JPH05112571A - ピリミジン誘導体 - Google Patents

ピリミジン誘導体

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JPH05112571A
JPH05112571A JP26209991A JP26209991A JPH05112571A JP H05112571 A JPH05112571 A JP H05112571A JP 26209991 A JP26209991 A JP 26209991A JP 26209991 A JP26209991 A JP 26209991A JP H05112571 A JPH05112571 A JP H05112571A
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JP
Japan
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group
hydroxy
pyrimidine
pyrazolo
compound
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Pending
Application number
JP26209991A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Kiyokawa
博 清川
Satoshi Yamada
敏 山田
Keisuke Miyajima
啓介 宮嶋
Kinji Hashimoto
謹治 橋本
Masatoshi Inai
正敏 稲井
Makoto Inoue
誠 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】一般式(1) : 【化1】 〔式中、R1 は水素原子または水酸基、R2 は水素原
子、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子など、R3 は水素原子、水酸基、低級アル
キル基、C3〜8のシクロアルキル基、ハロゲン低級ア
ルキル基またはフェニル基、R4 は水素原子、低級アル
キル基または低級アルコキシ基、R5 は水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基またはハロ
ゲン低級アルキル基を示す〕で表されるピリミジン誘導
体またはその医薬的に許容される塩である。 【効果】アンドロゲンの作用発現阻害作用にすぐれ、前
立腺肥大、女性の多毛、男性型のハゲ、ニキビ等の治療
効果にすぐれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アンドロゲンの作用発
現を阻害する新規なピリミジン誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】アン
ドロゲン(男性ホルモン)は、主として成人男性の精巣
で合成されるものであり、生殖器官と副生殖器(前立
腺、精嚢腺)の機能維持、精子形成等の作用を有してい
る。これらアンドロゲンとエストロゲン(女性ホルモ
ン)との均衡が崩れ、アンドロゲンの作用が昂進する
と、前立腺の肥大、女性の多毛、男性型のハゲまたはニ
キビが起こることが知られている。前立腺の肥大は60
歳以上の男性の約30%にみられ、その半数に排尿困難
等の前立腺肥大症の症状がみられる。
【0003】上記アンドロゲンとしては、テストステロ
ン、アンドロステンジオン、デヒドロエピアンドロステ
ロン等が知られている。また、成人男性の精巣で合成さ
れるアンドロゲンの85%がテストステロンであること
も知られている。上記テストステロンは、前立腺の細胞
内においては、5α−レダクターゼにより5α−ジヒド
ロテストステロン(5α−DHT)になった後、受容体
と結合して核内に入り、遺伝子を活性化して、上記作用
を発現する。
【0004】これらのアンドロゲンの作用発現を阻害す
る物質としては、酢酸クロルマジノン、フルタミド、ヒ
ドロキシフルタミド等が知られている。しかしながら、
これらの化合物によるアンドロゲンの活性阻害作用は充
分に満足しうるものではなく、そのため前立腺肥大、女
性の多毛、男性型のハゲまたはニキビ等の治療効果が充
分でなかった。
【0005】従って、本発明は、アンドロゲンの作用発
現阻害作用にすぐれ、前立腺肥大、女性の多毛、男性型
のハゲまたはニキビ等の治療効果にすぐれた新規化合物
を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段および作用】本発明者等
は、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、下記
一般式(1)で表されるピリミジン誘導体およびその医薬
的に許容される塩がアンドロゲンの作用発現を阻害する
効果にすぐれているという新たな知見を得て、本発明を
完成するに至った。
【0007】
【化2】
【0008】〔式中、R1 は水素原子または水酸基を示
し、R2 は水素原子、低級アルコキシカルボニル基、低
級アルコキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、炭素
数が3〜8のシクロアルキル基、低級アルコキシカルボ
ニル低級アルキル基、カルボキシル基、カルボキシ低級
アルキル基、基:−CONHR6 (R6 は水素原子、ハ
ロゲン原子を有することのあるフェニル基または低級ア
ルキル基を示す)、シアノ基、置換基として水酸基、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基および
フェニルチオ基からなる群より選ばれる基を有すること
のあるフェニル基、フェニル環上に置換基として水酸基
および低級アルコキシ基からなる群より選ばれる基を有
することのあるフェニル低級アルキル基、低級アルカノ
イルオキシ低級アルキル基、ベンゾイル基、ハロゲン原
子を有することのある低級アルカノイル基または置換基
としてフェニル基およびハロゲン原子からなる群より選
ばれる基を有することのあるヒドロキシ低級アルキル基
を示し、R3 は水素原子、水酸基、低級アルキル基、炭
素数が3〜8のシクロアルキル基、ハロゲン低級アルキ
ル基またはフェニル基を示し、R4 は水素原子、低級ア
ルキル基または低級アルコキシ基を示し、R5 は水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基ま
たはハロゲン低級アルキル基を示す。ただし、R2 およ
びR3 は共に結合して炭素数3〜5の低級アルキレン基
を形成してもよい。〕かかる本発明のピリミジン誘導体
(1) およびその医薬的に許容される塩は、文献未記載の
新規化合物であり、細胞内の受容体と5α−DHTとの
結合、細胞内の受容体とミボレロンとの結合等について
高い阻害活性を有している。
【0009】したがって、本発明のピリミジン誘導体
(1) およびその医薬的に許容される塩は、アンドロゲン
の作用発現を阻害することができ、アンドロゲンの作用
昂進により起こる前立腺肥大、女性の多毛、男性型のハ
ゲまたはニキビ等の治療に優れた効果を示す。上記一般
式(1) における低級アルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、ブチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数が1 〜6
のアルキル基があげられる。
【0010】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシ
カルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等のアルコキ
シ部分の炭素数が1〜6のアルコキシカルボニル基があ
げられる。
【0011】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基
等の炭素数が1〜6のアルコキシ基があげられる。ハロ
ゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素があげ
られる。炭素数が3〜8のシクロアルキル基としては、
例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘキシル、シクロオクチル
等があげられる。
【0012】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
としては、例えばメトキシカルボニルメチル、メトキシ
カルボニルエチル、エトキシカルボニルメチル、エトキ
シカルボニルエチル、プロポキシカルボニルメチル、プ
ロポキシカルボニルエチル、イソプロポキシカルボニル
メチル、ブトキシカルボニルメチル、t−ブトキシカル
ボニルメチル、ペンチルオキシカルボニルメチル、ヘキ
シルオキシカルボニルメチル、1−エチル−2−メトキ
シカルボニルブチル、ヘキシルオキシカルボニルヘキシ
ル等のアルコキシ部分の炭素数が1〜6でかつアルキル
部分の炭素数が1〜6のアルコキシカルボニルアルキル
基があげられる。
【0013】カルボキシ低級アルキル基としては、例え
ばカルボキシメチル、カルボキシエチル、3−カルボキ
シプロピル、1−メチル−2−カルボキシエチル、4−
カルボキシブチル、1,1−ジメチル−2−カルボキシ
エチル、5−カルボキシペンチル、6−カルボキシヘキ
シル等の、アルキル部分の炭素数が1〜6のカルボキシ
低級アルキル基があげられる。
【0014】ハロゲン原子を有することのあるフェニル
基としては、例えば2−クロロフェニル、3−クロロフ
ェニル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェニル、3
−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、2−ヨードフ
ェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、2
−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2,4−
ジクロロフェニル、2,3−ジクロロフェニル、3,5
−ジクロロフェニル、2,6−ジクロロフェニル、2,
4−ジブロモフェニル、2,3−ジブロモフェニル、
3,5−ジブロモフェニル、2,4−ジヨードフェニ
ル、3,5−ジヨードフェニル、2,4−ジフルオロフ
ェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,3,4−ト
リクロロフェニル、3,4,5−トリクロロフェニル、
2,3,4−トリブロモフェニル、3,4,5−トリブ
ロモフェニル、2,3,4−トリヨードフェニル、3,
4,5−トリヨードフェニル、2,3,4−トリフルオ
ロフェニル、3,4,5−トリフルオロフェニルなど
の、1〜3個のハロゲン原子を有することのあるフェニ
ル基があげられる。
【0015】置換基として水酸基、ハロゲン原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基およびフェニルチオ基か
らなる群より選ばれる基を有することのあるフェニル基
としては、例えばフェニル;2−ヒドロキシフェニル、
3−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、
3,4−ジヒドロキシフェニル、3,4,5−トリヒド
ロキシフェニル;2−フルオロフェニル、3−フルオロ
フェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニ
ル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−ブ
ロモフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニ
ル、2−ヨードフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨ
ードフェニル、2,4−ジクロロフェニル、3,5−ジ
クロロフェニル、2−ブロモ−4−クロロフェニル、
3,4,5−トリクロロフェニル;o−トリル、m−ト
リル、p−トリル、2−エチルフェニル、3−エチルフ
ェニル、4−エチルフェニル、2−プロピルフェニル、
3−プロピルフェニル、4−プロピルフェニル、2−ブ
チルフェニル、3−ブチルフェニル、4−ブチルフェニ
ル、4−t−ブチルフェニル、2−ペンチルフェニル、
3−ペンチルフェニル、4−ペンチルフェニル、2−ヘ
キシルフェニル、3−ヘキシルフェニル、4−ヘキシル
フェニル、2,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチ
ルフェニル、2,4−ジブチルフェニル、3,5−ジブ
チルフェニル、3,4,5−トリメチルフェニル、2,
3,4−トリメチルフェニル;2−メトキシフェニル、
3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−エ
トキシフェニル、3−エトキシフェニル、3−t−ブト
キシフェニル、4−エトキシフェニル、4−ヘキシルオ
キシフェニル、2,3−ジプロポキシフェニル、3−ク
ロロ−4−エチルフェニル;2−ヒドロキシ−3−ペン
チルフェニル、3−メチル−4−ブロモ−5−メトキシ
フェニル;フェニルチオフェニルなどの、水酸基、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6の
アルコキシ基およびフェニルチオ基からなる群より選ば
れる1〜4個の置換基を有することのあるフェニル基が
あげられる。
【0016】フェニル環上に置換基として水酸基および
低級アルコキシ基からなる群より選ばれる基を有するこ
とのあるフェニル低級アルキル基としては、例えばベン
ジル、α−メチルベンジル、フェネチル、トリチル、3
−フェニルプロピル、フェニルヘキシル;2−ヒドロキ
シフェニルメチル、3−ヒドロキシフェニルメチル、4
−ヒドロキシフェニルメチル、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチル、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチ
ル、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル、3−(4
−ヒドロキシフェニル)ヘキシル、3−(3,4−ジヒ
ドロキシフェニル)プロピル;2−メトキシフェニルメ
チル、3−メトキシフェニルメチル、4−メトキシフェ
ニルメチル、4−エトキシフェニルメチル、3−プロポ
キシフェニルブチル、2−ブトキシフェニルヘキシル、
4−ヘキシルオキシフェニルプロピル、2,4−ジブト
キシフェニルプロピル、3,5−ジメトキシフェニルメ
チル、3,5−ジエトキシフェニルブチル、2,3,4
−トリメトキシフェニルメチルなどの、フェニル環上に
置換基として水酸基および炭素数1〜6のアルコキシ基
からなる群より選ばれる1〜3個の基を有することのあ
る、アルキル部分の炭素数が1〜6であるフェニル低級
アルキル基があげられる。
【0017】低級アルカノイルオキシ低級アルキル基と
しては、例えばアセトキシメチル、2−アセトキシエチ
ル、プロピオニルオキシメチル、2−プロピオニルオキ
シエチル、1−ヘキサノイルオキシ−2−メチルペンチ
ルなどの炭素数2〜6の低級アルカノイル部分と炭素数
1〜6の低級アルキル部分とを有する基があげられる。
【0018】ヒドロキシ低級アルキル基としては、例え
ばヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1,1−
ジメチル−2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロ
ピル、4−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチル、
5−ヒドロキシペンチル、1−ヒドロキシペンチル、6
−ヒドロキシヘキシルなどの、炭素数1〜6の低級アル
キル部分を有する基があげられる。
【0019】ハロゲン低級アルキル基としては、例えば
モノクロルメチル基、モノブロモメチル、モノヨードメ
チル、モノフルオロメチル、ジクロルメチル、ジブロモ
メチル、ジヨードメチル、ジフルオロメチル、トリクロ
ルメチル、トリブロモメチル、トリヨードメチル、トリ
フルオロメチル、モノクロルエチル、モノブロモエチ
ル、モノフルオロエチル、ジクロルブチル、ジブロモブ
チル、ジヨードブチル、ジフルオロブチル、クロルヘキ
シル、ブロモヘキシル、ヨードヘキシル、フルオロヘキ
シルなどの、1〜3個のハロゲン原子が置換した炭素数
1〜6のアルキル基があげられる。
【0020】低級アルコキシ低級アルキル基としては、
例えばメトキシメチル、メトキシエチル、メトキシブチ
ル、メトキシヘキシル、エトキシメチル、プロポキシエ
チル、イソプロポキシメチル、メトキシプロピル、ブト
キシエチル、t−ブトキシヘキシル、ペンチルオキシエ
チル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシプロピル
などの、アルコキシ部分およびアルキル部分の炭素数が
いずれも1〜6である低級アルコキシ低級アルキル基が
