JPH0261629B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0261629B2 JPH0261629B2 JP59077897A JP7789784A JPH0261629B2 JP H0261629 B2 JPH0261629 B2 JP H0261629B2 JP 59077897 A JP59077897 A JP 59077897A JP 7789784 A JP7789784 A JP 7789784A JP H0261629 B2 JPH0261629 B2 JP H0261629B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cryopanel
- exhaust
- cryopump
- condensing
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、クライオポンプに関し、特に、水素
に対する排気の調整能力（凝縮性気体の排気中の
水素排気の調整能力）を著しく向上させたクライ
オポンプを提供するものである。
に対する排気の調整能力（凝縮性気体の排気中の
水素排気の調整能力）を著しく向上させたクライ
オポンプを提供するものである。
近年、10〓〜20〓の到達温度をもつ小型ヘリウ
ム冷凍機を用いたクライオポンプが、真空装置の
排気ポンプとして広く用いられる様になつた。従
来、この種のクライオポンプには二段の冷凍ステ
ージをもつ小型ヘリウム冷凍機が用いられるのが
通常である。第１図にそのクライオポンプの略図
を示す。この小型ヘリウム冷凍機４の一段目の冷
凍ステージ１は、ポンプ容器８内にて通常50〓〜
100〓程度の温度に冷却され、二段目の冷凍ステ
ージ２は、通常10〓〜20〓程度に冷却される。こ
の二段目の冷却ステージ２には気体凝縮のための
第２の凝縮型クライオパネル２２が取り付けら
れ、この第２の凝縮型クライオパネル２２により
主にAr，N2，O2などの気体の凝縮排気が行なわ
れる。He，Ne，H2などは10〓〜20〓の温度で
は高い飽和蒸気圧を示し、この第２の凝縮型クラ
イオパネル２２では凝縮排気が不可能である。第
２の凝縮型クライオパネル２２により凝縮排気が
不可能な気体を排気する為に、活性炭等の気体吸
着剤を貼り付けた第３の吸着型クライオパネル３
２が同じく二段目の冷凍ステージ２に取り付けら
れる。（第３の吸着型クライオパネル３２が第２
の凝縮型クライオパネル２２と一体構造をなして
二段目の冷凍ステージ２に取り付けられることも
ある。）一方、一段目の冷凍ステージ１には、二
段目の冷凍ステージ２及びそれに取り付けられた
第２及び第３のクライオパネル２２及び３２を覆
う様な形でH2O，CO2などの気体の凝縮のための
第１の凝縮型クライオパネル１１が取り付けられ
る。この第１の凝縮型クライオパネル１１の底部
１１０は、第２及び第３のクライオパネル２２及
び３２へ輻射熱の入射を防ぐための輻射熱シール
ドの役目をも為している。
ム冷凍機を用いたクライオポンプが、真空装置の
排気ポンプとして広く用いられる様になつた。従
来、この種のクライオポンプには二段の冷凍ステ
ージをもつ小型ヘリウム冷凍機が用いられるのが
通常である。第１図にそのクライオポンプの略図
を示す。この小型ヘリウム冷凍機４の一段目の冷
凍ステージ１は、ポンプ容器８内にて通常50〓〜
100〓程度の温度に冷却され、二段目の冷凍ステ
ージ２は、通常10〓〜20〓程度に冷却される。こ
の二段目の冷却ステージ２には気体凝縮のための
第２の凝縮型クライオパネル２２が取り付けら
れ、この第２の凝縮型クライオパネル２２により
主にAr，N2，O2などの気体の凝縮排気が行なわ
れる。He，Ne，H2などは10〓〜20〓の温度で
は高い飽和蒸気圧を示し、この第２の凝縮型クラ
イオパネル２２では凝縮排気が不可能である。第
２の凝縮型クライオパネル２２により凝縮排気が
不可能な気体を排気する為に、活性炭等の気体吸
着剤を貼り付けた第３の吸着型クライオパネル３
２が同じく二段目の冷凍ステージ２に取り付けら
れる。（第３の吸着型クライオパネル３２が第２
の凝縮型クライオパネル２２と一体構造をなして
二段目の冷凍ステージ２に取り付けられることも
ある。）一方、一段目の冷凍ステージ１には、二
段目の冷凍ステージ２及びそれに取り付けられた
第２及び第３のクライオパネル２２及び３２を覆
う様な形でH2O，CO2などの気体の凝縮のための
第１の凝縮型クライオパネル１１が取り付けられ
る。この第１の凝縮型クライオパネル１１の底部
１１０は、第２及び第３のクライオパネル２２及
び３２へ輻射熱の入射を防ぐための輻射熱シール
ドの役目をも為している。
なお、第２及び第３のクライオパネル２２及び
３２はともに逆コツプ型、隙間を有する円筒型の
構造をもち、前者２２が後者３２を覆う構成をと
る。後者の吸着型クライオパネル３２は、その表
面に表面積の著るしく大きい吸着剤、例えばモレ
