for spatter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6460781A JPS6460781A (en) | 1989-03-07 |
| JPH0511223B2 true JPH0511223B2 (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16689168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21648587A Granted JPS6460781A (en) | 1987-09-01 | 1987-09-01 | Cryopump for spatter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6460781A (ja) |
-
1987
- 1987-09-01 JP JP21648587A patent/JPS6460781A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6460781A (en) | 1989-03-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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