JPH0511276A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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Publication number
JPH0511276A
JPH0511276A JP3166989A JP16698991A JPH0511276A JP H0511276 A JPH0511276 A JP H0511276A JP 3166989 A JP3166989 A JP 3166989A JP 16698991 A JP16698991 A JP 16698991A JP H0511276 A JPH0511276 A JP H0511276A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistance element
liquid crystal
crystal display
electrode
metal
Prior art date
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Pending
Application number
JP3166989A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Iizuka
哲也 飯塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Electronic Engineering Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP3166989A priority Critical patent/JPH0511276A/ja
Publication of JPH0511276A publication Critical patent/JPH0511276A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 静電気が生じ絶縁破壊が生じても表示欠陥を
生じにくい液晶表示装置を提供する。 【構成】 ガラス基板1上に、配線電極2および非線形
抵抗素子3を構成する下部金属4のパターニングを行な
う。平行な等ピッチの複数個のグループの引き出し用の
配線部5および外部接続用のパッド部6を形成する。下
部金属4の表面に、非線形抵抗素子3の酸化膜を形成す
る。非線形抵抗素子3の上部金属7のパターニングを行
なう。ITOを全面に薄膜形成後、画素表示電極8をパ
ターニングする。パッド部6にもITO膜9を残すとと
もに、導電体のべた膜のパターン部10を隣接するパッド
部6,6間に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属ー絶縁体ー金属
(Metal-Insulator-Metal )の非線形抵抗素子をスイッ
チング素子として基板に設けた液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶表示装置は、時計・電卓等の
比較的小容量のものから、パーソナル・コンピュータ、
ワード・プロセッサ、さらにはオフィスオートメーショ
ン用の端末機器、テレビ画像表示などの大容量表示用途
に使用されてきている。
【0003】そして、従来の液晶表示装置においては、
マトリクス表示のマルチプレックス駆動方式、いわゆる
単純マトリクス方式を用いるのが一般的である。ところ
が、この単純マトリクス方式では、走査線数の増加に伴
って表示部分と非表示部分のコントラスト比が劣化する
ため、大規模なマトリクス表示には不適である。
【0004】そこで、個々の画素をスイッチング素子に
よって駆動する、いわゆるアクティブマトリクス方式が
開発されている。スイッチング素子としては薄膜トラン
ジスタや非線形抵抗素子を用いるが、なかでも非線形抵
抗素子は基本的に二端子で構造が簡単なため、製造コス
トの面で有利である。
【0005】また、非線形抵抗素子としては種々の方式
が開発されているが、そのなかで金属ー絶縁体ー金属
(Metal-Insulator-Metal)構造を持つもののみが、現
在唯一実用化がなされている。
【0006】そして、金属ー絶縁体ー金属構造を持つ非
線形抵抗素子を有する従来の液晶表示装置を説明する。
【0007】まず、ガラス基板1上にタンタル(Ta)
からなる第1の金属層をスパッタリング法により薄膜形
成した後、1回目のフォトリソグラフィー工程により、
図3に示すように、配線電極2およびこの配線電極2か
ら垂直方向に突設された非線形抵抗素子3を構成する下
部金属4のパターニングを行なう。このとき同時に、図
7に示すように等ピッチの複数個のグループの引き出し
用の配線部5および配線電極であるパッド部6を形成す
る。
【0008】次に、陽極酸化法等を用いて第1の金属層
にて形成された下部金属4の表面に、非線形抵抗素子3
の絶縁膜となる酸化膜を形成する。
【0009】さらに、全面に非線形抵抗素子3の上部金
属7となる第2の金属層をスパッタリング法により薄膜
形成した後、2回目のフォトリソグラフィー工程を用い
て図4に示すように、下部金属4に交差させた非線形抵
抗素子3の上部金属7のパターニングを行なう。
【0010】最後に、ITO(Indium Tin Oxide)を全
面に薄膜形成後、3回目のフォトリソグラフィー工程に
より、図5に示すように、画素表示電極8をパターニン
グする。このとき、図7に示すように、パッド部6にも
ITO膜9を残すことにより液晶表示装置が形成され
る。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】一方、本液晶表示装置
のように、非線形抵抗素子3をスイッチング素子として
用いる場合、素子の特性不良として画素表示電極8単位
の表示欠陥がいわゆる点欠陥となる。
【0012】また、素子の特性不良には様々な要因が考
えられるが、金属ー絶縁体ー金属(Metal-Insulator-Me
tal )構造を持つMIM素子である非線形抵抗素子3に
関しては、絶縁膜である酸化膜が500〜700オング
ストローム程度と薄いため、耐電圧が低く、工程中に発
生する静電気によって絶縁破壊を起こしやすい。なお、
液晶表示装置のアレイ工程中は、各配線電極2はパッド
部6の外側において、図示しないショートリングによっ
て短絡されているため、比較的静電気に対して強い。
【0013】しかしながら、ショートリングは液晶表示
装置のセル化後に切り落とされるため、セル化後は、各
配線電極2は電気的に独立となり、静電気に対して無防
備な状態となる。このため、セル工程からモジュール工
程にかけて静電気が発生した場合、パッド部6を介し
て、配線電極2に接続したスイッチング素子である非線
形抵抗素子3の絶縁破壊を引き起こし、その結果配線電
極2に沿って点欠陥が発生することがある。
【0014】とくに図7に示す液晶表示装置のように、
パッド部6を複数個のグループに分割するような場合、
パッド部6のグループ間はガラス面が露出した形となり
静電気が発生しやすい。その結果、分割部分のパッド部
6、すなわちパッド部6のグループの両端に接続された
配線電極2上の非線形抵抗素子3は絶縁破壊を起こしや
すい。したがって、このように図8に示すように、グル
ープの両端のパッド部6,6間に静電気が発生すると、
×印の部分に絶縁破壊が生じ、表示欠陥となる問題を有
している。。
【0015】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、静電気が生じ絶縁破壊が生じても表示欠陥を生じに
くい液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、複数の画素表示電極と、これら複数の画素表示電極
に電気的に接続された金属ー絶縁体ー金属構造の非線形
抵抗素子と、等ピッチの複数個のグループ毎に配線電極
により前記非線形抵抗素子に接続された電極端子とが基
板上に形成された液晶表示装置において、前記電極端子
のグループ間に導電体を配設したものである。
【0017】
【作用】本発明は、電極端子のグループ間に導電体のパ
ターンを配置することにより、電極端子のグループ間で
の基板上の静電気の発生を抑え、グループ端部での静電
破壊を防ぎ、画素表示電極の表示欠陥を防ぐ。
【0018】
【実施例】以下、本発明の液晶表示電極の一実施例を図
面を参照して説明する。
【0019】従来例と同様に、まず、ガラス基板1上に
タンタル(Ta)からなる第1の金属層をスパッタリン
グ法により薄膜形成した後、1回目のフォトリソグラフ
ィー工程により、図3に示すように、配線電極2および
この配線電極2から垂直方向に突設された非線形抵抗素
子3を構成する下部金属4のパターニングを行なう。こ
のとき同時に、図2に示すように等ピッチの複数個のグ
ループの引き出し用の配線部5および外部接続用の電極
部であるパッド部6を形成する。
【0020】次に、陽極酸化法等を用いて第1の金属層
にて形成された下部金属4の表面に、非線形抵抗素子3
の絶縁膜となる酸化膜を形成する。
【0021】さらに、全面に非線形抵抗素子3の上部金
属7となる第2の金属層をスパッタリング法により薄膜
形成した後、2回目のフォトリソグラフィー工程を用い
て図4に示すように、下部金属4に交差させた非線形抵
抗素子3の上部金属7のパターニングを行なう。
【0022】最後に、ITO(Indium Tin Oxide)を全
面に薄膜形成後、3回目のフォトリソグラフィー工程に
より、図5に示すように、画素表示電極8をパターニン
グする。このとき、図1に示すように、パッド部6にも
ITO膜9を残すとともに、導電体のべた膜のパターン
部10を隣接するパッド部6,6間に配置し液晶表示装置
が形成される上記実施例では、パッド部6,6間に配置
するパターン部10として画素表示電極8の材料であるI
TOを用いている。これは、パッド部6のグループ両端
にTAB法のアウターリードボンディング(Outer Lead
Bonding)用のアライメントマークを配置した場合を考
慮しており、通常光学的なアライメントを行なっている
ために、パッド部6のグループ間にパターン部10を配置
しても光学的な干渉を起こさせないためである。
【0023】上記のような光学的なアライメントを行な
わない場合、パッド部6のグループ間に配置されるパタ
ーンは第1の金属層、第2の金属層、ITOのいずれの
導電体でも同様の効果が得られる。
【0024】上記実施例によれば、図6に示すようにパ
ッド部6,6のグループ間の基板1上で静電気の発生が
抑えられるため配線電極2を介してスイッチング素子と
なる非線形抵抗素子3に絶縁破壊される静電気が生じな
いので、画素表示電極8に表示欠陥が発生しにくい。
【0025】
【発明の効果】本発明の液晶表示装置によれば、電極端
子のグループ間に導電体のパターンを配置することによ
り、電極端子のグループ間での基板上の静電気の発生を
抑え、グループ端部での静電破壊を防ぎ、画素表示電極
の表示欠陥を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶表示装置の一実施例で図2の次の
工程を示す平面図である。
【図2】同上一工程を示す平面図である。
【図3】同上画素表示電極近傍を拡大した一工程図であ
る。
【図4】同上図3の次の工程図である。
【図5】同上図4の次の工程図である。
【図6】同上動作を示す説明図である。
【図7】従来例の液晶表示装置を示す平面図である。
【図8】同上動作を示す説明図である。
【符号の説明】
2 配線電極 3 非線形抵抗素子 6 配線電極としてのパッド部 8 画素表示電極 10 導電体としてのパターン部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 複数の画素表示電極と、これら複数の画
    素表示電極に電気的に接続された金属ー絶縁体ー金属構
    造の非線形抵抗素子と、等ピッチの複数個のグループ毎
    に配線電極により前記非線形抵抗素子に接続された電極
    端子とが基板上に形成された液晶表示装置において、 前記電極端子のグループ間に導電体を配設したことを特
    徴とする液晶表示装置。
JP3166989A 1991-07-08 1991-07-08 液晶表示装置 Pending JPH0511276A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3166989A JPH0511276A (ja) 1991-07-08 1991-07-08 液晶表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3166989A JPH0511276A (ja) 1991-07-08 1991-07-08 液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0511276A true JPH0511276A (ja) 1993-01-19

Family

ID=15841338

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3166989A Pending JPH0511276A (ja) 1991-07-08 1991-07-08 液晶表示装置

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