キユラシーブ、活性炭等を保持し、吸着剤の吸着
能によつてHe，Ne，H2などの凝縮し難いガス
を吸着排気する。
３２はともに逆コツプ型、隙間を有する円筒型の
構造をもち、前者２２が後者３２を覆う構成をと
る。後者の吸着型クライオパネル３２は、その表
面に表面積の著るしく大きい吸着剤、例えばモレ
キユラシーブ、活性炭等を保持し、吸着剤の吸着
能によつてHe，Ne，H2などの凝縮し難いガス
を吸着排気する。
上記の様な構造の従来のクライオポンプにおい
ても、負荷が小さい限りでは、ほとんどすべての
装置において気体の大きな速度で排気する事が可
能である。
ても、負荷が小さい限りでは、ほとんどすべての
装置において気体の大きな速度で排気する事が可
能である。
しかしながら、最近は、クライオポンプの用途
が拡がり半導体製造装置等に広く使用されるよう
になり、たとえばスパツタリング装置の処理室
（ロード・アンロードチエンバー，クリーニング
チエンバー，スパツタリングチエンバー）の主排
気系にこの種のクライオポンプが使われるように
なりこのスパツタリング装置への利用では殊にス
パツタリング膜質に悪影響をおよぼすH2の大量
排気の必要性が増加してきた。
が拡がり半導体製造装置等に広く使用されるよう
になり、たとえばスパツタリング装置の処理室
（ロード・アンロードチエンバー，クリーニング
チエンバー，スパツタリングチエンバー）の主排
気系にこの種のクライオポンプが使われるように
なりこのスパツタリング装置への利用では殊にス
パツタリング膜質に悪影響をおよぼすH2の大量
排気の必要性が増加してきた。
従来の第１図のクライオポンプでは選択的に水
素を排気することは困難であり、特に高真空領域
における水素の排気や上述したスパツター中に生
成した水素の排気では前記した第３の吸着型クラ
イオパネルのモレキユラシーブ、活性炭等の吸着
剤へのHH2分子入射頻度が少ないことから、水
素の排気に長時間を要し、時間短縮のためには、
ポンプを大型化する必要があつた。
素を排気することは困難であり、特に高真空領域
における水素の排気や上述したスパツター中に生
成した水素の排気では前記した第３の吸着型クラ
イオパネルのモレキユラシーブ、活性炭等の吸着
剤へのHH2分子入射頻度が少ないことから、水
素の排気に長時間を要し、時間短縮のためには、
ポンプを大型化する必要があつた。
本発明はこの問題の解決を目的とする。スパツ
タリング装置では、スパツタリングでターグツト
等から大量のH2が放出されることがあり、スパ
ツタ室内のH2分圧が高くなると生成する膜の質
に重大な影響を与えるので、H2の迅速な排気を
必要とする。しかし、スパツタリングが開始され
る前の初期排気では、排気すべきH2の量は極め
て小量である。また、同じスパツタリングでも、
工程によつてはH2の放出が殆んど無視できる程
度のこともある。
タリング装置では、スパツタリングでターグツト
等から大量のH2が放出されることがあり、スパ
ツタ室内のH2分圧が高くなると生成する膜の質
に重大な影響を与えるので、H2の迅速な排気を
必要とする。しかし、スパツタリングが開始され
る前の初期排気では、排気すべきH2の量は極め
て小量である。また、同じスパツタリングでも、
工程によつてはH2の放出が殆んど無視できる程
度のこともある。
似たようなことは、第２の凝縮型クライオパネ
ル２２が担当するAr，N2，O2のガスの排気につ
いても存在する。この方では一般に、スパツタリ
ング前の初期排気で大量のN2，O2等の排気を必
要としスパツタリング開始後は排気能力のかなり
の低下が許される。
ル２２が担当するAr，N2，O2のガスの排気につ
いても存在する。この方では一般に、スパツタリ
ング前の初期排気で大量のN2，O2等の排気を必
要としスパツタリング開始後は排気能力のかなり
の低下が許される。
ところで、前述のようにヘリウム冷凍機の二段
目の冷凍ステージ２に取付けられる約10K〜20K
の温度に冷却される第２の凝縮型クライオパネル
２２は、銅などの熱良導体により作られ、N2，
O2Ar等を10〓〜20〓の温度で凝縮する。一方活
性炭等の気体吸着剤を備えた第３のクライオパネ
ル３２は、銅などの熱良導体に活性炭等の気体吸
着剤を貼り付けたもので、その低温での気体吸着
能力を利用して、10〓〜20〓の温度では比較的高
い蒸気圧を有する凝縮排気不可能のHe，H2，
Neの吸着排気を行うものであるが、一般に、気
体吸着剤ではその気体吸着量に制限があり、大量
のN2，ArO2などの気体吸着剤に吸着されると、
その本来の目的であるHe，H2，Neの排気能力
が著しく損なわれてしまう。この為、第３の吸着
型クライオパネル３２は第２の凝縮型クライオパ
ネル２２で覆われた構造となし、大部分の気体は
活性炭の面へ到達する前に少なくとも一回は第２
の凝縮型クライオパネル２２面に入射してこゝで
凝縮し、活性炭面へは第２の凝縮型クライオパネ
ル２２で凝縮排気され得ないHe，H2，Neのみ