あげられる。
【0021】ハロゲン原子を有することのある低級アル
カノイル基としては、例えばアセトキシ、プロピオニ
ル、ブチリル、ヘキサノイル、モノクロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、ブロモアセチ
ル、ジブロモアセチル、トリブロモアセチル、モノヨー
ドアセチル、トリヨードアセチル、モノフルオロアセチ
ル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチル、3−
クロロプロピオニル,2,3−ジクロロプロピオニル、
3,3,3−トリクロロプロピオニル、4−クロロブチ
リル、4−クロロペンタノイル、6−クロロヘキサノイ
ル、3−フルオロプロピオニル、4−フルオロブチリル
等の、1〜3個のハロゲン原子を有することのある炭素
数2〜6のアルカノイル基があげられる。
【0022】置換基としてフェニル基およびハロゲン原
子からなる群より選ばれる基を有することのあるヒドロ
キシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチル、2
−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル、3−ヒドロキ
シプロピル、3−ヒドロキシ−2−メチルプロピル、1
−ヒドロキシブチル、3−ヒドロキシブチル、4−ヒド
ロキシブチル、3−ヒドロキシペンチル、5−ヒドロキ
シペンチル、1−ヒドロキシヘキシル、3−ヒドロキシ
ヘキシル、5−ヒドロキシヘキシル、6−ヒドロキシヘ
キシル;α−ヒドロキシベンジル、2−フェニル−2−
ヒドロキシエチル、2,2−ジフェニル−1−ヒドロキ
シエチル、2,2,2−トリフェニル−1−ヒドロキシ
エチル、3−フェニル−1−ヒドロキシプロピル、3,
3−ジフェニル−2−ヒドロキシプロピル、4−フェニ
ル−2−ヒドロキシペンチル、5−フェニル−5−ヒド
ロキシペンチル、6,6,6−トリフェニル−1−ヒド
ロキシヘキシル、1−フェニル−6−ヒドロキシヘキシ
ル;1−ヒドロキシ−2−クロロエチル、1−クロロ−
2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシ−2−クロロエ
チル、1−ヒドロキシ−2,2−ジクロロエチル、1−
ヒドロキシ−2,2,2−トリクロロエチル、1−ヒド
ロキシ−2−ブロモエチル、1−ブロモ−2−ヒドロキ
シエチル、1−ヒドロキシ−2,2−ジブロモエチル、
1−ヒドロキシ−2,2,2−トリブロモエチル、2−
ヒドロキシ−2−ヨードエチル、1−ヒドロキシ−2,
2−ジヨードエチル、1−ヒドロキシメチル−2,2,
2−トリヨードエチル、1−フルオロ−2−ヒドロキシ
エチル、1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエ
チル、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル、2−ヒド
ロキシ−3,3−ジクロロプロピル、1−クロロ−3−
ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシ−2,3−ジブロ
モプロピル、2,2−ジブロモ−3−ヒドロキシプロピ
ル、2−ヨード−3−ヒドロキシプロピル、1−フルオ
ロ−3−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシ−3,
3,3−トリフルオロプロピル、2−ヒドロキシメチル
−3,3,3−トリフルオロプロピル、2−クロロ−2
−メチル−3−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシ−
4−クロロブチル、2−ヒドロキシ−4−ブロモブチ
ル、2−ヒドロキシ−3,4−ジクロロブチル、2−ヒ
ドロキシ−4,4−ジフルオロペンチル、4−ヒドロキ
シ−5−クロロペンチル、3−ヒドロキシ−4−ブロモ
ペンチル、2−ヒドロキシ−5−ヨードペンチル、4−
ヒドロキシ−6−クロロヘキシル、3−ヒドロキシ−
4,4−ジクロロヘキシル、3,4−ジクロロ−6−ヒ
ドロキシヘキシル、3−ヒドロキシ−6−フルオロヘキ
シル、5,5−ジフルオロ−6−ヒドロキシヘキシル、
1−ヒドロキシ−2−クロロ−3−フェニルプロピル、
1−ヒドロキシ−3−フェニル−4−ブロモブチル等
の、1〜3個のフェニル基またはハロゲン原子を有する
ことのある、アルキル部分の炭素数が1〜6の基があげ
られる。
【0023】前記一般式(1) で表される化合物には、例
えば以下の化合物が包含される。 3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、5
−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラ
ゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−エトキシカルボニ
ル−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,
5−a]ピリミジン、6−エトキシカルボニル−7−ヒ
ドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−メトキシ−7−ヒドロ
キシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−フルオロ−7−ヒドロ
キシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−クロロ−5−エチル−
7−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−フェニル−7−
ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ロ[1,5−a]ピリミジン、6−メチル−7−ヒドロ
キシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−シクロヘキシル−7−
ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ロ[1,5−a]ピリミジン、6−フェネチル−7−ヒ
ドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−ベンジル−7−ヒドロ
キシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−(2−メトキシフェニ
ルメチル)−7−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−
(3,5−ジメトキシフェニルメチル)−7−ヒドロキ
シ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,
5−a]ピリミジン、6−エトキシカルボニルメチル−
7−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−エトキシカルボ
ニルプロピル−7−ヒドロキシ−3−(3−メトキシ−
4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピ
リミジン、6−カルボキシ−7−ヒドロキシ−3−(3
−メトキシ−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−カルボキシエチル−7
−ヒドロキシ−3−(3−メトキシ−4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−カ
ルボキシ−7−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフ
ェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−カル
バモイル−7−ヒドロキシ−2−メチル−3−(4−フ
ェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
ン、6−(N−フェニルカルバモイル)−7−ヒドロキ
シ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,
5−a]ピリミジン、6−(N−3,4,5−トリクロ
ロフェニル)カルバモイル−7−ヒドロキシ−3−(4
−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリ
ミジン、6−(N−エチル)カルバモイル−7−ヒドロ
キシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、6−シアノ−7−ヒドロキ
シ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,
5−a]ピリミジン、6−エトキシカルボニル−5−ヒ
ドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、5,7−ジヒドロキシ−3
−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン、6−メトキシカルボニル−3−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン、5−ヒドロキシ−6−メトキシカルボニル−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン、5−イソプロピル−6−イソプロポキシカ
ルボニル−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、5−ヒドロキシ−6−ヘキ
シルオキシカルボニル−3−(4−フェニルチオフェニ
ル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキ
シ−5−シクロヘキシル−3−(4−フェニルチオフェ
ニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、6−ヘキシ
ルオキシカルボニル−3−(4−フェニルチオフェニ
ル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキ
シ−3−(3−メトキシ−4−フェニルチオフェニル)
ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−
6−エトキシカルボニル−3−(3−メトキシ−4−フ
ェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
ン、7−ヒドロキシ−3−(3,5−ジメトキシ−4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン、3−(2−エトキシ−4−フェニルチオフェニ
ル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキ
シ−2−メチル−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−6
−エトキシカルボニル−2−メチル−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、
7−ヒドロキシ−2−メトキシメチル−3−(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
ン、7−ヒドロキシ−2−トリフルオロメチル−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン、5−メチル−2−エトキシメチル−3−
(3−メトキシ−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−6−エト
キシカルボニル−2−メトキシメチル−3−(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
ン、7−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−2−ト
リフルオロメチル−3−(4−フェニルチオフェニル)
ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、5,7−ジヒドロ
キシ−6−エトキシカルボニル−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、5,
7−ジヒドロキシ−6−ブトキシカルボニル−3−(4
−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリ
ミジン、5,7−ジヒドロキシ−6−t−ブトキシカル
ボニル−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、5,7−ジヒドロキシ−6
−ヘキシルオキシカルボニル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒ
ドロキシ−5−メチル−3−(4−フェニルチオフェニ
ル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキ
シ−5−シクロプロピル−3−(4−フェニルチオフェ
ニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロ
キシ−5−クロルメチル−3−(4−フェニルチオフェ
ニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロ
キシ−5−フェニル−3−(4−フェニルチオフェニ
ル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、5H−6,7
−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオ
フェニル)−シクロペンタ〔d〕ピラゾロ〔1,5−
a〕ピリミジン、5−エチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒ
ドロキシ−5−トリフルオロメチル−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、
5−メチル−6−エトキシカルボニル−3−(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
ン、6−アセチル−7−ヒドロキシ−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、
6−ベンゾイル−7−ヒドロキシ−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7
−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)−6
−トリフルオロアセチルピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン、7−ヒドロキシ−6−(1−ヒドロキシエチル)
−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−6−(α−ヒドロ
キシベンジル)−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−6
−(1−ヒドロキシ−2,2,2−トリフルオロエチ
ル)−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン、7−ヒドロキシ−6−(3
−ブロモ−4−メトキシフェニル)−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン、 上記一般式(1) で表される本発明化合物は、種々の方法
により製造することができ、例えば下記反応工程式−1
〜18に示される方法により製造することができる。 反応工程式−1
【0024】
【化3】
【0025】(式中、R21は低級アルコキシカルボニル
基を示し、R8 、R9 およびR14は同一または異なって
低級アルキル基を示し、R7 は水素原子または低級アル
キル基を示し、R1 、R3 、R4 およびR5 は前記と同
じである。)上記反応は、式(2) で表される化合物と一
般式(3) で表される化合物とを無溶媒または適当な溶媒
中、酸の存在下で反応させ、一般式(1-a) で表される本
発明化合物を得るものである。
【0026】上記溶媒としては、例えばピリジン、クロ
ロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、N,N−
ジメチルホルムアルデヒド(DMF)、ジメチルスルホ
キシド(DMSO)、アセトニトリル等の非プロトン性
極性溶媒があげられる。また、上記酸としては、例えば
無水塩化アルミニウム、塩化第2スズ、四塩化チタン、
三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素−エチルエーテル錯体、
塩化亜鉛等のルイス酸、リン酸、塩酸、硝酸、硫酸等の
無機酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンス
ルホン酸、酢酸等の有機酸があげられる。
【0027】上記化合物(2) に対する化合物(3) の使用
割合は、少なくとも等モル、好ましくは、1〜1.5倍
モル量とするのがよい。また、化合物(2) に対する酸の
使用割合は、1〜50倍モル量、好ましくは1〜20倍
モル量とするのがよい。反応は、通常50〜150℃、
好ましくは80〜120℃にて行われ、1〜6時間程度
で終了する。
【0028】また、上記反応においては、一般式(1-a)
で表される化合物として、R1 が水素原子であり、R3
が水酸基である化合物と、R1 が水酸基であり、R3
水素原子である化合物とが同時に得られる。これらの分
離は、従来公知の種々の方法により行うことができ、例
えばそれぞれのアルコール等の溶媒に対する溶解度の違
いを利用して行うことができる。 反応工程式−2
【0029】
【化4】
【0030】(式中、R31は低級アルキル基を示し、R
4 、R5 、R8 およびR9 は前記と同じである。)上記
反応は、式(2) で表される化合物と一般式(4) で表され
る化合物とを無溶媒または適当な溶媒中、酸の存在下で
反応させ、一般式(1-b) で表される本発明化合物を得る
ものである。
【0031】この反応に用いられる溶媒および酸として
は、前記反応工程式−1で示したものをあげることがで
きる。上記化合物(2) に対する化合物(4) の使用割合
は、少なくとも等モル、好ましくは1〜1.5倍モル量
とするのがよい。また、上記化合物(2) に対する酸の使
用割合は、1〜100倍モル量、好ましくは1〜50倍
モル量とするのがよい。反応は、通常50〜150℃、
好ましくは80〜120℃にて行われ、1〜5時間程度
で終了する。 反応工程式−3
【0032】
【化5】
【0033】( 式中、R4 およびR5 は前記と同じであ
る。)この反応は、上記式(5) で表される化合物から、
無溶媒または適当な溶媒中で塩基の存在下、式(2) で表
される化合物を得るものである。この反応に用いられる
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等の無機
塩基があげられる。
【0034】また、溶媒としては、反応に影響を及ぼさ
ないものであれば、いずれも使用することができ、例え
ばメタノール、エタノール等の低級アルコール、低級ア
ルコールと水との混合溶媒等があげられる。上記混合溶
媒を用いる場合、低級アルコールと水との混合割合は、
1:1〜10:1程度の範囲とすればよい。化合物(5)
に対する塩基性化合物の使用割合は、1〜50倍モル
量、好ましくは1〜20倍モル量とするのがよい。ま
た、反応温度は室温〜100℃、好ましくは30〜10
0℃とするのがよい。反応時間は、10分〜2時間程度
である。 反応工程式−4
【0035】
【化6】
【0036】( 式中、R4 およびR5 は前記と同じであ
る。)この反応は、式(6) で表される化合物に、氷冷
下、セミカルバジド・鉱酸塩を少なくとも等モル量、好
ましくは1〜1.2倍モル量程度滴下し、つづいて室温
下で約4〜15時間反応させて、式(5) で表される化合
物を得るものである。この反応に使用される溶媒として
は、反応に影響を及ぼさないものであれば、いずれも使
用することができ、例えばメタノール、エタノール等の
低級アルコール、低級アルコールと水との混合溶媒等が
あげられる。上記混合溶媒を用いる場合、低級アルコー
ルと水との混合割合は、1:1〜10:1程度の範囲と
すればよい。 反応工程式−5
【0037】
【化7】
【0038】( 式中、R10は低級アルキル基を示し、R
4 およびR5 は前記と同じである。)この反応は、式
(7) で表されるアセトニトリル誘導体と特定のエステル
とを反応させ、式(6) の化合物を得るものである。上記
エステルとしてギ酸エステルを用いると、基R5 は水素
原子となる。ギ酸エステルとしては、ギ酸メチル、ギ酸
エチル等を例示することができる。
【0039】この反応は、不活性溶媒中で行われるもの
である。この不活性溶媒としては、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等を例示することができる。化合物(7) に対するエステ
ルの使用割合は、少なくとも等モル量であればよいが、
1.05〜1.25倍モル量であることが好ましい。ま
た、反応は、通常氷冷下で約5〜20分間、次いで室温
下で約4〜15時間行わせるのが好ましい。反応を十分
に進行させるために、ナトリウムメトキシド等のナトリ
ウムアルコキシド、水素化ナトリウム等の金属水素化物
を、エステルに対して、少なくとも等モル量程度存在さ
せておくことが好ましい。
【0040】反応生成物(6) は、反応液に水を加えて水
層を分取し、塩酸等の鉱酸により水層のpHを3〜4に
調整して析出させる。 反応工程式−6
【0041】
【化8】
【0042】( 式中、Xはハロゲン原子を示し、R11
低級アルキル基を示し、R4 は前記と同じである。)こ
の反応は、一般式(8) で表される化合物を水素化還元剤
を用いて還元することにより、式(9) で表される化合物
を得、次いでこの式(9) で表される化合物をハロゲン化
剤と反応させることにより、一般式(10)で表される化合
物を得、さらにこの化合物(10)にシアン化合物を反応さ
せることにより、反応工程式−5の出発材料である化合
物(7) を得るものである。
【0043】化合物(8) から化合物(9) を得る反応は、
適当な溶媒中で行われる。上記溶媒としては、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライ
ム等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化
水素;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素等があげ
られる。また、この反応に用いられる水素化還元剤とし
ては、水素化リチウムアルミニウム、水素化アルミニウ
ム、水素化ジイソプロピルアルミニウム、水素化ホウ素
リチウム、水素化ホウ素ナトリウム−塩化アルミニウ
ム、ジボラン等があげられる。化合物(8) に対する水素
化還元剤の使用量は、少なくとも0.5倍モル量、好ま
しくは0.6〜1.2倍モル量程度が適当である。反応
は、通常、氷冷下〜100℃、好ましくは0〜50℃程
度で行われ、約30分〜10時間で終了する。
【0044】化合物(9) から化合物(10)を得る反応は、
無溶媒または適当な溶媒中で行われる。この反応で用い
られる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素があげられる。
また、この反応に用いられるハロゲン化剤としては、例
えば塩化チオニル、臭化チオニル等のハロゲン化チオニ
ル、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等のハロゲン化水
素、三塩化リン、三臭化リン等のハロゲン化リンがあげ
られる。化合物(9) に対するハロゲン化剤の使用量は、
少なくとも等モル量、好ましくは1〜1.3倍モル量で
ある。反応は、氷冷下〜100℃、好ましくは0〜50
℃程度で行われ、約30分〜5時間で終了する。
【0045】化合物(10)から化合物(7) を得る反応は、
適当な溶媒中で行われる。この反応で用いられる溶媒と
しては、メタノール、エタノール、プロパノール等の低
級アルコール、アセトン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド(HMPA)等の非プロト
ン性極性溶媒、およびこれらと水との混合溶媒等があげ
られる。また、この反応に用いられるシアン化合物とし
ては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン
化銀、シアン化銅、シアン化カルシウム等があげられ
る。化合物(10)に対するシアン化剤の使用量は、少なく
とも等モル量、好ましくは1〜1.3倍モル量である。
反応は、室温〜150℃、好ましくは室温〜100℃程
度で行われ、約1〜24時間で終了する。 反応工程式−7
【0046】
【化9】
【0047】( 式中、R11およびR4 は前記と同じであ
る。)この反応は、一般式(11)で表される化合物を通常
のエステル化反応に付すことにより、上記反応工程式-
6 の出発原料である一般式(8) で表される化合物を得る
ものである。上記のエステル化反応は、例えば触媒の存
在下で化合物(11)に一般式: R11−OH (式中、R11は前記と同じである。)で表されるアルコ
ール類を反応させることにより行なわれる。使用される
触媒としては、エステル化反応に慣用の触媒が用いら
れ、具体的には塩化水素、濃硫酸、リン酸、ポリリン
酸、三フッ化ホウ素、過塩素酸等の無機酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリクロロメタンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、エタンスルホン酸等の有機酸、トリクロロメタンス
ルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物
等の酸無水物、塩化チオニル等の触媒があげられる。ま
た、カチオン交換樹脂(酸型)も使用できる。上記のエ
ステル化反応は、無溶媒または適当な溶媒の存在下に行
なわれる。使用される溶媒としては、エステル化反応に
慣用の溶媒のいずれも使用でき、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類などが挙げられる。化合物(11)に
対する酸の使用割合は、等モル〜100倍モル量、好ま
しくは10〜30倍モル量とするのがよい。また、反応
温度は−20℃〜200℃、好ましくは0〜150℃で
行なうのがよい。
【0048】また、化合物(8) は、化合物(11)のアルカ
リ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩等)に、一
般式: R11−X (式中、R11およびXは前記同じ)で表されるハライド
化合物を反応させる方法、化合物(11)に、ジアゾメタ
ン、ジアゾエタン、ジアゾプロパン等のジアゾアルカン
類を反応させる方法、化合物(11)のカルボキシ基を反応
性基( 酸塩化物、アミドまたは無水物) に変換した後、
一般式: R11−OH (式中、R11は前記と同じ)で表されるアルコール類を
反応させる方法等によっても得ることができる。これら
のエステル化反応は慣用の方法に準じて行うことができ
る。 反応工程式−8
【0049】
【化10】
【0050】( 式中、XおよびR4 は前記と同じであ
る。)この反応は、一般式(12)で表される安息香酸誘導
体と、一般式(27)で表されるフェニルチオ誘導体とを反
応させて、上記反応工程式−7の出発原料である一般式
(11)で表される化合物を得るものである。この反応は、
適当な溶媒中にて水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
の塩基の存在下で行われる。使用される溶媒としては、
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド(DMS
O)、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)等の
非プロトン性極性溶媒が例示できる。
【0051】化合物(12)に対する化合物(27)の使用割合
は、少なくとも等モル量、好ましくは、少し過剰に用い
るのがよい。また、塩基性化合物は、化合物(12)および
化合物(27)の塩を形成させるため、化合物(12)に対し
て、少なくとも2倍モル量、好ましくは少し過剰に用い
るのがよい。反応は、通常、室温〜180℃にて行わ
れ、30分〜24時間程度で終了する。 反応工程式−9
【0052】
【化11】
【0053】( 式中、R1 、R3 、R4、R5 およびR
21は前記と同じである。)この反応は、上記反応工程式
−1で得た化合物(1-a) から、基R21で表される低級ア
ルコキシカルボニル基を脱離させて、一般式(1-c)で表
される化合物を得るものである。反応は、無溶媒または
適当な溶媒中にて酸の存在下で行われる。溶媒として
は、この反応に悪影響を与えない溶媒であれば、いずれ
の溶媒も使用でき、例えば、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエ
チルアミン等のアミン類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミド(DMF)、
ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)、ジメチル
スルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒、
二硫化炭素、水等があげられる。
【0054】使用される酸としては、上記反応工程式−
1で示したものがあげられる。化合物(1-a) に対する酸
または塩基の使用割合は、1〜200倍モル量、好まし
くは1〜100倍モル量とするのがよい。また、反応は
室温〜200℃、好ましくは50〜200℃の温度条件
下で、5分〜5時間、好ましくは10分〜3時間程度行
なえばよい。 反応工程式−10
【0055】
【化12】
【0056】( 式中、R1 、R3 、R4、R5 およびR
11は前記と同じである。)この反応は、一般式(13)で表
される化合物を加水分解して一般式(14)で表される化合
物を得るものである。反応は適当な不活性溶媒中にて塩
基性化合物または酸性化合物の存在下で行われる。不活
性溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル類等
があげられる。上記塩基性化合物としては、例えばトリ
エチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミ
ン、ピリジン、ピコリン、1,5−ジアザビシクロ
〔4.3.0〕ノネン−5、1,4−ジアザビシクロ
〔2.2.2〕オクタン、1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデセン−7などの有機塩基、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭
酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアル
カリ金属炭酸水素塩等の無機塩基があげられる。酸性化
合物としては、例えば無水塩化アルミニウム、塩化第2
スズ、四塩化チタン、三塩化硼素等のルイス酸、塩酸、
臭化水素酸、硝酸、硫酸等の無機酸、トリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、酢酸、ギ酸等の
有機酸、さらに酸型イオン交換樹脂等があげられる。
【0057】これらの塩基性化合物または酸性化合物は
化合物(13)に対して、1 〜100 倍モル量、好ましくは1
〜20倍モル量の割合で使用するのが適当である。反応は
−20〜100℃、好ましくは−10〜80℃の温度条
件下で約30分〜48時間、好ましくは1〜24時間程
度行えばよい。また、接触還元法による脱エステル化反
応を使用してもよい。 反応工程式−11
【0058】
【化13】
【0059】( 式中、R1 、R3 、R4およびR5 は前
記と同じである。)上記反応工程式−10で得た一般式
(14)で表される化合物から脱炭酸にて一般式(15)で表さ
れる化合物を得るものである。反応は、無溶媒または適
当な溶媒中にて化合物(14)を塩基性化合物の存在下で行
われる。また、反応は必要に応じて封管中で行ってもよ
い。塩基性化合物としては、例えばアニリン、N,N−
ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メ
チルアニリン、N−エチルアニリン、ピリジン、α−ピ
コリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、2,3−ルチジ
ン、2,4−ルチジン、2,5−ルチジン、2,6−ル
チジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、トリエ
チルアミン、ジエチルアミン、エチルアミン、メチルア
ミン、アンモニアなどがあげらる。
【0060】反応は、0〜150℃、好ましくは30〜
100℃の温度条件下で約10分〜12時間、好ましく
は約30分〜6時間行えばよい。 反応工程式−12
【0061】
【化14】
【0062】( 式中、R1 、R3 、R4 、R5 、R6
よびR11は前記と同じである。)一般式(13)で表される
化合物にアミン化合物R6 NH2 を反応させて一般式(1
6)で表される化合物を得るものである。反応は、無溶媒
または適当な溶媒中にて行われる。アミン化合物とし
て、例えばアニリンを用いるときはR6 がN-フェニルカ
ルバモイル基である化合物(16)が得られる。上記アミン
化合物は化合物(13)に対して等モル量〜100倍モル
量、好ましくは10〜50倍モル量の割合で使用され
る。
【0063】反応は、0〜200℃、好ましくは100
〜180℃の温度条件下で約10分〜5時間、好ましく
