JPH05112614A - 光学材料の製造法 - Google Patents

光学材料の製造法

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JPH05112614A
JPH05112614A JP10301092A JP10301092A JPH05112614A JP H05112614 A JPH05112614 A JP H05112614A JP 10301092 A JP10301092 A JP 10301092A JP 10301092 A JP10301092 A JP 10301092A JP H05112614 A JPH05112614 A JP H05112614A
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JP
Japan
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optical material
fumarate
polymerization initiator
dicarboxylic acid
weight
Prior art date
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Pending
Application number
JP10301092A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuyoshi Koinuma
康美 鯉沼
Takashige Murata
敬重 村田
Masafumi Nishimura
雅文 西村
Takayuki Otsu
隆行 大津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
Nippon Oil and Fats Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F22/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
    • C08F22/10—Esters
    • C08F22/12—Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F22/14—Esters having no free carboxylic acid groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式化１ 【化１】 で表わされるＲ1およびＲ2の少なくとも一つが芳香族環
を有するエステル残基であるジカルボン酸のジエステル
を主成分とする原料モノマーに、重合開始剤として選定
１０時間半減期温度が１００℃以下の有機過酸化物また
はアゾ化合物を配合し、所定の型内に注入して加熱硬化
させることを特徴とする光学材料の製造法。 【効果】本発明の製造法では、従来の光学材料に比し
て、耐熱性、耐候性に優れ、屈折率も大巾に改善され、
さらに加工時の低収縮性、型との離型性にも優れる光学
材料を、容易に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特殊なジカルボン酸の
ジエステルの重合物あるいは当該共重合体からなる光学
材料の製造法に関し、さらに詳しくは、耐熱性、高屈折
率、低収縮性、耐候性、離型性等に優れた光学材料の製
造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、プラスチック素材は、その有
する透明性、軽量性、安全性、加工性等の優れた特性を
生かし無機ガラスの代替品として使われてきている。
【０００３】その代表的なものとして、ポリメチルメタ
クリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリ
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリス
チレン等が挙げられる。
【０００４】これらプラスチック素材は、無機ガラスに
比して耐傷性、屈折率、耐熱性等において劣っている点
もあるが、前述の優れた特性を生かし広く光学分野で使
用されている。しかし、例えばポリメチルメタクリレー
ト、ポリシクロヘキシルメタクリレートおよびポリジエ
チレングリコールビスアリルカーボネートでは、屈折率
がｎD＝１．４９〜１．５０程度と低いため、レンズに
成型した場合無機ガラスに比してかなり厚いものが要求
され、注型成型においてはその熱硬化時の収縮率が１０
〜２０％と著しく大きいため成型にかなり高度な技術が
必要である他、耐熱性に劣るなどの欠点があった。
【０００５】また、ポリスチレン、ポリカーボネートで
は屈折率に関してはｎD＝１．５９程度と高いものの、
耐候性、耐薬品性、耐熱性に欠点を有しており、成型法
については射出成型等の溶融成型によるものが多く、多
種品目生産に有利な注型成型法に適さないなどの欠点が
あった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐熱
性、耐候性に優れ、屈折率も大巾に改善され、さらに加
工時の低収縮性、型との離型性にも優れる光学材料を、
容易に製造することが可能な光学用樹脂の製造法を提供
することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
化２
【０００８】
【化２】
【０００９】で表わされるＲ1およびＲ2の少なくとも一
つが芳香族環を有するエステル残基であるジカルボン酸
のジエステルを主成分とする原料モノマーに、重合開始
剤として選定１０時間半減期温度が１００℃以下の有機
過酸化物またはアゾ化合物を配合し、所定の型内に注入
して加熱硬化させることを特徴とする光学材料の製造法
が提供される。
【００１０】本発明の製造法に用いるジカルボン酸のジ
エステルとしては、例えばジフェニルフマレート、ジベ
ンジルフマレート、ジフエネチルフマレート、ジ（クロ
ルフェニル）フマレート、ジ（ブロムフェニル）フマレ
ート、ジ（クロルベンジル）フマレート、ジ（ブロムベ
ンジル）フマレート、イソプロピル−フェニルフマレー
ト、イソプロピル−ベンジルフマレート、シクロヘキシ
ル−フェニルフマレート、シクロヘキシル−ベンジルフ
マレート、アリル−フェニルフマレート、アリル−ベン
ジルフマレート、ジフェニルマレート、ジベンジルマレ
ート、アリル−フェニルマレート、アリル−ベンジルマ
レート等が挙げられる。上記のフマレートおよびマレー
トともエステル残基の少なくとも１つが芳香族環を有す
ることが特徴であり、当該芳香族環が、アルキル基やハ
ロゲン基等の核置換体であってもよいが、トランス体で
あるフマレートの方がシス体であるマレートよりも好ま
しい。
【００１１】本発明の製造法に用いる原料モノマーとし
ては、上記ジカルボン酸のジエステルの１種あるいは２
種以上の他に、ラジカル重合性二重結合を有するモノマ
ー等を用いることも可能である。
【００１２】ラジカル重合性二重結合を有するモノマー
としては、例えばスチレン、０−メチルスチレン、０−
クロルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化
合物、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート等
のメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチル
アクリレート等のアクリル酸エステル、酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル等のカルボン酸ビニル、ジアリルフマ
レート、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化
合物が挙げられる。この場合、前記ジカルボン酸のジエ
ステルに対するラジカル重合性二重結合を有するモノマ
ーの共重合組成比としては、任意の組成比で実施可能で
あるが、好ましくはジカルボン酸のジエステル／ビニル
モノマー（重量比）９５／５〜１０／９０の範囲であ
る。
【００１３】本発明の製造法において前記原料モノマー
を重合させる際に用いられる重合開始剤は、選定１０時
間半減期温度が１００℃以下の有機過酸化物ないしアゾ
化合物の１種ないし２種以上が使用される。その例とし
て、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルペルオキシジカ
ーボネート、ターシャリーブチルペルオキシピバレー
ト、ターシャリーブチルペルオキシネオデカノエート、
ターシャリーブチルペルオキシジイソブチレート、アゾ
ビスイソブチルニトリル等が挙げられる。重合開始剤の
使用量としては原料モノマー総重量に対して１０重量％
以下が好ましく、さらに好ましくは５重量％以下であ
る。本発明で前記重合あるいは共重合により光学材料を
得るには、当該原料モノマーに重合開始剤を加えた配合
物を直接所望の型内に仕込み、系を加熱硬化させる方法
が好ましく、重合あるいは共重合させた後の溶融成型は
適さない。この場合、適時、重合系を不活性ガス例え
ば、窒素、二酸化炭素、ヘリウム等で置換ないし、雰囲
気下にすることが望ましい。
【００１４】また、原料モノマーに重合開始剤を添加
後、所定の温度下で前もって若干重合あるいは共重合さ
せておいた後、所望の型内に仕込み、加熱硬化させて重
合を完結させる方法を取ることも可能である。
【００１５】なお、前記、加熱硬化させる場合の温度と
しては、使用する重合開始剤により異なるが３０〜１０
０℃の範囲が好ましいが、使用する重合開始剤の１０時
間半減期温度程度がさらに好ましい。また、硬化時間の
短縮および未反応モノマーや重合開始剤の残存量を減ら
す目的で適時、硬化温度を昇温させることも可能であ
る。この場合、硬化に要する全時間としては１０〜６０
時間程度である。
【００１６】
【発明の効果】本発明の製造法では、従来の光学材料に
比して、耐熱性、耐候性に優れ、屈折率も大巾に改善さ
れ、さらに加工時の低収縮性、型との離型性にも優れる
光学材料を、容易に製造することができ、得られる光学
材料は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー
等に応用できる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が実施例によって本発明が制限されるものでない。
【００１８】
【実施例１】４０℃に保温したアリル−ベンジルフマレ
ート１００重量部に重合開始剤としてジイソプロピルペ
ルオキシジカーボネート３重量部を仕込み、この混合液
を、２枚の２０ｃｍ×２０ｃｍ硬質ガラス板とシリコン
ゴムパッキンで構成された型内に流し込み、窒素雰囲気
下４０℃のオーブン中に２４時間保存した。その後１０
０℃で２４時間保持し硬化を完了させた。得られた材料
の特性を表１に示した。 なお、硬化後の収縮率は、ガ
ラス板に指標された目盛りより、重合前と重合後の線収
縮の変化より次式に従って算出した。
【００１９】 [(重合前の長さ)−(重合後の長さ)]／(重合前の長さ) 屈折率はアッベ屈折計により測定し、耐熱性は１５０℃
の熱風下で材料が変形しないものを合格とした。離型性
は硬化後重合物が無理なくガラス面より離型するものを
合格とした。
【００２０】
【実施例２】６０℃に保温したジフエニルフマレート９
０重量部およびジアリルフマレート１０重量部に、重合
開始剤として過酸化ベンゾイル３重量部を用い８０℃で
２４時間重合硬化させた以外は実施例１と全く同様に行
なった。
【００２１】
【実施例３】７０℃に保温したジベンジルフマレート９
０重量部およびイソフタル酸ジアリル１０重量部に重合
開始剤として過酸化ベンゾイル３重量部を用いた以外実
施例２と全く同様に行なった。
【００２２】
【実施例４】４０℃に保温したアリル−ベンジルフマレ
ート５０重量部、０−クロルスチレン４０重量部および
メチルメタクリレート１０重量部に重合開始剤としてジ
イソプロピルペルオキシジカーボネート３重量部を用い
た以外実施例１と全く同様に行なった。
【００２３】
【比較例１〜３】スチレン、メチルメタクリレートおよ
びジエチレングリコールビスアリルカーボネートの各々
単独モノマー１００重量部に重合開始剤としてジイソプ
ロピルオキシジカーボネート３重量部を加え、実施例１
と全く同様に重合を行ない比較例とした。
【００２４】以上の結果を表１に示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１から明らかなように、実施例のものは
すべて屈折率が１．５５以上と高く、収縮率が小さく、
耐熱性および離型性も良好なので、光学材料として比較
例のものより著しく優れていることがわかる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式化１ 【化１】 で表わされるＲ1およびＲ2の少なくとも一つが芳香族環
    を有するエステル残基であるジカルボン酸のジエステル
    を主成分とする原料モノマーに、重合開始剤として選定
    １０時間半減期温度が１００℃以下の有機過酸化物また
    はアゾ化合物を配合し、所定の型内に注入して加熱硬化
    させることを特徴とする光学材料の製造法。
JP10301092A 1992-04-22 1992-04-22 光学材料の製造法 Pending JPH05112614A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58201814A (ja) * 1982-05-19 1983-11-24 Nippon Oil & Fats Co Ltd 新規な共重合体の合成法
JPS59117513A (ja) * 1982-12-25 1984-07-06 Nippon Oil & Fats Co Ltd スチレンの新規共重合体

Patent Citations (2)

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JPS58201814A (ja) * 1982-05-19 1983-11-24 Nippon Oil & Fats Co Ltd 新規な共重合体の合成法
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