が到達し得る様な構造上の考慮が払われている。
目の冷凍ステージ２に取付けられる約10K〜20K
の温度に冷却される第２の凝縮型クライオパネル
２２は、銅などの熱良導体により作られ、N2，
O2Ar等を10〓〜20〓の温度で凝縮する。一方活
性炭等の気体吸着剤を備えた第３のクライオパネ
ル３２は、銅などの熱良導体に活性炭等の気体吸
着剤を貼り付けたもので、その低温での気体吸着
能力を利用して、10〓〜20〓の温度では比較的高
い蒸気圧を有する凝縮排気不可能のHe，H2，
Neの吸着排気を行うものであるが、一般に、気
体吸着剤ではその気体吸着量に制限があり、大量
のN2，ArO2などの気体吸着剤に吸着されると、
その本来の目的であるHe，H2，Neの排気能力
が著しく損なわれてしまう。この為、第３の吸着
型クライオパネル３２は第２の凝縮型クライオパ
ネル２２で覆われた構造となし、大部分の気体は
活性炭の面へ到達する前に少なくとも一回は第２
の凝縮型クライオパネル２２面に入射してこゝで
凝縮し、活性炭面へは第２の凝縮型クライオパネ
ル２２で凝縮排気され得ないHe，H2，Neのみ
が到達し得る様な構造上の考慮が払われている。
しかし、このような構造のクライオポンプには
このまゝでは既に述べた様な重大な欠点があり、
即ち、スパツタリングが開始される等で多量の
H2の排気が必要になると忽ち排気能力不足に悩
まされることになる。
このまゝでは既に述べた様な重大な欠点があり、
即ち、スパツタリングが開始される等で多量の
H2の排気が必要になると忽ち排気能力不足に悩
まされることになる。
本発明はこの問題を解決するために、第２の凝
縮型クライオパネル２２に開口部を設け、かつそ
の開口率を可変にし、コンダクタンスを真空外よ
り調節できる構造にしたものである。
縮型クライオパネル２２に開口部を設け、かつそ
の開口率を可変にし、コンダクタンスを真空外よ
り調節できる構造にしたものである。
以下、実施例により、図面を参照しつゝ本発明
を詳細説明する。第２，３図は本発明の実施例の
クライオポンプであつて、スパツタリング装置の
主排気系に使用するるものを示す。第１図と同一
の部材には同一の符号を与えている。この実施例
では、第１図の２２の第２の凝縮型クライオパネ
ルは、ともに逆コツプ状で無酸素銅製の同軸に重
畳する固定パネル２２１と可動パネル２２２の二
者の組合せで構成されている。両パネルは半径方
向に若干の間隙２２０を有する。固定パネル２２
１は第２冷凍ステージ２に固定されているが、軸
心２０にて上方に軸２４を突起し、この突起軸２
４は可動パネル２２２の穴２６に遊挿されて、可
動パネル２２２は軸２４の回りに回動可動となつ
ている。
を詳細説明する。第２，３図は本発明の実施例の
クライオポンプであつて、スパツタリング装置の
主排気系に使用するるものを示す。第１図と同一
の部材には同一の符号を与えている。この実施例
では、第１図の２２の第２の凝縮型クライオパネ
ルは、ともに逆コツプ状で無酸素銅製の同軸に重
畳する固定パネル２２１と可動パネル２２２の二
者の組合せで構成されている。両パネルは半径方
向に若干の間隙２２０を有する。固定パネル２２
１は第２冷凍ステージ２に固定されているが、軸
心２０にて上方に軸２４を突起し、この突起軸２
４は可動パネル２２２の穴２６に遊挿されて、可
動パネル２２２は軸２４の回りに回動可動となつ
ている。
固定パネル２２１と可動パネル２２２の間の上
部軸方向の摺動間隙には、両者間の伝熱を充分な
ものにするための詰めもの２５が置かれている。
これには例えば広面積，薄型の無酸素銅製メツシ
ユが用いられる。
部軸方向の摺動間隙には、両者間の伝熱を充分な
ものにするための詰めもの２５が置かれている。
これには例えば広面積，薄型の無酸素銅製メツシ
ユが用いられる。
両パネル２２１と２２２のスカート部には、互
に重なる位置に、多数の開口孔２１と２３が設け
られている。パネルの温度分布の均一性を確保す
るために、開口孔の形状は橢円を採用している。
かつ開口孔の配置も回転軸に対し対象形にしてい
る。
に重なる位置に、多数の開口孔２１と２３が設け
られている。パネルの温度分布の均一性を確保す
るために、開口孔の形状は橢円を採用している。
かつ開口孔の配置も回転軸に対し対象形にしてい
る。
可動パネル２２２を回動させるアーム２７は、
熱不良導体材料で作られ、その先端部を可動パネ
ル２２２の上端の縁部の突起軸２８に遊挿し、基
部をベローズ３０の遊板３１に固定された枢軸２
９に遊挿している。このベローズ３０の遊板３１
の前進，後退は、ポンプ容器８に固定されれた枠
８１に螺合しているネジ３２′を、真空外のハン
ドル３３で回して可能となるようになつている。
従つて可動パネル２２２はハンドル３３の操作で
軸心２０の操作で軸心２０のまわりに回動させる
ことができ、そのときは開口孔２１，２３の重な
りはずれて、第３の吸着型クライオパネルから外
方を眺めたとき開口面積は縮小し、ガスのコンダ
クタンスが減少する。
熱不良導体材料で作られ、その先端部を可動パネ