は約30分〜3時間行えばよい。 反応工程式−13
【0064】
【化15】
【0065】( 式中、R1 、R3 、R4、R5 およびR
6 は前記と同じである。)この反応は、一般式(14)で表
される化合物のカルボキシル基をチオニルクロライドに
てクロロホルミル基に変換し、ついでアミン化合物R6
NH2 を反応させて、基:R6 NHCO−を有する一般
式(17)で表される化合物を得るものである。反応は、無
溶媒または適当な溶媒中にて行われる。
【0066】チオニルクロライドの使用量は、化合物(1
4)に対して等モル量〜100倍モル量、好ましくは2〜
10倍モル量の割合で使用される。反応は、−10〜1
00℃、好ましくは−5〜25℃の温度条件下で約5分
〜10時間、好ましくは約10分〜3時間行えばよい。
なお、チオニルクロライドに代えて三塩化リン、五塩化
リン等を用いてもよい。
【0067】カルボキシル基をクロロホルミル化した生
成物に対する上記アミン化合物の使用量は等モル量〜5
0倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量の割合でよい。
反応は、−10〜100℃、好ましくは−5〜25℃の
温度条件下で約5〜20時間、好ましくは約10分〜3
時間程度行われる。 反応工程式−14
【0068】
【化16】
【0069】( 式中、R1 、R3 、R4およびR5 は前
記と同じである。)この反応は、一般式(18)で表される
化合物のカルバモイル基をチオニルクロライドでシアノ
基に変換して、一般式(19)で表される化合物を得るもの
である。反応は、無溶媒または適当な溶媒中にて行われ
る。チオニルクロライドの使用量は、化合物(18)に対し
て等モル量〜50倍モル量、好ましくは2〜10倍モル
量の割合で使用される。反応は、−10〜100℃、好
ましくは0℃〜室温下で約5分〜20時間、好ましくは
約10分〜5時間行えばよい。
【0070】使用可能な溶媒としては、例えば反応工程
式−1であげたと同様な溶媒があげられる。なお、チオ
ニルクロライドに代えて五塩化リン、塩化ホスホリル、
五酸化リンなどを使用してもよい。 反応工程式−15
【0071】
【化17】
【0072】( 式中、R2 、R4 、R5 、R11およびR
12は前記と同じ、Phはフェニル基である。)この反応
は、一般式(20)で表されるエステル化合物にギ酸エステ
ルを反応させて、α位にホルミル基が導入された化合物
(21)を得、この化合物(21)に一般式(2) で表される化合
物を反応させて、一般式(23)で表される本発明化合物を
得るものである。
【0073】ホルミル基を導入する反応は適当な不活性
溶媒中にて水素化ナトリウムの存在下で行われる。ギ酸
エステルの使用量は、エステル化合物(20)に対して1〜
5倍モル量、好ましくは1〜2倍モル量である。また、
水素化ナトリウムの使用量は1〜5倍モル量、好ましく
は1〜2倍モル量である。使用可能な溶媒としては、例
えば反応工程式−1であげたと同様な溶媒があげられ
る。反応は、0〜100℃、好ましくは0〜40℃で約
1〜48時間、好ましくは約5〜24時間行えばよい。
【0074】生成した化合物(21)は反応液から単離して
または単離することなく、次の化合物(2) との反応に使
用することができる。化合物(21)に対する化合物(2) の
使用割合は0.1〜1倍モル量、好ましくは0.5〜1
倍モル量である。また、反応は、30〜120℃、好ま
しくは80〜120℃で約30分〜10時間、好ましく
は約3〜5時間行えばよい。 反応工程式−16
【0075】
【化18】
【0076】( 式中、R4 およびR5 は前記と同じであ
る。)この反応は、一般式(6) で表される化合物から直
接一般式(2) で表される化合物を得るものである。すな
わち、化合物(6)に対してヒドラジンNH2NH2・H2O また
はその2 塩酸塩もしくは硫酸塩を酢酸または鉱酸の存在
下で反応させる。上記ヒドラジンは、好ましくは1〜2
倍モル当量で用い、好ましくは室温ないし100℃の温
度で反応させればよい。また、酢酸または鉱酸はヒドラ
ジンNH2NH2に対して好ましくは1〜2倍モル当量で用い
るのが適当である。 反応工程式−17
【0077】
【化19】
【0078】( 式中、R3 、R4 、R5 、R9 およびR
14は前記と同じ、R13は低級アルキル基である。)この
反応は、一般式(2)で表される化合物から一般式(25)で
表される化合物を経て、本発明の化合物である一般式(1
-d) で表される化合物を得るものである。化合物(2)か
ら化合物(25)への反応は、基本的に前記反応工程式-1と
同様にして行うことができる。すなわち、化合物(2)に
化合物(24)を、無溶媒または適当な溶媒中、酸の存在下
で反応させ、化合物(25)を析出させる。使用可能な溶
媒、酸ならびに化合物(2)と化合物(24)との使用割合な
どは反応工程式-1と同じでよい。反応は通常、室温〜1
50℃、好ましくは室温〜80℃で、5分〜2時間程度
で終了する。
【0079】反応後、生成した化合物(25)を反応液から
分離し、洗浄後、溶媒中にて塩基の存在下で反応させて
化合物(1-d) を得る。溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、ジオキサン、テトラヒドラフラン(THF) 等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、N,N
−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド
(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒等があげられる。
【0080】また、使用可能な塩基としては、例えばナ
トリウムメトキシド等のナトリウムアルコキシド、水素
化ナトリウム等があげられる。塩基の使用割合は、化合
物(25)に対して等モル量、好ましくは1〜3倍モル量で
あるのが適当である。反応は、通常、0〜100℃、好
ましくは0〜50℃で1〜72時間程度、好ましくは1
0〜48時間程度で終了する。 反応工程式−18
【0081】
【化20】
【0082】( 式中、R3 、R4 、R5およびR13は前
記と同じである。)この反応は、一般式(1-d) で表され
る化合物を還元して、一般式(1-e) で表される化合物を
得るものである。反応は溶媒中にて還元剤の存在下にて
行われる。溶媒としては、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等の低級アルコール類、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素、N,N−ジメチルホ
ルムアミド(DMF) 、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非
プロトン性極性溶媒、水等があげられる。
【0083】また、還元剤としては、例えば水素化アル
ミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ジボラ
ン、水素化ジイソブチルアルミニウム等があげられる。
還元剤として水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、溶
媒としては、メタノール、エタノール等の低級アルコー
ルと水との混合溶媒を使用するのが好ましい。低級アル
コールと水との混合割合は1:1〜10:1程度である
のが好ましい。また、水素化ホウ素ナトリウムの安定性
のため、塩基を加えるのが好ましい。かかる塩基として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアル
カリ金属水酸化物等があげられる。塩基の使用割合は水
素化ホウ素ナトリウムに対して1〜50倍モル量、好ま
しくは1〜10倍モル量であるのが適当である。
【0084】反応は、氷冷下ないし150℃、好ましく
は30〜100℃で、約30分〜5時間程度で終了す
る。 反応工程式−19
【0085】
【化21】
【0086】( 式中、Xはハロゲン原子を示し、R1
3 、R4 およびR5 は前記と同じである。)この反応
は、一般式(1-c) で表される化合物に、無溶媒または溶
媒中にて、ハロゲン化剤を反応させて、一般式(1-f) で
表される化合物を得るものである。溶媒としては、反応
工程式-1で例示した溶媒が使用可能である。また、ハロ
ゲン化剤としては、例えばN−ブロムスクシンイミド、
N−クロルスクシンイミド、N−ブロモカプロラクタ
ム、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイ
ン、臭素、塩素、塩化スルフリル等があげられる。
【0087】ハロゲン化剤の使用量は、一般式(1-c) で
表される化合物に対して1〜2倍モル量、好ましくは1
〜1.5倍モル量であるのが適当である。反応は、0〜
50℃、好ましくは0℃ないし室温で、約30分ないし
5時間で終了する。 反応工程式−20
【0088】
【化22】
【0089】( 式中、R30は低級アルキル基、R2 、R
4 およびR5 は前記と同じである。)この反応は、一般
式(2) で表される化合物に、無溶媒または溶媒中にて、
一般式(26)で表されるマロンジアルデヒドのアセタール
誘導体を反応させて、一般式(1-g) で表される化合物を
得るものである。溶媒としては、反応工程式-1で例示し
た溶媒が使用可能である。一般式(26)で表されるマロン
ジアルデヒドのアセタール誘導体は、化合物(2) に対し
て少なくとも等モル量、好ましくは1〜20倍モル量で
あるのが適当である。
【0090】反応は、50〜150℃、好ましくは80
〜130℃で、約2〜24時間で終了する。上記一般式
(1) で表わされる化合物は医薬的に許容される酸を作用
させることにより、容易に塩を形成し得る。該酸として
は、例えば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機
酸、シュウ酸、マレイン酸、フマ−ル酸、リンゴ酸、酒
石酸、クエン酸、安息香酸、酢酸、p-トルエンスルホン
酸、エタンスルホン酸等の有機酸があげられる。
【0091】かかる本発明の化合物(1) は、当然に光学
異性体ならびにシン異性体およびアンチ異性体を含むも
のである。これらの異性体は、慣用の分割法、例えば、
光学分割剤を使用する方法、酵素を使用する方法などで
分離することができる。本発明の化合物(1) は、通常、
一般的な医薬製剤の形態で用いられる。製剤は通常使用
される充填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面
活性剤、滑沢剤などの稀釈剤あるいは賦形剤を用いて調
製される。この医薬製剤としては各種の形態が治療目的
に応じて選択でき、その代表的なものとして錠剤、丸
剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、
坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)等のほか、ローショ
ン、クリーム、軟膏などの外用剤等でも使用可能であ
る。錠剤の形態に成形するに際しては、担体として、こ
の分野で従来より広く使用されているものがいずれも使
用可能であり、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブ
ドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、
結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、
プロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、
ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラッ
ク、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピ
ロリドンなどの結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン未、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン
酸モノグリセリド、デンプン、乳糖などの崩壊剤、白
糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油などの崩壊
抑制剤、第四級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリ
ウムなどの吸収促進剤、グリセリン、デンプンなどの保
湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロ
イド状ケイ酸などの吸着剤、精製タルク、ステアリン酸
塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコールなどの滑沢剤な
どが例示できる。さらに錠剤は必要に応じて通常の剤皮
を施した錠剤、例えば糖衣剤、ゼラチン被包錠、腸溶被
錠、フイルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠と
することができる。
【0092】丸剤の形態に成形するに際しては、担体と
して、この分野で従来公知のものを広く使用でき、例え
ば、ブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物
油、カオリン、タルクなどの賦形剤、アラビアゴム末、
トラガント末、ゼラチン、エタノールなどの結合剤、ラ
ミナラン、カンテンなどの崩壊剤などが例示できる。ま
た、坐剤の形態に成形するに際しては、担体として、従
来公知のものを広く使用でき、例えば、ポリエチレング
リコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコール
のエステル類、ゼラチン、半合成グリセライドなどを挙
げることができる。さらに、注射剤として調製される場
合には、液剤、乳剤および懸濁剤は殺菌され、かつ血液
と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤および懸
濁剤の形態に成形するのに際しては、希釈剤としてこの
分野において慣用されているものをすべて使用でき、例
えば水、エチルアルコール、プロピレングリコール、エ
トキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソ
ステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル類などを挙げることができる。なお、こ
の場合等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブド
ウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめても
よく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤など
を、更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、
甘味剤などや他の医薬品を該治療剤に含有せしめてもよ
い。ペースト、クリームおよびゲルの形態に成形するに
際しては、希釈剤として例えば、白色ワセリン、パラフ
ィン、グリセリン、セルロ−ス誘導体、ポリエチレング
リコール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
【0093】医薬製剤中に含有されるべき本発明のピリ
ミジン誘導体(1) またはその塩の量は、特に限定されず
広範囲に選択されるが、通常全組成物中1〜70重量%
とするのがよい。本発明に係る医薬製剤の投与方法は特
に制限はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他
の条件、疾患の程度などに応じた方法で投与される。例
えば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、および
カプセル剤の場合には経口投与される。
【0094】また注射剤の場合には単独であるいはブド
ウ糖、アミノ酸などの通常の補液と混合して静脈内投与
され、さらには必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下
もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与
される。さらに、ローション、クリーム、軟膏等の外用
剤の場合には塗布投与される。上記医薬製剤の投与量は
用法、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度など
により適宜選択されるが、通常本発明化合物の量は一日
当り体重1kg当り1〜100mg、好ましくは5〜20mg
とするのがよく、1日に2〜4回に分けて投与すること
ができる。
【0095】
【実施例】以下、参考例および実施例をあげて本発明を
より詳細に説明する。 参考例13−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ール ナトリウムメトキシド(2.79g)をトルエン(10