ル２２２の上端の縁部の突起軸２８に遊挿し、基
部をベローズ３０の遊板３１に固定された枢軸２
９に遊挿している。このベローズ３０の遊板３１
の前進，後退は、ポンプ容器８に固定されれた枠
８１に螺合しているネジ３２′を、真空外のハン
ドル３３で回して可能となるようになつている。
従つて可動パネル２２２はハンドル３３の操作で
軸心２０の操作で軸心２０のまわりに回動させる
ことができ、そのときは開口孔２１，２３の重な
りはずれて、第３の吸着型クライオパネルから外
方を眺めたとき開口面積は縮小し、ガスのコンダ
クタンスが減少する。
上記のように構成した本発明のクライオポンプ
は、次の如く運転する。即ち、スパツタリング装
置の初期の排気工程では、開口孔２１，２３の重
なりをゼロにし、従つて開口面積を無くして、
N2，O2等が充分にパネル２２１，２２２で凝縮
し、吸着型クライオパネルには可及的に到達しな
いようにして吸着剤の吸着能力の低下を防止す
る。そしてN2O2等が充分に排気されたあとのス
パツタリング工程では、ターゲツト等から生れる
大量のH2等を排気するため、ハンドル３３の操
作で可動パネル２２２を回転し開口面積従つてガ
スのコンダクタンスを大にして、H2分子が高頻
度で第３の吸着型クライオパネルに衝突するよう
にするのである。スパツタリング工程中のコンダ
クタンスの調整はArガスとH2ガスの組成の変化
に応じて行う。このガスのコンダクタンスを変更
する運転は、上記以外でも、真空装置を利用する
用途の工程で活用され、大きい効果をあげるもの
である。
は、次の如く運転する。即ち、スパツタリング装
置の初期の排気工程では、開口孔２１，２３の重
なりをゼロにし、従つて開口面積を無くして、
N2，O2等が充分にパネル２２１，２２２で凝縮
し、吸着型クライオパネルには可及的に到達しな
いようにして吸着剤の吸着能力の低下を防止す
る。そしてN2O2等が充分に排気されたあとのス
パツタリング工程では、ターゲツト等から生れる
大量のH2等を排気するため、ハンドル３３の操
作で可動パネル２２２を回転し開口面積従つてガ
スのコンダクタンスを大にして、H2分子が高頻
度で第３の吸着型クライオパネルに衝突するよう
にするのである。スパツタリング工程中のコンダ
クタンスの調整はArガスとH2ガスの組成の変化
に応じて行う。このガスのコンダクタンスを変更
する運転は、上記以外でも、真空装置を利用する
用途の工程で活用され、大きい効果をあげるもの
である。
なお、上述の実施例にては、第２の凝縮型クラ
イオパネルを、互に重畳する相対運動可能な二つ
のパネルの組合せで構成し、二つのパネルのそれ
ぞれに、その重なり合う位置に開口孔を設け、相
対運動によつて開口面積を変化させるものを示し
たが、本発明の開口部の構成及び開口面積の変更
方法はこれに限定されない。凝縮型クライオパネ
ルには様々の形状，構成があり、本発明はそのそ
れぞれに於て、それに適した実施態様も持つもの
である。
イオパネルを、互に重畳する相対運動可能な二つ
のパネルの組合せで構成し、二つのパネルのそれ
ぞれに、その重なり合う位置に開口孔を設け、相
対運動によつて開口面積を変化させるものを示し
たが、本発明の開口部の構成及び開口面積の変更
方法はこれに限定されない。凝縮型クライオパネ
ルには様々の形状，構成があり、本発明はそのそ
れぞれに於て、それに適した実施態様も持つもの
である。
本発明のクライオポンプは上述の通りであつて
ともに20〓以下で運転される、凝縮型クライオパ
ネルとそれで覆われる吸着型クライオパネルを備
えるクライオポンプにおいて、この凝縮型クライ
オパネルに開口部を設けその開口面積を変更でき
るようにすることで、H2の排気能力を大幅に調
整できるようにしたものである。本発明の装置に
よれば、H2の発生の多い大型のスパツタリング
装置等に対しても、小さい容量のクライオポンプ
で充分に対応し、良質の処理を行うことができ、
大きい経済性を生むものである。半導体装置の製
造等において本発明のクライオポンプの寄与する
ところは甚大である。工業上有為の発明というこ
とができる。
ともに20〓以下で運転される、凝縮型クライオパ
ネルとそれで覆われる吸着型クライオパネルを備
えるクライオポンプにおいて、この凝縮型クライ
オパネルに開口部を設けその開口面積を変更でき
るようにすることで、H2の排気能力を大幅に調
整できるようにしたものである。本発明の装置に
よれば、H2の発生の多い大型のスパツタリング
装置等に対しても、小さい容量のクライオポンプ
で充分に対応し、良質の処理を行うことができ、
大きい経済性を生むものである。半導体装置の製
造等において本発明のクライオポンプの寄与する
ところは甚大である。工業上有為の発明というこ
とができる。
第１図は従来のクライオポンプの断面図。第２
図は本発明の実施例のクライオパネルの断面図。
第３図はその第２の凝縮型クライオパネルの拡大
分解図である。 １：第１段冷凍ステージ、２：第２段冷凍ステ
ージ、１１：第１の凝縮型クライオパネル、２
２，２２１＋２２２：第２の凝縮型クライオパネ
ル、３２：吸収型クライオパネル、２１，２３：
開口孔、２４：突起軸、２６：孔、２７：アー
ム、２２１：固定パネル、２２２：可動パネル、
３０：ベローズ、３３：ハンドル。
図は本発明の実施例のクライオパネルの断面図。
第３図はその第２の凝縮型クライオパネルの拡大
分解図である。 １：第１段冷凍ステージ、２：第２段冷凍ステ
ージ、１１：第１の凝縮型クライオパネル、２
２，２２１＋２２２：第２の凝縮型クライオパネ
ル、３２：吸収型クライオパネル、２１，２３：
開口孔、２４：突起軸、２６：孔、２７：アー
ム、２２１：固定パネル、２２２：可動パネル、
３０：ベローズ、３３：ハンドル。
Claims (1)
- １ ほぼ20〓以下の温度に冷却される気体凝縮の
ための凝縮型クライオパネルと、該パネルで覆わ
れかつほぼ20〓以下の温度に冷却される気体吸着
剤を備えた吸着型クライオパネルとを備えるクラ
イオポンプにおいて、該凝縮型クライオパネル
を、互いに重畳しかつ相対運動の可能な二つのパ
ネルの組合わせで構成するとともに、該二つのパ
ネルのそれぞれには、その重なり合う位置に開口
孔を設け、該相対運動によつて該開口孔の重なり
をずらせ、これによつて該開口部の開口面積が変
更されるようにしたことを特徴とするクライオポ
ンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7789784A JPS60222572A (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | クライオポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7789784A JPS60222572A (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | クライオポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60222572A JPS60222572A (ja) | 1985-11-07 |
| JPH0261629B2 true JPH0261629B2 (ja) | 1990-12-20 |
Family
ID=13646864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7789784A Granted JPS60222572A (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | クライオポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60222572A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04103885A (ja) * | 1990-08-24 | 1992-04-06 | Daikin Ind Ltd | クライオポンプにおけるクライオパネル |
| US5301511A (en) * | 1992-06-12 | 1994-04-12 | Helix Technology Corporation | Cryopump and cryopanel having frost concentrating device |
| ATE181141T1 (de) * | 1994-07-20 | 1999-06-15 | Applied Materials Inc | Vakuumkammer für ultrahochvakuumbehandlung bei hoher temperatur |
| US6361618B1 (en) | 1994-07-20 | 2002-03-26 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for forming and maintaining high vacuum environments |
| US6142742A (en) * | 1994-10-31 | 2000-11-07 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US5685963A (en) * | 1994-10-31 | 1997-11-11 | Saes Pure Gas, Inc. | In situ getter pump system and method |
| US6109880A (en) * | 1994-10-31 | 2000-08-29 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system including focus shields |