0ml)に懸濁した懸濁液を氷冷下で攪拌しつつ、該懸濁
液に4−フェニルチオフェニルアセトニトリル(8.9
7g)、ギ酸エチル(3.83g)およびトルエン(5
0ml)の混合物を滴下した。20分後氷冷をやめ、さら
に2時間後、氷水を加え、水層を分離した。
【0096】ついで、有機層を0.5N水酸化ナトリウ
ム水溶液の100mlずつで2回洗浄した。水層および洗
浄液を合わせて、濃塩酸によりpH3〜4とし、氷冷下
で攪拌した。1時間後、析出物をろ取し、水洗して、α
−ホルミル−4−フェニルチオフェニルアセトニトリル
を得た。得られたα−ホルミル−4−フェニルチオフェ
ニルアセトニトリルを乾燥させることなく、セミカルバ
ジド塩酸塩(4.43g)と共に、メタノール(50m
l)と水(10ml)との混合物中に加え、氷冷しつつ1
0分間攪拌した。ついで、氷冷をやめ、19時間放置し
た後、5N水酸化ナトリウム水溶液を用いて、pHを9
〜10に保ちつつ、1時間室温攪拌した。この際、反応
液の温度を25℃以下に保った。反応液に水(200m
l)を加え、30分間氷冷下で攪拌し、析出物をろ取し
た。得られた析出物を5N水酸化ナトリウム水溶液(1
5ml)およびメタノール(150ml)に加え、25分間
加熱還流した。加熱をやめ、水(300ml)を加えて、
氷冷下で30分攪拌し、析出したものを水洗、乾燥し
て、8.53gの標記化合物を得た。 mp:120〜121℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 7.74(s,1H)、7.2〜7.6(m,10
H),6.69(bs,2H) 参考例2α−アセチル−4−フェニルチオフェニルアセトニトリ
窒素雰囲気中、氷冷攪拌下にて60%水素化ナトリウム
(144mg)のテトラヒドロフラン(10ml)懸濁液
に、酢酸エチル(396mg)と、4−フェニルチオフェ
ニルアセトニトリル(675mg)と、テトラヒドロフラ
ン(5ml)との混合物を滴下した。30分後、氷浴を除
去した。17時間後、テトラヒドロフランを減圧下に留
去し、2N塩酸(10ml)とジクロロメタン(20ml)
とを加えて、分配し、水層をさらに2回ジクロロメタン
(20ml)で抽出した。有機層と抽出液とを合わせて、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(溶出液はヘキサン:酢酸
エチルが4:1(v/v)の混合溶媒を使用)にて分離
精製し、標記化合物(587mg)を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 7.26〜7.38(m,9H)、4.63(s,1
H),2.25(s,3H) 参考例3α−フルオロアセチル−4−フェニルチオフェニルアセ
トニトリル 参考例2に従って標記化合物を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 7.23〜7.45(m,9H)、5.36(d,J=
46.2Hz,2H),4.63(s,1H) 参考例4α−トリフルオロアセチル−4−フェニルチオフェニル
アセトニトリル 参考例2に従って標記化合物を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 7.20〜7.35(m,9H)、4.16(s,1
H) 参考例53−アミノ−5−メチル−4−(4−フェニルチオフェ
ニル)ピラゾール α−アセチル−4−フェニルチオフェニルアセトニトリ
ル(520mg)と、セミカルバジド塩酸塩(217mg)
とを、メタノール(15ml)および水(3ml)の混合溶
媒中にて氷冷下、10分間攪拌した。ついで、氷浴を除
去して40時間後、2N水酸化ナトリウム水溶液を用い
て、pH9〜10を保つように1時間室温で攪拌した。
しかるのち、水(50ml)を加え、氷冷下30分間攪拌
したのち、析出物をろ取した。これをそのまま2N水酸
化ナトリウム水溶液(5ml)およびメタノール(50m
l)の混合液中に加え、室温下で4時間攪拌し、ついで
水(80ml)を加え、氷冷下で30分間攪拌後、析出物
をろ取,水洗,乾燥することにより、標記化合物(50
0mg)を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 7.23〜7.44(m,10H)、5.01(br
s,2H)、2.27(s,3H) 参考例63−アミノ−5−メトキシメチル−4−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾール 参考例3で得た化合物を用い、参考例5と同様にして標
記化合物を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 7.26〜7.48(m,10H)、5.76(br
s,2H)、4.46(s,2H)、3.36(s,3
H) 参考例73−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)−5−
トリフルオロメチルピラゾール α−トリフルオロアセチル−4−フェニルチオフェニル
アセトニトリル(410mg)、ヒドラジン一水和物(7
7mg)、酢酸(1ml)およびベンゼン(10ml)の混合
物を、アゼオトロピックに脱水しながら加熱還流した。
1時間後、冷却し、6N塩酸(15ml)を加えて、有機
層と水層とに分配し、水層をさらに酢酸エチル(20m
l)で2回抽出し、先の有機層と合わせて無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、粗生成物として標記化
合物(400mg)を得た。このものは精製することな
く、次の反応に用いた。 実施例16−エトキシカルボニル−7−ヒドロキシ−3−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン 参考例1で得た3−アミノ−4−(4−フェニルチオフ
ェニル)ピラゾール(2.97g)、エトキシメチレン
マロン酸ジエチルエステル(2.16g)および酢酸
(20ml)の混合物を、加熱浴で90〜110℃に加熱
しつつ2時間攪拌し、次いでエトキシメチレンマロン酸
ジエチルエステル(0.21g)を加え、10分後加熱
浴を除き、放冷した。析出したものをろ取し、メタノー
ルで洗浄、乾燥し、標記化合物(1.69g)を得た。 mp:251〜252.5℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.37(s,1H)、8.26(s,1H)、7.6
3(d,J=8.13Hz,2H)、7.42(d,J
=8.13Hz,2H)、7.38(s,5H)、4.
27(q,J=7.03Hz,2H)、1.31(t,
J=7.03Hz,3H) 実施例26−エトキシカルボニル−5−ヒドロキシ−3−(4−
フェニルチオフェニル)−ピラゾロ[1,5−a]ピリ
ミジン 3−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ール(8.53g)を用いて、実施例1と同様にして反
応を行わせ、析出物をエタノールで洗浄した。得られた
ろ液およびエタノール洗浄液を20時間室温にて放置し
た後、析出物をろ取し、エタノールで洗浄して乾燥する
ことにより、標記化合物(0.45g)を得た。 mp:206〜207.5℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.07(s,1H)、8.37(s,1H)、7.7
0(d,J=8.57Hz,2H)、7.36(d,J
=8.13Hz,2H)、7.34(s,5H)、4.
27(q,J=7.03Hz,2H)、1.31(t,
J=7.03Hz,3H) 実施例37−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例1で得た6−エトキシカルボニル−7−ヒドロキ
シ−3−(4−フェニルチオフェニル)−ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン(3.91g)と85%リン
酸(30ml)との混合物を加熱浴で170℃に加熱しつ
つ、30分攪拌したところ、しだいに発泡が生じ、発泡
がやむ時には、反応液が濃赤色となった。加熱浴をや
め、水(200ml)を加え、氷冷しつつ30分間放置し
たのち、析出物をろ取し、水洗および乾燥して、標記化
合物(2.55g)を得た。 mp:232〜236℃ (シリカゲルカラム精製) NMR(DMSO−d6 )δ: 8.22(s,1H)、7.81(d,J=7.47H
z,1H)、7.61(d,J=8.57Hz,2
H)、7.40(d,J=8.57Hz,2H)、7.
29〜7.41(m,5H)、5.79(d,J=7.
47Hz,1H) 実施例45−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例2で得た6−エトキシカルボニル−5−ヒドロキ
シ−3−(4−フェニルチオフェニル)−ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン(0.39g)および85%
リン酸(5ml)を用いたほかは、実施例3と同様にして
標記化合物(0.16g)を得た。 mp:214〜216℃ (シリカゲルカラム精製) NMR(DMSO−d6 )δ: 8.57(d,J=7.92Hz,1H)、8.20
(s,1H)、7.72(d,J=8.13Hz,2
H)、7.36(d,2H,J=8.13Hz,2
H)、7.27〜7.42(m,5H)、6.12
(d,J=7.91Hz,1H) 実施例57−ヒドロキシ−5−メチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 3−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ール(0.34g)、アセト酢酸エチル(0.165
g)および酢酸(2ml)の混合物を100〜110℃に
加熱し、攪拌した。2時間後、上記反応混合物を減圧下
で濃縮し、残渣にエタノール(20ml)を加え、減圧下
で濃縮した。さらに、上記と同じ操作を繰返して得られ
た残渣に、酢酸エチル(20ml)を加え、固化させた。
固形物をろ取して、酢酸エチルで洗浄し、乾燥させて、
標記化合物(0.31g)を得た。 mp:233〜234℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.09(s,1H)、7.59(d,J=8.57H
z,2H)、7.39(d,J=8.13Hz,2
H)、7.36(s,5H)、5.65(s、1H)、
2.50(s、3H) 実施例67−ヒドロキシ−5−エチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例5に従って標記化合物を得た。 mp:222〜224℃ NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 7.90(s,1H)、7.30〜7.40(m,9
H)、5.71(s,1H)、2.70(q,J=7.
42Hz,2H)、1.32(t、J=7.42Hz,
3H) 実施例77−ヒドロキシ−5−イソプロピル−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例5に従って標記化合物を得た。 mp:260〜261℃(分解) NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 7.91(s,1H)、7.30〜7.37(m,9
H)、5.75(s,1H)、2.95(Heptet,J=
6.93Hz,1H)、1.33(d、J=6.93H
z,6H) 実施例87−ヒドロキシ−5−シクロプロピル−3−(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例5に従って標記化合物を得た。 mp:238〜241℃(分解) NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 7.92(s,1H)、7.32〜7.41(m,9
H)、5.37(s,1H)、1.91〜2.01
(m,1H)、1.11〜1.19(m,2H)、0.
91〜0.98(m、2H) 実施例97−ヒドロキシ−5−クロルメチル−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例5に従って標記化合物を得た。 mp:190〜191℃ NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 7.97(s,1H)、7.28〜7.43(m,9
H)、5.95(s,1H)、4.54(s,2H) 実施例107−ヒドロキシ−5−フェニル−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例5に従って標記化合物を得た。 mp:253〜255℃(分解) NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 8.02(s,1H)、7.69(d,J=8.56H
z,2H)、7.28〜7.57(m,12H)、6.
09(s,1H) 実施例115H−6,7−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−(4−
フェニルチオフェニル)−シクロペンタ〔d〕ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン 実施例5に従って下記式の標記化合物を得た。 mp:274℃(分解) NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 7.92(s,1H)、7.25〜7.43(m,9
H)、2.96〜3.02(m,2H)、2.81〜
2.87(m,2H)、2.14〜2.20(m,2
H) 実施例129−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)−
5,6,7,8−テトラヒドロピラゾロ[5,1−b]
キナゾリン 実施例5に従って下記式の標記化合物を得た。 mp:271〜272℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.11(s,1H)、7.59(d,J=8.2H
z,2H)、7.3〜7.5(m,7H)、2.7〜
2.8(m,2H)、2.4〜2.5(m,2H)、
1.6〜1.8(m,4H) 実施例137−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチル−3−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン 3−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ール(1.07g)の酢酸(8ml)溶液中へ4,4,4
−トリフルオロアセト酢酸エチル(0.6ml)を加え、
100℃で2時間攪拌した。放冷後、エーテルを加え、
析出物をろ取、乾燥して標記化合物(200mg,13
%)を得た。 mp:270〜273℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.93(s,1H)、8.73(d,J=8.35H
z,2H)、7.42(d,J=8.35Hz,2
H)、7.34(s,5H)、6.32(s,1H) 実施例147−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−3−(3−
メトキシ−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,
5−a]ピリミジン 実施例1に従って標記化合物を得た。 mp:256〜258℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.36(s,1H)、8.30(s,1H)、7.1
3〜7.39(m,8H)、4.26(q,J=7.0
4Hz,2H)、3.91(s,3H)、1.29
(t,J=7.04Hz,3H) 実施例157−ヒドロキシ−3−(3−メトキシ−4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例3に従って標記化合物を得た。 mp:220〜260℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.25(s,1H)、7.80(d,J=6.81H
z,1H)、7.03〜7.44(m,8H)、5.6
9(d,J=6.81Hz,1H)、3.88(s,3
H) 実施例167−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−2−メチル
−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン 実施例1に従って標記化合物を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 8.28(s,1H)、7.42(bs,9H)、4.
24(q,J=7.03Hz,2H)、2.33(s,
3H)、1.32(t,J=7.04Hz,3H) 実施例177−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−2−メトキ
シメチル−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン 実施例1に従って標記化合物を得た。 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.32(s,1H)、7.27〜7.63(m,9
H)、4.47(s,2H)、4.25(q,J=7.
03Hz,2H)、3.26(s,3H)、1.28
(t,J=7.03Hz,3H) 実施例187−ヒドロキシ−2−メチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例3に従って標記化合物を得た。 mp:218〜235℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 7.69(d,J=7.26Hz,1H)、7.36〜
7.47(m,9H)、5.71(d,J=7.25H
z,1H)、2.32(s,3H) 実施例197−ヒドロキシ−2−メトキシメチル−3−(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例3に従って標記化合物を得た。 mp:164〜167℃ 実施例207−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−3−(4−
フェニルチオフェニル)−2−トリフルオロメチルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例1に従って標記化合物を得た。 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.40(s,1H)、7.31〜7.45(m,9
H)、4.26(q,J=7.03Hz,2H)、1.
29(t,J=7.04Hz,3H) 実施例217−ヒドロキシ−6−メトキシ−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 60%水素化ナトリウム(480mg)のテトラヒドロフ
ラン懸濁液中へ、窒素雰囲気下、ギ酸エチル(2ml)お
よびメトキシ酢酸エチル(1.0g)を加え、室温下で
16時間攪拌した。ついで、3−アミノ−4(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾール(1.0g)を加え、還
流下4時間攪拌した。放冷後、水を加え、10%塩酸で
中和した。さらに、水を除去し、酢酸エチルを加え、不
溶物をろ取した。このものを酢酸エチルおよびエーテル
で洗浄、乾燥して標記化合物(100mg,8%)を得
た。 mp:267〜272℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.24(s,1H)、7.70(s,1H)、7.6
3(d,J=8.57Hz,2H)、7.40(d,J
=8.57Hz,2H)、7.35(s,5H)、3.
78(s,3H) 実施例227−ヒドロキシ−6−フルオロ−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例21に従って標記化合物を得た。 mp:278〜281℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.32(d,J=5.0Hz,1H)、8.30
(s,1H)、7.63(d,J=8.35Hz,2
H)、7.40(d,J=8.35Hz,2H)、7.
36(s,5H) 実施例237−ヒドロキシ−6−フェニル−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 60%水素化ナトリウム(480mg)のテトラヒドロフ
ラン懸濁液中へ、窒素雰囲気下、ギ酸エチル(2ml)お
よびフェニル酢酸エチル(1.64g)を加え、室温下
で19時間攪拌した。ついで、3−アミノ−4−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾール(1.0g)を加
え、還流下4時間攪拌した。放冷後、水および10%塩
酸を加え、酢酸エチルで抽出した。水洗後、無水硫酸ナ
トリウムで有機層を乾燥し、溶媒を留去した。残渣を酢
酸(5ml)に溶解させて、120℃で2〜20時間加熱
攪拌した。放冷後、酢酸エチルを加え、析出物をろ取し
た。このものを酢酸エチルおよびエーテルで洗浄、乾燥
して標記化合物(270mg,18%)を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.28(s,1H)、7.97(s,1H)、7.6
0〜7.80(m,4H)、7.20〜7.57(m,
10H) 実施例247−ヒドロキシ−6−メチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:270〜275℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.22(s,1H)、7.75(s,1H)、7.5
1(d,J=8.35Hz,2H)、7.40(d,J
=8.35Hz,2H)、7.35(s,5H)、2.
04(s,3H) 実施例257−ヒドロキシ−6−エチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:268〜272℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.18(s,1H)、7.80(d,J=8.35H
z,2H)、7.72(s,1H)、7.37(d,J
=8.35Hz,2H)、7.31(s,5H)、2.
50(q,J=7.10Hz,2H)、1.14(t,
J=7.10Hz,3H) 実施例267−ヒドロキシ−6−イソプロピル−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:238〜242℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.22(s,1H)、7.88(s,1H)、7.6
6(d,J=8.57Hz,2H)、7.39(d,J
=8.57Hz,2H)、7.36(s,5H)、2.
80〜3.30(m,1H)、1.21(d,J=6.
82Hz,6H) 実施例277−ヒドロキシ−6−シクロヘキシル−3−(4−フェ
ニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:213〜216℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.19(s,1H)、7.65(d,J=8.07H
z,2H)、7.52(s,1H)、7.39(d,J
=8.10Hz,2H)、7.34(s,5H)、1.
00〜2.00(m,11H) 実施例287−ヒドロキシ−6−フェネチル−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:278〜285℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.21(s,1H)、7.60(d,J=8.36H
z,2H)、7.59(s,1H)、7.39(d,J
=8.36Hz,2H)、7.35(s,5H)、7.
24(s,5H)、2.60〜3.00(m,4H) 実施例297−ヒドロキシ−6−ベンジル−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:254〜256℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.21(s,1H)、7.79(s,1H)、7.6
1(d,J=8.35Hz,2H)、7.39(d,J
=8.35Hz,2H)、7.36(s,5H)、7.
20〜7.40(m,5H)、3.81(s,2H) 実施例307−ヒドロキシ−6−(2−メトキシフェニルメチル)
−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:219〜221℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.24(s,1H)、7.70(d,J=8.35H
z,2H)、7.57(s,1H)、7.37(d,J
=8.35Hz,2H)、7.35(s,5H)、6.
85〜7.32(m,4H)、3.81(s,3H)、
3.75(s,2H) 実施例317−ヒドロキシ−6−(3−メトキシフェニルメチル)
−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:240〜242℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.21(s,1H)、7.74(s,1H)、7.6
1(d,J=8.57Hz,2H)、7.39(d,J
=8.57Hz,2H)、7.35(s,5H)、7.
14(d,J=7.91Hz,1H)、6.79〜7.
00(m,3H)、3.77(s,2H)、3.72
(s,3H) 実施例327−ヒドロキシ−6−(4−メトキシフェニルメチル)
−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:271〜273℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.20(s,1H)、7.73(s,1H)、7.5
9(d,J=8.14Hz,2H)、7.39(d,J
=8.14Hz,2H)、7.35(s,5H)、7.
23(d,J=8.35Hz,2H)、6.83(d,
J=8.35Hz,2H)、3.73(s,2H)、
3.71(s,3H) 実施例337−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニルメチル−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:240〜243℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.22(s,1H)、7.87(s,1H)、7.6
1(d,J=8.13Hz,2H)、7.40(d,J
=8.13Hz,2H)、7.35(s,5H)、4.
09(d,J=7.25Hz,2H)、3.52(s,
2H)、1.20(t,J=7.25Hz,3H) 実施例347−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニルエチル−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例23に従って標記化合物を得た。 mp:212〜216℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.21(s,1H)、7.73(d,J=5.49H
z,1H)、7.61(d,J=8.35Hz,2
H)、7.38(d,J=8.35Hz,2H)、7.
35(s,5H)、4.05(q,J=7.03Hz,
2H)、2.73〜2.47(m,4H)、1.16
(t,J=7.03Hz,3H) 実施例357−ヒドロキシ−6−ブロモ−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン(320mg)のジメチ
ルホルムアミド(2ml)溶液中にN─ブロモスクシンイ
ミド(200mg)を加え、室温で3時間攪拌した。つい
で、水を加え、析出物をろ取し、水洗、エーテル洗浄
後、乾燥して標記化合物(370mg,93%)を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.25(s,2H)、7.63(d,J=8.35H
z,2H)、7.40(d,J=8.35Hz,2
H)、7.36(s,5H) 実施例367−ヒドロキシ−6−クロロ−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例35に従って標記化合物を得た。 mp:180〜195℃(分解) NMR(DMSO−d6 )δ: 8.28(s,1H)、8.22(s,1H)、7.2
0〜7.65(m,9H) 実施例377−ヒドロキシ−6−クロロ−5−メチル−3−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン 実施例5に従って標記化合物を得た。 mp:259〜261℃(分解) NMR(CD3 OD−CDCl3 )δ: 7.90(s,1H)、7.27〜7.38(m,9
H)、2.57(s,3H) 実施例387−ヒドロキシ−6−カルボキシ−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−3−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン(10.30g)、水酸化ナトリウム(6.59
g)、エタノール(300ml)および水(300ml)の
混合物を加熱攪拌し、2時間反応させた、反応混合物に
水(400ml)を加え、氷冷下、塩酸を加え、pH1〜
2として30分間攪拌後、析出物をろ取し、水洗、乾燥
して標記化合物(9.42g)を得た。 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.46(s,1H)、8.36(s,1H)、7.7
6(d,J=8.35Hz,2H)、7.40(d,J
=8.35Hz,2H)、7.35(s,5H) 実施例397−ヒドロキシ−6−カルボキシエチル−3−(4−フ
ェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
7−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニルエチル−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン(200mg)のメタノール懸濁液中へ2N水
酸化ナトリウム(2ml)を加え、室温下3日間攪拌し
た。10%塩酸で反応液を酸性にし、析出物をろ取し、
水洗、乾燥して標記化合物(定量的)を得た。 mp:250〜253℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.21(s,1H)、7.72(s,1H)、7.6
1(d,J=8.35Hz,2H)、7.39(d,J
=8.35Hz,2H)、7.35(s,5H)、3.
27(s,2H)、2.46〜2.70(m,4H) 実施例407−ヒドロキシ−6−カルボキシメチル−3−(4−フ
ェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジ
実施例39に従って標記化合物を得た。 mp:244〜246℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.23(s,1H)、7.85(s,1H)、7.6
2(d,J=8.57Hz,2H)、7.41(d,J
=8.57Hz,2H)、7.36(s,5H)、3.
45(s,2H) 実施例417−ヒドロキシ−6−カルボキシ−3−(3−メトキシ
−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−3−(3−
メトキシ−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,
5−a]ピリミジン(340mg)にジオキサン(15m
l)および2N水酸化ナトリウム水溶液(2ml)を加
え、1時間加熱還流した。反応混合物を減圧下濃縮し、
残渣に水(30ml)を加え、酢酸で中和した。析出物を
ろ取し、水洗、乾燥して標記化合物(260mg)を得
た。 mp:234〜236℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.46(s,1H)、8.41(s,1H)、7.1
7〜7.39(m,8H)、3.90(s,3H) 実施例427−ヒドロキシ−6−(N−フェニルカルバモイル)−
3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−エトキシカルボニル−3−(4−
フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミ
ジン(280mg)をアニリン(3ml)に溶解させ、18
0℃で3時間攪拌した。放冷後、10%塩酸を加え、析
出物をろ取し、水洗、乾燥して標記化合物(220mg,
68%)を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.57(s,1H)、8.40(s,1H)、7.0
0〜7.80(m,14H) 実施例436−カルバモイル−7−ヒドロキシ−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−カルボキシ−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン(1
20mg)に、氷冷下、チオニルクロライド(0.5ml)
を加え、1時間攪拌した。ついで、減圧濃縮し、6−ク
ロロホルミル−7−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジンを得
た。得られた化合物を氷冷攪拌下、28%アンモニア水
(0.3ml)とピリジン(2ml)の混合液に加えた。3
0分後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣を水で洗浄
し、乾燥することにより標記化合物(97mg)を得た。 mp:262〜273℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.42(s,1H)、8.31(s,1H)、7.3
3〜7.89(m,9H) 実施例446−カルバモイル−7−ヒドロキシ−3−(3−メトキ
シ−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 実施例43に従って標記化合物を得た。 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.47(s,1H)、8.37(s,1H)、7.0
0〜7.38(m,8H)、3.91(s,3H) 実施例457−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)−
6−(N−3,4,5−トリクロロフェニル)カルバモ
イルピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例43に従って標記化合物を得た。 mp:272〜285℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 11.31(s,1H)、8.55(s,1H)、8.
39(s,1H)、8.05(s,2H)、7.37〜
7.78(m,9H) 実施例467−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)−
6−(N−t−ブチル)カルバモイルピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン 実施例43に従って標記化合物を得た。 mp:222〜250℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.41(s,1H)、8.54(d,J=5.49H
z,1H)、8.34(d,J=13.85Hz,1
H)、7.26〜8.21(m,9H)、1.15〜
1.38(m,9H) 実施例477−ヒドロキシ−6−シアノ−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−カルバモイル−3−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン
(36mg)をジメチルホルムアミドに溶解させ、氷冷攪
拌下、チオニルクロライド(0.05ml)を加えた。3
0分後、氷浴を除去した。17時間後、氷水を加え、析
出物をろ取し、水洗、乾燥し、プレパラティブシリカゲ
ルプレート(クロロホルム:メタノール:酢酸が80:
25:2で混合された展開溶媒を使用)で分離精製し、
標記化合物(13mg)を得た。 mp:300℃以上 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.55(s,1H)、8.34(s,1H)、7.3
6〜7.73(m,9H) 実施例487−ヒドロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾロ[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−カルボキシ−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン
(9.32g)とアニリン(68ml)との混合物を80
℃にて1.5時間加熱攪拌して反応させた。反応混合物
に水(300ml)を加え、氷冷下、塩酸を加えてpH1
〜2とした。メタノール(100ml)を加え、氷冷下、
30分攪拌し、析出物をろ取し、冷水−メタノール
(3:1)で洗浄、乾燥して標記化合物(8.17g)
を得た。 NMR(CDCl3 )δ: 8.22(s,1H)、7.80(d,J=7.47H
z,1H)、7.60(d,J=8.13Hz,2
H)、7.40(d,J=8.13Hz,2H)、7.
36(s,5H)、5.79(d,J=7.47Hz,
1H) 実施例493−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 3−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ール(0.26g)とマロンジアルデヒドテトラメチル
アセタール(3ml)との混合物を120℃で30時間加
熱攪拌して反応させた。減圧濃縮後、シリカゲルカラム
(クロロホルム)にて精製し標記化合物(0.17g)
を得た。 mp:72〜72.5℃ NMR(CDCl3 )δ: 8.67(dd,J=1.76Hz,7.04Hz,1
H)、8.54(dd,J=1.76Hz,4.17H
z,1H)、8.42(s,1H)、8.00(d,J
=8.57Hz,2H)、7.45(d,J=8.57
Hz,2H)、7.18〜7.37(m,5H)、6.
83(dd,J=4.17Hz,7.03Hz,1H) 実施例507−ヒドロキシ−6−メチル−3−(4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 60%水素化ナトリウム(480mg)のベンゼン懸濁液
中へ、窒素雰囲気下、ギ酸エチル(2ml)およびプロピ
オン酸エチル(1.2ml)を加え、室温下、16時間攪
拌した。減圧下、ベンゼンを留去した後、残渣に酢酸
(5ml)を加え、ついで3−アミノ−4−(4−フェニ
ルチオフェニル)ピラゾール(1.0g)を加え、12
0℃で5時間加熱攪拌した。放冷後、酢酸エチルを加
え、析出物をろ取し、酢酸エチル、水で洗浄し、乾燥し
て、標記化合物(1.0g,81%)を得た。
【0097】このものの融点およびNMRは実施例24
とほぼ同じであった。 実施例517−ヒドロキシ−6−(4−メチルフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例50に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.26(s,1H)、7.91(s,1H)、7.6
4(d,J=8.1Hz,2H)、7.36〜7.60
(m,4H)、7.36(s,5H)、7.22(d,
J=8.1Hz,2H)、2.34(s,3H) 実施例527−ヒドロキシ−6−(4−メトキシフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 60%水素化ナトリウム(480mg)のベンゼン懸濁液
中へ、窒素雰囲気下、ギ酸エチル(2ml)および4−メ
トキシフェニル酢酸エチル(2.0g)を加え、室温
下、16時間攪拌した。ついで、3−アミノ−4−(4
−フェニルチオフェニル)ピラゾール(1.0g)を加
え、還流下4時間攪拌した。放冷後、水および10%塩
酸を加え、中和し、酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水
硫酸ナトリウムで有機層を乾燥し、溶媒を留去した。残
渣を酢酸(5ml)に溶解させ、120℃で6時間加熱攪
拌した。放冷後、酢酸エチルを加え、析出物をろ取し、
酢酸エチル、エーテルで洗浄し、乾燥して、標記化合物
(400mg,25%)を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.27(s,1H)、7.89(s,1H)、7.6
5(d,J=8.6Hz,2H)、7.60(d,J=
8.8Hz,2H)、7.44(d,J=8.6Hz,
2H)、7.37(s,5H)、6.99(d,J=
8.8Hz,2H)、3.79(s,3H) 実施例537−ヒドロキシ−6−(2−メトキシフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例52に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.25(s,1H)、7.77(s,1H)、7.6
7(d,J=8.4Hz,2H)、7.41(d,J=
8.4Hz,2H)、7.36(s,5H)、7.26
〜7.52(m,3H)、6.85〜7.12(m,1
H),3.75(s,3H) 実施例547−ヒドロキシ−6−(3−メトキシフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例52に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.27(s,1H)、7.97(s,1H)、7.6
4(d,J=8.6Hz,2H)、7.41(d,J=
8.6Hz,2H)、7.36(s,5H)、7.20
〜7.34(m,3H)、6.83〜6.96(m,1
H),3.80(s,3H) 実施例557−ヒドロキシ−6−(4−フルオロフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例52に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.27(s,1H)、7.97(s,1H)、7.6
5(d,J=8.8Hz,2H)、7.55〜7.69
(m,1H)、7.41(d,J=8.8Hz,2
H)、7.37(s,5H)、7.18(d,J=9.
0Hz,2H) 実施例567−ヒドロキシ−6−(3−フルオロフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例52に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.29(s,1H)、8.07(s,1H)、7.6
5(d,J=8.4Hz,2H)、7.42(d,J=
8.4Hz,2H)、7.37(s,5H)、7.02
〜7.78(m,4H) 実施例577−ヒドロキシ−6−(2−フルオロフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 実施例52に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.29(s,1H)、7.94(s,1H)、7.1
0〜7.80(m,13H) 実施例587−ヒドロキシ−3,6−ビス(4−フェニルチオフェ
ニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例52に従って標記化合物を得た。 mp:278〜280℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.27(s,1H)、8.00(s,1H)、7.7
1(d,J=8.4Hz,2H)、7.64(d,J=
8.4Hz,2H)、7.41(d,J=8.4Hz,
2H)、7.37(d,J=8.4Hz,2H)、7.
32〜7.39(m,10H) 実施例596−(2−アセトキシエチル)−7−ヒドロキシ−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 60%水素化ナトリウム(1.0g)のベンゼン懸濁液
中へ、窒素雰囲気下、ギ酸エチル(4ml)およびγ−ブ
チロラクトン(1.6ml)を加え、室温下、24時間攪
拌した。ついで、水を加えた後、10%塩酸で中和し、
酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を留去した。残渣を酢酸(10ml)に溶解
し、3−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピ
ラゾール(2.0 g)を加え、120℃で6時間加熱攪拌
した。放冷後、酢酸エチルを加え、析出物をろ取し、酢
酸エチル、エーテルで洗浄し、乾燥して、標記化合物
(400mg,13%)を得た。 mp:265〜270℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.22(s,1H)、7.78(s,1H)、7.6
1(d,J=8.6Hz,2H)、7.40(d,J=
8.6Hz,2H)、7.36(s,5H)、4.20
(t,J=6.6Hz,2H)、2.78(t,J=
6.6Hz,2H)、1.99(s,3H) 実施例607−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシエチル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 6−(2−アセトキシエチル)−7−ヒドロキシ−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン(180mg)のメタノール懸濁液中へ2N−
水酸化ナトリウム(2ml)を加え、室温下、21時間攪
拌した。ついで、10%塩酸で酸性とし、析出物をろ取
し、水洗、乾燥して、標記化合物(150mg、93%)
を得た。 mp:244〜247℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.20(s,1H)、7.68(s,1H)、7.6
0(d,J=8.6Hz,2H)、7.40(d,J=
8.6Hz,2H)、7.35(s,5H)、3.56
(t,J=6.8Hz,2H)、2.61(t,J=
6.4Hz,2H) 実施例617−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシフェニルメチ
ル)−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−(2−メトキシフェニルメチル)
−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン(150mg)のジクロロエタン懸濁液
中へ、氷冷下、三臭化ホウ素(0.1ml)を加え、室温
下、18時間攪拌した。反応液に水を加え、1時間攪拌
した。析出物をろ取し、水、メタノールで洗浄し、乾燥
して、標記化合物(70mg、48%)を得た。 mp:283〜287℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.42(s,1H)、8.22(s,1H)、7.6
0(d,J=8.6Hz,2H)、7.56(s,1
H)、7.39(d,J=8.6Hz,2H)、7.3
5(s,5H)、6.95〜7.20(m,2H)、
6.71〜6.84(m,2H)、3.71(s,2
H) 実施例627−ヒドロキシ−6−(3−ヒドロキシフェニルメチ
ル)−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン 実施例61に従って標記化合物を得た。 mp:235〜237℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.17(bs,1H)、8.21(s,1H)、7.
70(d,J=1.1Hz,1H)、7.60(d,J
=8.6Hz,2H)、7.39(d,J=8.6H
z,2H)、7.35(s,5H)、7.06(t,J
=8.0Hz,1H)、6.51〜6.75(m,3
H)、3.71(s,2H) 実施例637−ヒドロキシ−6−(4−ヒドロキシフェニルメチ
ル)−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン 実施例61に従って標記化合物を得た。 mp:287〜293℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.10(bs,1H)、8.20(s,1H)、7.
65(s,1H)、7.60(d,J=8.6Hz,2
H)、7.39(d,J=8.6Hz,2H)、7.3
5(s,5H)、7.10(d,J=8.4Hz,2
H)、6.66(d,J=8.4Hz,2H)、3.6
8(s,2H) 実施例647−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシフェニル)−3
−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 実施例61に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.32(bs,1H)、8.26(s,1H)、7.
83(s,1H)、7.65(d,J=8.4Hz,2
H)、7.42(d,J=8.4Hz,2H)、7.3
7(s,5H)、7.10〜7.52(m,2H)、
6.76〜6.94(m,2H) 実施例657−ヒドロキシ−6−(3−ヒドロキシフェニル)−3
−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 実施例61に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.37(bs,1H)、8.26(s,1H)、7.
69(s,1H)、7.63(d,J=8.6Hz,2
H)、7.41(d,J=8.6Hz,2H)、7.3
6(s,5H)、7.00〜7.22(m,3H)、
6.66〜6.80(m,1H) 実施例667−ヒドロキシ−6−(4−ヒドロキシフェニル)−3
−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 実施例61に従って標記化合物を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 9.42(s,1H)、8.26(s,1H)、7.8
3(s,1H)、7.64(d,J=8.4Hz,2
H)、7.42(d,J=8.4Hz,2H)、7.4
7(d,J=8.4Hz,2H)、7.36(s,5
H)、6.81(d,J=8.4Hz,2H) 実施例677−ヒドロキシ−6−アセチル−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 3−アミノ−4−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾ
ール(534mg) 、エトキシメチレンアセト酢酸エチル
エステル(484mg)および酢酸(15ml)の混合物を
室温下で攪拌した。30分後、析出物をろ取し、n−ヘ
キサンで洗浄した。得られた析出物、ナトリウムメトキ
シド(290mg)、トルエン(50ml)の混合物を減圧
下濃縮し、残渣に2N塩酸、塩化メチレン、酢酸エチル
を加え、分離後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。残渣を塩化メチレン−酢酸エチル
(=1:1)で再結晶し、標記化合物(350mg)を得
た。 mp:275〜283℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.32(s,1H)、8.31(s,1H)、7.3
8〜7.69(m,9H)、2.60(s,3H) 実施例687−ヒドロキシ−6−ベンゾイル−3−(4−フェニル
チオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例67に従って標記化合物を得た。 mp:277〜290℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.32(s,1H)、8.18(s,1H)、7.3
8〜7.84(m,14H) 実施例697−ヒドロキシ−6−トリフルオロアセチル−3−(4
−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリ
ミジン トルエンに代えてエタノールを用いたほかは実施例67
に従って標記化合物を得た。 mp:265〜286℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.46(s,1H)、8.31(s,1H)、8.1
2(d,J=8.13Hz,2H)、7.39(d,J
=8.13Hz,2H)、7.29(s,5H) 実施例707−ヒドロキシ−6−(1−ヒドロキシエチル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−アセチル−3−(4−フェニルチ
オフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン(10
8mg)、水素化ホウ素ナトリウム(46mg)、2N水酸
化ナトリウム水溶液(2.3ml)、エタノール(5ml)
の混合物を加熱還流した。1時間後、反応混合物を減圧
下濃縮し、残渣に水(4ml)を加え、2N塩酸で中和し
た。析出物をろ取し、水洗し、乾燥することにより標記
化合物(87mg)を得た。 mp:262〜285℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.24(s,1H)、7.29〜7.67(m,10
H)、4.84(q,J=6.37Hz,1H)、1.
36(d,J=6.15Hz,3H) 実施例717−ヒドロキシ−6−(α−ヒドロキシベンジル)−3
−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−
a]ピリミジン 実施例70に従って標記化合物を得た。 mp:192〜198℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.20(s,1H)、8.17(d,J=8.35H
z,2H)、7.88(s,1H)、7.19〜7.6
1(m,12H)、5.96(d,J=4.83Hz,
1H)、5.49(d,J=5.05Hz,1H) 実施例727−ヒドロキシ−6−(1−ヒドロキシ−2,2,2−
トリフルオロエチル)−3−(4−フェニルチオフェニ
ル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例70に従って標記化合物を得た。 mp:265〜290℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.28(s,1H)、7.85(s,1H)、7.3
7〜7.71(m,9H)、6.89(d,J=6.1
5Hz,1H)、5.17〜5.47(m,1H) 実施例736−(3−ブロモ−4−メトキシフェニル)−7−ヒド
ロキシ−3−(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ
[1,5−a]ピリミジン 7−ヒドロキシ−6−(4−メトキシフェニル)−3−
(4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]
ピリミジン(420mg)のニトロベンゼン(2ml)懸濁
液中へ臭素(0.1ml)を加え、室温下で1時間攪拌し
た後、水、エーテルを加え、析出物をろ取した。これを
水、メタノール、酢酸エチル、エーテルで洗浄後、乾燥
し、標記化合物(270mg,54%)を得た。 mp:>300℃ NMR(DMSO−d6 )δ: 8.29(s,3H)、7.10〜8.00(m,12
H)、3.89(s,3H) 実施例746−エトキシカルボニル−7−ヒドロキシ−3−(3−
メチル−4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5
−a]ピリミジン 実施例1に従って標記化合物を得た。 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.37(s,1H)、8.28(s,1H)、7.2
2〜7.59(m,8H)、4.28(q,J=7.0
3Hz,2H)、2.39(s,3H)、1.29
(t,J=7.03Hz,3H) 実施例756−カルボキシ−7−ヒドロキシ−3−(3−メチル−
4−フェニルチオフェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピ
リミジン 実施例38に従って標記化合物を得た。 NMR(DMSO−d6 )δ: 8.48(s,1H)、8.39(s,1H)、7.2
4〜7.75(m,8H)、2.38(s,3H) 実施例767−ヒドロキシ−3−(3−メチル−4−フェニルチオ
フェニル)ピラゾロ[1,5−a]ピリミジン 実施例48に従って標記化合物を得た。 mp: 267〜271℃(分解) NMR(DMSO−d6 )δ: 8.23(s,1H)、7.77〜7.87(br,1
H)、2.23〜8.0(m,8H)、5.79(d,
J=7.47Hz,1H)、2.38(s,3H) 次に、製剤例を示す。 製剤例 6−エトキシカルボニル−7−ヒドロキシ−3− (4−フェニルチオフェニル)−ピラゾロ[1,5− a]ピリミジン 100 g アビセル(商標名、旭化成(株)製) 40 g コーンスターチ 30 g ステアリン酸マグネシウム 2 g TC−5(商標名、信越化学工業(株)製の ヒドロキシプロピルメチルセルロース) 10 g ポリエチレングリコール−6000 3 g ヒマシ油 40 gエタノール 40 g 6−エトキシカルボニル−7−ヒドロキシ−3−(4−
フェニルチオフェニル)−ピラゾロ[1,5−a]ピリ
ミジン、アビセル、コーンスターチおよびステアリン酸
マグネシウムを、混合研磨後、糖衣R10mmのキネで打
錠した。得られた錠剤をTC−5、ポリエチレングリコ
ール−6000、ヒマシ油およびエタノールからなるフィル
ムコーティング剤被膜を行い、上記組成のフィルムコー
ティング錠を製造した。
【0098】実施例で得た各供試化合物について、以下
の薬理試験AおよびBを行った。なお、薬理試験Aにつ
いては、J.B.C.256(15)7998〜8005,1981 に基づいて行
った。A.ラット前立腺アンドロゲン受容体への 3H−5α−
ジヒドロテストステロン( 3H−5α−DHT)の結合
に対する阻害活性の測定 (1) ラット前立腺からの細胞質分画の調製 ラットを去勢24時間後に剖殺し、前立腺腹葉を取り出
し、3倍量の0.25M Sucrose-TME緩衝液(50mM
トリス−HCl(pH7.4),0.5mMメルカプト
エタノールおよび0.1mMEDTA−2Na)中に
て、Potter型ホモジナイザーを用いて、氷冷下、静かに
ホモジナイズした。得られたホモジネートを二重にした
ガーゼで濾過して、4℃で10500×g×60分間超
遠心分離し、その上清を細胞質分画とした。 (2) 前立腺細胞質アンドロゲン受容体への 3H−5α−
DHT特異的結合の測定 上記(1) で得た細胞質分画に、 3H−5α−DHT(4
7.8Ci/mmol)を最終濃度1nMとなるように
添加し、0.25MSucrose-TME 緩衝液で、最終容量を
0.5mlとして、0℃下で約20時間反応させた。反応
終了後、0.25MSucrose-TME 緩衝液に溶解した硫酸
アンモニウム液を35%飽和となるように混和し、さら
に0℃下で90分間放置した後、4℃にて、10000
×g×10分間遠心分離を行い、沈澱を得た。
【0099】この沈澱を、上記緩衝液0.8mlに再懸濁
し、さらに遊離型の 3H−5α−DHTを除去するた
め、0.2mlのデキストラン−炭素粉末懸濁液(4%活
性炭、0.1%デキストランT−70および0.1%ゼ
ラチンを上記緩衝液に溶解したもの)を加え混和し、0
℃で10分間放置した。次いで、4℃にて、3000×
g×10分間遠心分離を行い、得られた上清0.5mlを
分取し、バイアル瓶に移して、10mlアクアゾル−2を
添加して、放射活性を測定して、前立腺細胞質アンドロ
ゲン受容体への3H−5α−DHTの総結合量を求め
た。また、非特異的結合量は、反応液中に非標識の5α
−DHTを最終濃度1μMとなるように添加し、前記と
同様にして求めた。そして、総結合量と非特異的結合量
との差をアンドロゲン受容体に結合した特異的結合量と
した。 (3) 3H−5α−DHT特異的結合に対する供試化合物
の阻害活性 実施例で得た各供試化合物を、濃度を変えて 3H−5α
−DHTと同時に添加して、上記(2) と同様に反応さ
せ、この場合の 3H−5α−DHTのアンドロゲン受容
体に結合した特異的結合量を求めた。そして、この値と
(2) で求めた値とを比較して、 3H−5α−DHT特異
的結合に対する各供試化合物の阻害活性のIC50値を求
めた。その結果を表1に示す。なお、比較例として以下
の化合物を使用した。 比較例1:Flutamide 比較例2:Hydroxyflutamide
【0100】
【表1】
【0101】B.ラット前立腺アンドロゲン受容体への
3H−ミボレロンの結合に対する阻害活性の測定 (1) ラット前立腺からの細胞質分画の調製 ラットを去勢24時間後に剖殺し、前立腺腹葉を取り出
し、3倍量の緩衝液A(1.5mMEDTA、2mMジ
チオスレイトール、10mMモリブデートナトリウム、
10体積%グリセロール、10mMNaF、25mMホ
スフェィトナトリウム、pH7.2)中にてポリトロオ
ンを用い、次いでポッター型ホモジナイザーを用いて、
氷冷下、静かにホモジナイズした。得られたホモジネー
トを二重にしたガーゼで濾過して4℃で、105000
×g×60分間超遠心分離し、その上清を細胞質分画と
した。 (2) 前立腺細胞質アンドロゲン受容体に対する 3H−ミ
ボレロンの特異的結合の測定 上記(1) で得た細胞質分画に、 3H−ミボレロン(8
7.0Ci/mmol)を最終濃度1nMとなるように
添加し、同時に 3H−ミボレロンプロゲスチン受容体へ
の結合を抑える目的でトリアムシノロンアセトニドを最
終濃度5μMとなるように添加し、緩衝液Aで最終容量
0.4mlとして、0℃の環境下で、20時間反応させ
た。反応終了後、0.5mlの60%ヒドロキシルアパタ
イトスラリー(洗浄および平衡化を緩衝液B(10 m
MNaH2 PO4 、20mMトリス−塩酸、 pH7.
2)で行ったもの)を添加し、0℃で10分間放置した
後、グラスファイバーを用いて吸引濾過を行い、そのグ
ラスファイバーを、トリトン(Triton)X−100を
0.1%(重量/体積)含む緩衝液Bの5mlで5回洗浄
し、遊離型の 3H−ミボレロンを除去した。そして、該
グラスファイバーをバイアル瓶に移し、アクアゾル−2
を10ml添加して、放射活性を測定し、前立腺細胞質ア
ンドロゲン受容体への 3H−ミボレロンの総結合量を求
めた。
【0102】また、非特異的結合量は、反応液中に非標
識の5α−DHTを最終濃度1μMとなるように添加
し、前記と同様にして求めた。そして、総結合量と非特
異的結合量との差をアンドロゲン受容体に結合した特異
的結合量とした。 (3) 3H−ミボレロン特異的結合に対する供試化合物の
阻害活性 実施例で得た各供試化合物を、濃度を変えて 3H−ミボ
レロンと同時に添加して、上記(2) と同様に反応させ、
この場合の 3H−ミボレロンのアンドロゲン受容体に結
合した特異的結合量を求めた。そして、この値と(2) で
求めた値とを比較して、 3H−ミボレロン特異的結合に
対する各供試化合物の阻害活性のIC50値を求めた。そ
の結果を表2〜表4に示す。 比較例1:Flutamide 比較例2:Hydroxyflutamide
【0103】
【表2】
【0104】
【表3】
【0105】
【表4】
【0106】
【発明の効果】本発明のピリミジン誘導体またはその医
薬的に許容される塩は、アンドロゲンの作用発現を阻害
する活性を有し、アンドロゲンの作用昂進により起こる
前立腺の肥大、女性の多毛、男性型のハゲまたはニキビ
の治療にすぐれた効果がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 稲井 正敏 徳島県板野郡土成町大字郡554番地の1 (72)発明者 井上 誠 徳島県鳴門市大津町木津野字野神の越112 の3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1) : 【化1】 〔式中、R1 は水素原子または水酸基を示し、R2 は水
    素原子、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ
    基、ハロゲン原子、低級アルキル基、炭素数が3〜8の
    シクロアルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
    キル基、カルボキシル基、カルボキシ低級アルキル基、
    基:−CONHR6 (R6 は水素原子、ハロゲン原子を
    有することのあるフェニル基または低級アルキル基を示
    す)、シアノ基、置換基として水酸基、ハロゲン原子、
    低級アルキル基、低級アルコキシ基およびフェニルチオ
    基からなる群より選ばれる基を有することのあるフェニ
    ル基、フェニル環上に置換基として水酸基および低級ア
    ルコキシ基からなる群より選ばれる基を有することのあ
    るフェニル低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ低
    級アルキル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子を有するこ
    とのある低級アルカノイル基または置換基としてフェニ
    ル基およびハロゲン原子からなる群より選ばれる基を有
    することのあるヒドロキシ低級アルキル基を示し、R3
    は水素原子、水酸基、低級アルキル基、炭素数が3〜8
    のシクロアルキル基、ハロゲン低級アルキル基またはフ
    ェニル基を示し、R4 は水素原子、低級アルキル基また
    は低級アルコキシ基を示し、R5 は水素原子、低級アル
    キル基、低級アルコキシ低級アルキル基またはハロゲン
    低級アルキル基を示す。ただし、R2およびR3 は共に
    結合して炭素数3〜5の低級アルキレン基を形成しても
    よい。〕で表されるピリミジン誘導体またはその医薬的
    に許容される塩。
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