| US5972183A (en) * | 1994-10-31 | 1999-10-26 | Saes Getter S.P.A | Getter pump module and system |
| US5911560A (en) * | 1994-10-31 | 1999-06-15 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US6077404A (en) | 1998-02-17 | 2000-06-20 | Applied Material, Inc. | Reflow chamber and process |
| WO2005050018A1 (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-02 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | クライオポンプ |
| US8197222B2 (en) | 2006-07-05 | 2012-06-12 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Getter pump and vacuum coating installation comprising a getter pump |
| GB2596831A (en) | 2020-07-08 | 2022-01-12 | Edwards Vacuum Llc | Cryopump |
| GB2596832A (en) | 2020-07-08 | 2022-01-12 | Edwards Vacuum Llc | Cryopump |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178982A (ja) * | 1984-02-27 | 1985-09-12 | Toshiba Corp | クライオポンプ |
-
1984
- 1984-04-18 JP JP7789784A patent/JPS60222572A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60222572A (ja) | 1985-11-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5855118A (en) | Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same | |
| US4449373A (en) | Reduced vacuum cryopump | |
| JPS60222572A (ja) | クライオポンプ | |
| WO1997035652A9 (en) | Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same | |
| JPH04219478A (ja) | ２段式のクライオポンプ | |
| US5357760A (en) | Hybrid cryogenic vacuum pump apparatus and method of operation | |
| JPH0216377A (ja) | クライオポンプ | |
| JPH0214554B2 (ja) | ||
| US4736591A (en) | Cryopumps | |
| JP3062706B2 (ja) | 低温トラップ付クライオポンプ | |
| JP3961050B2 (ja) | 真空排気装置 | |
| JPH06346848A (ja) | クライオポンプの再生方法及び真空排気系 | |
| JPS58131381A (ja) | クライオポンプ及びクライオポンプ用冷凍機 | |
| JP4301532B2 (ja) | クライオポンプの再生方法 | |
| Visser et al. | 1.18 A versatile cryopump for industrial vacuum systems | |
| CN117167234B (zh) | 低温泵吸附阵及低温泵 | |
| JPH10213065A (ja) | 可変バッフル型クライオポンプ | |
| JPH045480A (ja) | ゲツターポンプ装置 | |
| JP2025093787A (ja) | クライオポンプ | |
| JP2656199B2 (ja) | 真空チャンバの開放方法及びｐｖｄ装置 | |
| JPH0249977A (ja) | 真空装置 | |
| JPH0451669B2 (ja) | ||
| JPH07158562A (ja) | クライオポンプ | |
| JPS62203981A (ja) | 凝縮させるべき気体をクライオポンプのクライオパネルにのみ凝縮させる方法 | |
| JPS6310310B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |