JPH0511287A - レーザー光波長変換装置 - Google Patents

レーザー光波長変換装置

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JPH0511287A
JPH0511287A JP3159530A JP15953091A JPH0511287A JP H0511287 A JPH0511287 A JP H0511287A JP 3159530 A JP3159530 A JP 3159530A JP 15953091 A JP15953091 A JP 15953091A JP H0511287 A JPH0511287 A JP H0511287A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】波長変換素子である結晶の光破壊を防ぎ、且つ
高い波長変換効率を得ることのできるレーザー光波長変
換装置を提供する。 【構成】光共振器15内で波長変換素子14に入射レー
ザー光を集光するための光ビームの断面形状を非円形、
好ましくは楕円形、にする集光光学系を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザー光の波長を
変換する装置、特にレーザー光の波長を変換する波長変
換素子の光破壊を防ぎながら高い波長変換効率を得るこ
とのできるレーザー光波長変換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来よりレーザー光のような強いコヒー
レントな光は、二次の非線形光学効果を持つ媒質(すな
わち波長変換素子。このような媒質は光学結晶であるこ
とが多いので以下これを単に結晶と呼ぶ)、に通すこと
により、入射した光の周波数の二倍の周波数の光波、あ
るいは入射した光が複数の周波数成分を含む場合にはそ
れら二つの成分の周波数の和や差の周波数を持つ光波、
を発生することが知られている。これらはそれぞれ第二
高調波発生、和周波発生、差周波発生と呼ばれる。これ
らの変換効率、すなわち変換された新しい周波数の出力
光強度の入射光強度に対する割合、を高くするには位相
整合と呼ばれる条件を満たす必要がある。
【0003】位相整合のための条件は、第二高調波発生
の場合、結晶の基本波(入射光)と発生した第二高調波
(出力光)のそれぞれに対する屈折率が等しいことであ
る。このような位相整合は結晶の複屈折性を利用して例
えば基本波(入射光)に常光線を、第二高調波(出力
光)に異常光線を使う事によって実現できる。結晶の種
類によっては、結晶の向きや温度を適当に選ぶことで、
ある決まった入射光の波長の範囲内で、この位相整合条
件を実現することができる。特に結晶の向きを変えて位
相整合条件を実現する結晶を角度位相整合型と呼ぶ。
【0004】この角度位相整合型結晶の一例としてとし
てβ硼酸バリウム(β−BaB24)結晶がある(以下
BBOと呼ぶ)。BBOは波長変換素子としていくつか
の優れた点を持つ、すなわち、紫外域まで大きな非線形
感受率を持ち、透明域が広く、位相整合も広い波長域で
とれ、化学的に安定であり、光破壊強度も比較的強い一
軸性の結晶である。このBBOを波長変換素子として用
い複数の反射面を持つ光共振器と組合せてレーザー光を
変換することが従来提案されている(H.Souma、
T.Sato、T.Nishimata、I.Shin
do: Proceeding of Interna
tional Quantum Electronic
s Conference 1988 Tokyo,P
D−7(1988)19−22参照)。
【0005】しかしながら、入射光の強度が弱い時に
は、波長変換器の出力光の強度は入射光の強度の2乗に
比例する。このため、連続発振レーザーからの低い強度
の光を入射光として用いる場合は変換効率は極端に低く
なる。従って高い変換効率を求めるためには、集光光学
系を光共振器と組合せて用いて結晶に基本波(入射光)
を集光する必要がある。しかし光共振器内の光の強度は
実際に共振器外へ出力される出力光の強度よりもずっと
大きいので、共振器内の光を球面レンズからなる集光光
学系により一点に収束する光ビームを結晶に集光する
と、結晶が光により破壊又は損傷される。
【0006】この結果、実用的なレーザー光波長変換器
の変換効率は結晶の光破壊又は損傷の条件により決定さ
れることになる。
【0007】他方、従来から円柱レンズを用いて波長変
換素子である非線型光学結晶(BBO等)に集光するこ
とが提案されている(T.G.M.Freegard
e,J.Courts,A.Corney "Seco
nd Harmonic Generation in
β−Barium Borate using El
liptical Foucusing",Nonli
near OpticalProperties of
Materials,1988 Technical
Digest Series Volume 9,A
ugust 22−25, 1988, Troy,
New York,pp. 77−80及びV.D.V
olosov,E.V.Nilov "Efect o
f the Spatial Structure o
f a Laser Beamon the Sec
ond Harmonic in ADP and K
DP Crystals",Optical Spect
roscopy(USSR)Vol.21(1966)
pp392−394)。しかしながらこれら従来技術に
おいては、光共振器内に波長変換素子を置くことを考え
ていないので光が強力に増幅されることもなく、波長変
換素子の光破壊は大きな問題とならなかった。また、こ
れらの従来例では、比較的出力の低い連続発振型レーザ
ー光の波長変換効率を高めることについては、なにも示
唆するものがなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、変換素子
である結晶の光破壊を防ぎ、且つ高い波長変換効率を得
る事のできるレーザー光波長変換装置を提供することを
目的とする。特に、連続発振型のレーザー光を効率良く
変換できるレーザー光波長変換装置または連続発振型の
レーザー光を効率良く変換して出力できるコヒーレント
光発生装置を提供することを目的とする。さらに、入射
又は発生された可視光レーザー光の周波数を2倍にして
1ワット以上の深紫外領域の光に変換し又は出力するこ
とが可能な装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明によるレーザー
光波長変換装置又はコヒーレント光発生装置は、光共振
器内の結晶に入射レーザー光を集光するための集光光学
系を有する。この集光光学系は集光する光ビームの断面
を非円形、好ましくは楕円形、にする光学系を含む。
【0010】この発明によれば、結晶に集光される光ビ
ームが楕円形などの非円形の断面を有するから光共振器
内の光エネルギが結晶内の一点に収束されない。従って
光共振器内の光ビームのエネルギが結晶内の一点に集中
することによる光破壊を防ぐことができる。
【0011】しかも、この発明のように結晶に集光する
光ビームの集光に方向性を持たせても、波長変換効率は
変わらない。これは結晶が波長変換するための光を受け
入れることのできる角度、すなわち受容角に方向性を有
するから、この受容角の方向性に合うように光ビームを
集光してやれば、結晶の変換効率は円形断面の光ビーム
と変わらない。しかも、余分な方向の光の集光をしない
ためそれだけ、光エネルギーの集中を防げ光破壊を防ぐ
ことができる。
【0012】
【発明の説明】以下、この発明を図面を参照して説明す
る。最初にこの発明の原理を説明する。図1はこの発明
に用いられる結晶の受容角の様子を示す図である。図2
はこの発明による円筒レンズによる集光光学系の様子を
示す図である。図1に示すように結晶1は集光される光
iを有効に波長変換に変換することのできる角度範囲、
受容角θ、を有し、この受容角θの範囲内の入射光iだ
けを有効に波長変換することができる。従って、集光さ
れる入射光iが受容角θの範囲内に入るよう、図2の集
光光学系2の集光角φの大きさをθ>φに選んでやる必
要がある。θ>φの関係が成り立つ時、この集光光学系
2により効率がS/s倍だけ向上する。但し、Sは集光
前の入射光iの断面積であり、sは結晶1内に収束され
た場所での入射光iの断面積である。
【0013】しかし、実際の結晶1の受容角θには方向
性があり、結晶1のC軸と光軸Zを含む平面(ZX−平
面)内の受容角θyとZX−平面に垂直で光軸Zを含む
平面(YZ−平面)内の受容角θxとでは異なる大きさ
を持ち、一般にθx>θyである。特に、角度位相整合型
の結晶の場合はθx>>θyとなり、θyがθxに比較して
非常に小さい。したがって、集光はYZ−平面内での集
光が変換効率を決め、ZX−平面内での変換集光は効率
をあげるには効果的ではない。これは集光角φはわずか
な大きさでもθyを越え、θx>φ>θyという関係にな
るので、θy方向すなわちZX−平面内の集光の大部分
が受容角θyの範囲外に落ちてしまうからである。この
様な結晶1の受容角θx、θyの関係に対応して最適の条
件で入射光ビームiを集光するには、光ビームの収束に
方向性を持たせることが必要である。すなわち、集光ビ
ームの断面積形状を非円形好ましくは楕円形にする円柱
レンズ又は円筒鏡を含む集光光学系を用いることが好ま
しい。
【0014】しかも、円柱レンズ又は円筒レンズによる
集光ビームの断面積の形状は楕円形となり、一点に収束
するかたちの球面レンズの集光光学系による集光ビーム
断面積より大きく光エネルギを分散するので、結晶の光
破壊を防ぐことができる。これは、波長変換素子を光共
振器内に置いてさらに集光光学系で連続出力のレーザー
光を集光して変換効率を高めようとする場合に利点とな
る。なぜならば球面レンズのを集光系を用いて連続出力
レーザーの入射レーザー光を光共振器内にある BBO
へ連続集光すれば、BBO内の光強度は光破壊を引き起
こす強度を越すからである。しかし、同じ焦点距離の円
柱レンズを用いれば球面レンズに比べて焦点での光強度
は下がるので、連続光を用いてBBOへ集光しても光損
傷を回避できしかも変換効率を下げることがない。なん
となれば、円柱レンズはBBOの一方向(ZX−平面
内)の集光を他方向(ZY−平面内)に比べて弱くして
いるが、このZX−平面内での集光はもともと変換効率
にたいして寄与していないからである。変換に寄与する
他方向(ZY−平面内)は球面レンズと同様な集光がお
こなわれる。
【0015】
【実施例】図3はこの発明の一実施例のコヒーレント光
発生装置を示す。5はレーザー媒質を内に有するプラズ
マ管で、連続発振型のアルゴン・レーザーであってよ
い。このアルゴン・レーザーは出力1ワットの可視光範
囲の波長ν1(例えば514.5 nm、基本波)のコ
ヒーレントな連続波(CW)レーザー光9を発生するも
のであってよい。6は波長ν1の光及び波長ν1の第二
高調波の深紫外域光(波長ν2=257nm)に対して
高反射率を持つ平面鏡である。7は波長ν1の光には高
反射率を持つが波長ν2の光には高透過率を持つ凹面鏡
である。従って、凹面鏡7は波長ν2の光10の出力鏡
となる。8は開口である。11は球面レンズである。1
2及び13は円柱レンズである。14は波長変換素子と
してのBBOであり、BBO14は円柱レンズ12およ
び13の間に挟まれている。光反射面6と7との間に、
レーザー媒質5、開口8、球面レンズ11、円柱レンズ
12及び13、BBO14が配置されている。光反射面
6と7はその間に波長ν1の定在波を発生するファブリ
ー・ペロー型の光共振器15を形成する。円柱レンズ1
2及び13はこの共振器15内に往復するレーザー媒質
5からの波長ν1のレーザー光9をBBO14に向けて
集光する。
【0016】円柱レンズ12及び13は集光されるレー
ザー光ビームの断面形を楕円形にする。すなわち、BB
OのYZ−平面方向の成分は大きく収束するがZX−平
面方向の成分はあまり収束しない。これは、角度位相整
合型の結晶(BBOもその一つ)では、受容角の方向成
分θyが図1に示すようにθxに比べて非常に小さいの
で、ZX−平面方向の集光はYZ−平面方向の集光に比
べてBBOの変換効率の向上に寄与しないからである。
ZX−平面方向の集光はBBO内の光強度を高めて光損
傷に寄与するだけである。この実施例の円柱レンズ12
及び13は、このZX−平面内の集光を下げてBBOに
集光してエネルギの集中を避けて光破壊を防ぐ一方、θ
xの大きいYZ−平面内では集光率を高くして波長変換
効率を高めている。
【0017】アルゴン・レーザー媒質5が発生する可視
光波長514.5nmの1Wのレーザー光9を、開口8
と球面レンズ11とで直径2mmの光ビームにして、焦
点距離50mmの円柱レンズ対12および13を用いて
BBO14(長さ6.5mmにしたもの)に集光した
時、125μWの深紫外域にある光波長257nmのコ
ヒーレントな第二高調波10が得られた。この第二高調
波10は出力鏡7より取り出される。
【0018】これは、円柱レンズの代りに同じ焦点距離
の球面レンズ対を用いて集光した時に得られる第二高調
波出力とほぼ同じ大きさである。しかし、焦点での光強
度は円柱レンズの場合は球面レンズに比べて80分の一
程度になる。したがって、光共振器15内におかれたB
BO14内の光強度は球面レンズの場合の8MW/cm
2から100kW/cm2程度に下がり、BBOは光破壊
を受けなくなる。
【0019】このように、BBOを用いて500nm近
傍の可視光波長の光の第二高調波を発生する時は、円柱
レンズと球面レンズによる効率の違いはほとんどないの
で、円柱レンズによる集光系を用いれば光損傷の無い高
効率の光共振器をもちいてアルゴン・レーザーから深紫
外域光の発生を行う事ができる。
【0020】この発明によれば、BBOの光損傷を波長
変換効率を下げなくても防ぐことができる。したがっ
て、光共振器内のレンズ、BBOや反射鏡に適当なコー
テイングをほどこして共振器内の光損失を少なくすれ
ば、容易に従来の連続出力型のアルゴン・レーザーを用
いて、1W以上の深紫外光(レーザー発振光の第二高調
波)を発生することが可能である。この深紫外域の変換
出力光は光リソグラフイやその他の多くの応用に使用可
能である。
【0021】なお、ここでは入射レーザー光の第二高調
波変換について述べているが、入射レーザー光が複数の
周波数を持つ場合、すなわち、レーザー媒質5がマルチ
・ラインでレーザー光を発振するとき、波長変換素子1
4はそのうちの2つの周波数の和周波発生、又は差周波
発生等の他の波長変換もできる。この発明は第二高調波
変換に限らず他の波長変換に適用できる事は明らかであ
る。
【0022】図4はこの発明の次の実施例を示すもので
ある。図3の実施例と同一の構成は同じ参照符合を付し
てその説明を省略する。この実施例では結晶14の受容
角θyが非常に小さく、このため結晶14の損傷を防ぐ
ためにZX−平面内で光ビームを逆に拡げるための構成
である。このために凹レンズ20が開口8と球面レンズ
11との間に置かれている。したがって、この実施例で
は結晶14への集光はZY−平面内だけでおこなわれ
る。
【0023】図5はこの発明の別の実施例を示すもので
ある。図3の実施例と同一の構成は同じ参照符合を付し
てその説明を省略する。この実施例ではコヒーレント光
発生装置全体の長さを小さくするために、光共振器15
の真中に第二高調波10を取り出すための出力鏡30を
有する。この出力鏡30は波長ν1の基本波9に対して
高反射率を有し、波長ν2の第二高調波10に対しては
高透過率を有する。凹面鏡31は基本波9及び第二高調
波10の両方に対して高反射率を有する。鏡31は第二
高調波10を透過するものを用いれば、この鏡31から
も第二高調波10を取り出す事もできる。
【0024】図6はこの発明の別の実施例を示すもので
ある。図3の実施例と同一の構成は同一符合を付してそ
の説明を省略する。この実施例では光共振器40がリン
グ型の構成を有し、光が一方向にしか回らない様にして
いるので第二高調波10も一方向からしか出てこないの
で都合がよい。41は基本波9には高反射率を、第二高
調波10には高透過率を有する出力鏡である。42及び
43は基本波9及び第二高調波10の両方に対して高反
射率を有する凹面鏡である。
【0025】図7及び図8はそれぞれこの発明の別の実
施例を示すものである。図3の実施例と同一の構成は同
一符合を付してその説明を省略する。図7及び図8の実
施例では、結晶14と、結晶14に集光する円柱レンズ
対12及び13、及び結晶14及び円柱レンズ対12及
び13を内部に含む光共振器55又は65を形成する反
射鏡51、52、又は61、62、63を持つたレーザ
ー光波長変換装置50または60が、レーザー光源70
の外部に設けられていて、レーザー光源70からのレー
ザー光(基本波)9をその第二高調波10に変換する。
図7の波長変換装置50はフアブリー・ペロー型の光共
振器を形成する。図8の波長変換器60はリング型の光
共振器を形成する。反射鏡51、61は入射鏡で基本波
9を共振器55又は65内に入射するが、共振器55又
は65内の基本波9及び第二高調波10のいずれに対し
ても高反射率を持つ。出力鏡52、62は基本波9に対
しては高反射率を有し、第二高調波10に対しては高透
過率を持つ。反射鏡63は基本波9及び第二高調波10
のいずれに対しても高反射率を有する。
【0026】なお以上の実施例の説明で、集光光学系の
円柱レンズ対12及び13を半透明の円筒面鏡に代えて
もよい。
【0027】
【発明の効果】以上説明してきたように、この発明は、
光共振器とこの光共振器内に置かれた非線型光学素子の
波長変換素子、特に角度位相整合型の結晶、を用いる非
線型光学的波長変換装置において、共振器内の増幅され
た光強度が変換素子へ及ぼす光破壊の影響を少なくし
て、高い波長変換効率を得る事ができるという優れた効
果を有する。この発明の波長変換装置が最も有効なの
は、効率の高い90度位相整合型の変換素子が得られな
い又は使用が難しい波長域で、角度位相整合型の波長変
換素子を用いて連続発振の弱い光の波長変換を行う場合
である。この例としては、アルゴン・レーザーの第二高
調波の発生がある。この第二高調波は深紫外域にあり、
光リソグラフイや他の光処理の応用が多数考えられる。
また可視光域への又は可視光域内への波長変換レーザー
にも応用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】波長変換素子の結晶とその受容角を表す図、
【図2】レンズによる集光と集光角を表す図、
【図3】この発明の一実施例のコヒーレント光発生装置
を示す図、
【図4】この発明の別の実施例のコヒーレント光発生装
置を示す図、
【図5】この発明の別の実施例のコヒーレント光発生装
置を示す図、
【図6】この発明の別の実施例のコヒーレント光発生装
置を示す図、
【図7】この発明の別の実施例のレーザー光変換装置を
示す図、
【図8】この発明の別の実施例のレーザー光変換装置を
示す図、
【符号の説明】
5 レーザー媒質 6 反射面 7 反射面 12 円柱レンズ 13 円柱レンズ 14 波長変換素子
【手続補正書】
【提出日】平成4年8月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】この結果、実用的なレーザー光波長変換器
の変換効率は結晶の光破壊又は損傷の条件により決定さ
れることになる。これに加えて、従来技術は別の問題点
も有する。非線型光学効果を用いる従来の光波長変換装
置においては、非線型光学媒質に入射される基本波光ビ
ームの断面形状は上述したようにほぼ円形であるので、
このような場合は高い変換効率を得るには断面の円の直
径を十分に小さく収束する必要がある。しかし、非線型
光学媒質として角度位相整合型の非線型光学媒質を用い
る場合、角度位相整合型条件の受容角が水平方向と鉛直
方向とでは異なるため、十分小さい直径の基本波ビーム
を入射すると、得られる変換光が楕円あるいは眉月状の
形になることはよく知られていた。しかし、変換光のビ
ームをより詳しく調べると、図9に示すように楕円ある
いは眉月状の変換光ビーム91の中心部のまわりに平行
な縦じまが見られることかわかる。従来技術ではこの縦
じまを避けて、効率のよい波長変換を行うことはできな
かった。以下、この理由を図10に示す非線型光学媒質
として角度位相整合条件で用いるBBO結晶90を波長
514.5nmの緑色の光の周波数逓倍に使う場合を例
にとって詳しく説明する。この角度整合条件で用いる結
晶は、鉛直方向を向いた偏光を持つ入射光を水平に入射
するとき、変換光に対する屈折率が水平面内で進行方向
95からずれるに従って次第に変化するという性質があ
る。つまり、屈折率が角度依存性を持つ。この性質は結
晶90のウオーク・オフ方向94と呼ばれる。このた
め、変換光91は図11の中段に示すような横方向に広
がった第2高調波(非線型)双極子92から発生するも
のと考えることができる。図11の右側に示すように従
来の入射光(基本波)93が十分に小さい円形に収束す
るビーム径を持つ場合、非線型双極子92の広がりの分
布はガウス型というよりも、より矩形に近く、中央部で
ほぼ平坦、両端で急激に非線型双極子92の振幅が低下
することになる。このようなガウス型から外れた双極子
92の分布を持つ光源から得られる光91は遠方で見た
とき、中央の強いビームの周りに平行な縞が見られるこ
とになる。これは、有限の広がりを持つスリツトに光を
通したときに得られる、遠視野での光の強度分布と類似
している。つまり、中央が平坦で両端に急激に変化する
ような強度分布を持つコヒーレント光源から得られる光
の遠視野像はスリツトの両端からの回折の効果として、
遠視野像で中心部まわりの平行な縦じまが見られるので
ある。このような縦じまが存在すると光の集光性は悪く
なる。そこで縦じまを避けるためには入射光のビームの
直径を大きくすればよい。つまり、ウオーク・オフによ
る光源の広がりの大きさに対して十分に大きなビーム径
の入射光93を入れれば、ウオーク・オフの効果はほと
んど現れず、双極子(光源)92の分布も入射光(基本
波)の分布と同じガウス型になると考えることができ
る。従って、得られる変換光91の遠視野像もガウス型
となって、理想的な集光特性を持った変換光を得ること
ができるはずである。しかし、入射光ビーム径93が断
面円形であるため、入射光ビーム径93を広げると上下
方向の非線型分極の幅も広がり、結果として変換効率が
低下する。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、変換素子
である結晶の光破壊を防ぎ、集光性のよい優れたビーム
品質の光へと変換でき、かつ高い波長変換効率を得る事
のできるレーザー光波長変換装置を提供することを目的
とする。特に、連続発振型のレーザー光を効率良く変換
できるレーザー光波長変換装置または連続発振型のレー
ザー光を効率良く変換して出力できるコヒーレント光発
生装置を提供することを目的とする。さらに、入射又は
発生された可視光レーザー光の周波数を2倍にして1ワ
ット以上の深紫外領域の光に変換し又は出力することが
可能な装置を提供することを目的とする。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】この発明によれば、結晶に集光される光ビ
ームが楕円形などの非円形の断面を有するから光共振器
内の光エネルギが結晶内の一点に収束されない。従って
光共振器内の光ビームのエネルギが結晶内の一点に集中
することによる光破壊を防ぐことができる。また、この
発明によれば、入射レーザー光はウオーク・オフによっ
てビームが広がる面内でビーム径が始めから大きいの
で、結晶内での光のウオーク・オフによって光が広がっ
て伝播することによって引き起こされる、出力光のビー
ム特性(特に集光性)の劣化を低減できる。なお、ビー
ム特性の改善効果として、よりガウス型に近い縞模様の
ない出力光を得ることができる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】しかも、円柱レンズ又は円筒レンズによる
集光ビームの断面積の形状は楕円形となり、一点に収束
するかたちの球面レンズの集光光学系による集光ビーム
断面積より大きく光エネルギを分散するので、結晶の光
破壊を防ぐことができる。これは、波長変換素子を光共
振器内に置いてさらに集光光学系で連続出力のレーザー
光を集光して変換効率を高めようとする場合に利点とな
る。なぜならば球面レンズのを集光系を用いて連続出力
レーザーの入射レーザー光を光共振器内にある BBO
へ連続集光すれば、BBO内の光強度は光破壊を引き起
こす強度を越すからである。しかし、同じ焦点距離の円
柱レンズを用いれば球面レンズに比べて焦点での光強度
は下がるので、連続光を用いてBBOへ集光しても光損
傷を回避できしかも変換効率を下げることがない。なん
となれば、円柱レンズはBBOの一方向(ZX−平面
内)の集光を他方向(ZY−平面内)に比べて弱くし
ているが、このZX−平面内でのはもともと変換効率
にたいして寄与していないからである。変換に寄与する
他方向(ZY−平面内)は球面レンズと同様な集光がお
こなわれる。このような集光法を行うと非線型光学結晶
内でのビームのウオーク・オフの影響を低減し、かつ高
い変換効率を維持できる。これは、図11の左側の上段
に示すように結晶内で引き起こされる出力光のウオーク
・オフの影響は、入力光ビーム9の幅がこの面で十分に
大きいので、ほとんど問題にならない。つまり、図11
の左側の上段に示すように、ウオーク・オフ94による
光源の広がりの大きさに対して十分に大きなビーム径の
入射光9を入れれば、ウオーク・オフの効果はほとんど
現れず、双極子(光源)92の分布も入射光(基本波)
9の分布と同じガウス型になる。従って、得られる変換
光10の遠視野像もガウス型となって、理想的な集光特
性を持った変換光を得ることができる。また、図11の
紙面と直交する面内での集光度を上げてビーム径9を十
分に小さくすることで、高い変換効率を維持することが
できる。これらの効果は実際の実験で確かめられた。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】
【発明の効果】以上説明してきたように、この発明は、
光共振器とこの光共振器内に置かれた非線型光学素子の
波長変換素子、特に角度位相整合型の結晶、を用いる非
線型光学的波長変換装置において、共振器内の増幅され
た光強度が変換素子へ及ぼす光破壊の影響を少なくし
て、かつ集光特性に優れた出力光を、高い波長変換効率
得る事ができるという優れた効果を有する。この発明
の波長変換装置が最も有効なのは、効率の高い90度位
相整合型の変換素子が得られない又は使用が難しい波長
域で、角度位相整合型の波長変換素子を用いて連続発振
の弱い光の波長変換を行う場合である。この例として
は、アルゴン・レーザーの第二高調波の発生がある。こ
の第二高調波は深紫外域にあり、光リソグラフイや他の
光処理の応用が多数考えられる。また可視光域への又は
可視光域内への波長変換レーザーにも応用できる。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】波長変換素子の結晶とその受容角を表す図、
【図2】レンズによる集光と集光角を表す図、
【図3】この発明の一実施例のコヒーレント光発生装置
を示す図、
【図4】この発明の別の実施例のコヒーレント光発生装
置を示す図、
【図5】この発明の別の実施例のコヒーレント光発生装
置を示す図、
【図6】この発明の別の実施例のコヒーレント光発生装
置を示す図、
【図7】この発明の別の実施例のレーザー光変換装置を
示す図、
【図8】この発明の別の実施例のレーザー光変換装置を
示す図、
【図9】従来のレーザー光変換装置から得られた出力光
の強度分布を示す図、
【図10】非線型光学結晶のウオーク・オフの性質を示
す図、
【図11】この発明のレーザー光変換装置から得られる
変換光及び従来のレーザー光変換装置から得られた変換
光の性質を示す図、
【符号の説明】 5 レーザー媒質 6 反射面 7 反射面 12 円柱レンズ 13 円柱レンズ 14 波長変換素子
【手続補正書】
【提出日】平成4年8月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図9
【補正方法】追加
【補正内容】
【図9】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図10
【補正方法】追加
【補正内容】
【図10】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図11
【補正方法】追加
【補正内容】
【図11】

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の反射面と、非線形光学媒質からなる
    波長変換素子と、この波長変換素子に光を集光するため
    の集光光学系と、を有しレーザ光の波長を変換する光波
    長変換装置において、前記集光光学系が、前記波長変換
    素子に向けて集光する光ビームの断面を非円形にする光
    学系を有すること、を特徴とするレーザー光波長変換装
    置。
  2. 【請求項2】請求項1の光学系が光ビームの断面を楕円
    形にすること、を特徴とする請求項1のレーザー光波長
    変換装置。
  3. 【請求項3】請求項1の波長変換素子が、角度位相整合
    型非線形光学素子であること、を特徴とする請求項1の
    レーザー光波長変換装置。
  4. 【請求項4】請求項3の角度位相整合型非線形光学素子
    がβ硼酸バリウムの結晶であること、を特徴とする請求
    項3のレーザー光波長変換装置。
  5. 【請求項5】請求項1の光学系が、前記波長変換素子を
    その間に挟む一対の円柱レンズを有すること、を特徴と
    する請求項1のレーザー光波長変換装置。
  6. 【請求項6】請求項1の光学系が、前記波長変換素子を
    その間に挟む一対の円筒鏡を有すること、を特徴とする
    請求項1のレーザー光波長変換装置。
  7. 【請求項7】請求項1の複数の反射面の内の一つが、入
    射レーザー光の入射される半透明入射反射面であり、他
    の一つが出力光の出力される半透明出力反射面である請
    求項1のレーザー光波長変換装置。
  8. 【請求項8】連続発振レーザー装置からの入射レーザー
    光を波長変換する請求項1のレーザー光波長変換装置。
  9. 【請求項9】請求項8の連続発振レーザー装置がアルゴ
    ン・レーザーである請求項8のレーザー光波長変換装
    置。
  10. 【請求項10】入射レーザー光を2倍の周波数の光に変
    換する請求項1のレーザー光波長変換装置。
  11. 【請求項11】入射レーザー光を2倍の周波数に変換し
    て深紫外光の出力光を発生する請求項1のレーザー光波
    長変換装置。
  12. 【請求項12】入射レーザー光が複数の周波数を含みそ
    のなかの二つの周波数の和の周波数の光に変換する請求
    項1のレーザー光波長変換装置。
  13. 【請求項13】複数の反射面と、この反射面間に配置さ
    れるレーザー媒質と、このレーザー媒質からのレーザー
    光の波長を変換する波長変換素子と、この波長変換素子
    に前記レーザー光を集光する集光光学系と、を有するコ
    ヒーレント光発生装置において、前記集光光学系が前記
    波長変換素子に向けて集光するレーザー光ビームの断面
    を非円形にする光学系を持つこと、を特徴とするコヒー
    レント光発生装置。
  14. 【請求項14】請求項13の波長変換素子が角度位相整
    合型非線形光学素子であること、を特徴とする請求項1
    3のコヒーレント光発生装置。
  15. 【請求項15】請求項14の角度位相整合型非線形光学
    素子が、β硼酸バリウムの結晶であること、を特徴とす
    る請求項14のコヒーレント光発生装置。
  16. 【請求項16】請求項13の光学系が、前記波長変換素
    子を間に挟む一対の円柱レンズを有すること、を特徴と
    する請求項13のコヒーレント光発生装置。
  17. 【請求項17】請求項13の光学系が、前記波長変換素
    子を間に挟む一対の円筒鏡を有すること、を特徴とする
    請求項13のコヒーレント光発生装置。
  18. 【請求項18】請求項13のレーザー光媒質が連続発振
    型のレーザー媒質である請求項13のコヒーレント光発
    生装置。
  19. 【請求項19】請求項18のレーザー媒質が可視光を発
    生するアルゴン・レーザーであり、前記可視光の周波数
    を2倍に変換して深紫外線光を出力する請求項18のコ
    ヒーレント光発生装置。
  20. 【請求項20】請求項13のレーザー光媒質が複数の周
    波数の光を発生し前記波長変換素子がそのなかの二つの
    周波数の和の周波数の光に変換する請求項13のコヒー
    レント光発生装置。
  21. 【請求項21】前記複数の反射面間に、定在波を発生す
    るフアブリー・ペロー型の光共振器が形成される請求項
    1または請求項13の装置。
  22. 【請求項22】前記複数の反射面間に、光の回周路を持
    つリング型の光共振器が形成される請求項1または請求
    項13の装置。
  23. 【請求項23】請求項1の装置を用いて変換されたまた
    は請求項13の装置を用いて出力されたレーザー光によ
    り、光リソグラフイーを行う方法。
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US07/874,937 US5309454A (en) 1991-06-04 1992-04-28 Apparatus for wavelength conversion of laser light
BR929202062A BR9202062A (pt) 1991-06-04 1992-05-29 Aparelho para conversao de comprimento de onda da luz de laser e para geracao de luz coerente e metodo para usa-los
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Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3046738A1 (de) * 1979-12-11 1981-09-10 Sakata Shokai Ltd., Osaka "druckfarben und ihre verwendung fuer den wasserfreien offsetdruck"
JPH07311396A (ja) * 1994-05-17 1995-11-28 Nec Corp レーザ装置
JP2002055368A (ja) * 2000-08-11 2002-02-20 Takano Co Ltd 波長変換レーザ装置
JP2005331599A (ja) * 2004-05-18 2005-12-02 Kawasaki Heavy Ind Ltd 波長変換レーザ装置
JP2007298932A (ja) * 2006-05-03 2007-11-15 Mitsubishi Materials Corp 波長変換方法
JP2010020135A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Sony Corp 波長変換装置、レーザ光発生装置および波長変換方法
JP2014523551A (ja) * 2011-07-22 2014-09-11 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 高品質で安定した出力ビーム、および長寿命高変換効率の非線形結晶を備えたレーザ
US9419407B2 (en) 2014-09-25 2016-08-16 Kla-Tencor Corporation Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus
US9478402B2 (en) 2013-04-01 2016-10-25 Kla-Tencor Corporation Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor
US9496425B2 (en) 2012-04-10 2016-11-15 Kla-Tencor Corporation Back-illuminated sensor with boron layer
US9529182B2 (en) 2013-02-13 2016-12-27 KLA—Tencor Corporation 193nm laser and inspection system
JP2016224476A (ja) * 2013-12-20 2016-12-28 シャープ株式会社 光源
US9601299B2 (en) 2012-08-03 2017-03-21 Kla-Tencor Corporation Photocathode including silicon substrate with boron layer
US9608399B2 (en) 2013-03-18 2017-03-28 Kla-Tencor Corporation 193 nm laser and an inspection system using a 193 nm laser
US9620547B2 (en) 2014-03-17 2017-04-11 Kla-Tencor Corporation Image sensor, an inspection system and a method of inspecting an article
US9748294B2 (en) 2014-01-10 2017-08-29 Hamamatsu Photonics K.K. Anti-reflection layer for back-illuminated sensor
US9748729B2 (en) 2014-10-03 2017-08-29 Kla-Tencor Corporation 183NM laser and inspection system
US9768577B2 (en) 2012-12-05 2017-09-19 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US9767986B2 (en) 2014-08-29 2017-09-19 Kla-Tencor Corporation Scanning electron microscope and methods of inspecting and reviewing samples
US9793673B2 (en) 2011-06-13 2017-10-17 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
JP2017191324A (ja) * 2012-05-22 2017-10-19 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 193nmレーザーを使用する固体レーザーおよび検査システム
US9804101B2 (en) 2014-03-20 2017-10-31 Kla-Tencor Corporation System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser
JP2018132773A (ja) * 2011-10-07 2018-08-23 ケーエルエー−テンカー コーポレイション レーザシステム、非線形光学結晶およびその不活性化方法
US10175555B2 (en) 2017-01-03 2019-01-08 KLA—Tencor Corporation 183 nm CW laser and inspection system
US10197501B2 (en) 2011-12-12 2019-02-05 Kla-Tencor Corporation Electron-bombarded charge-coupled device and inspection systems using EBCCD detectors
US10748730B2 (en) 2015-05-21 2020-08-18 Kla-Tencor Corporation Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer
US10943760B2 (en) 2018-10-12 2021-03-09 Kla Corporation Electron gun and electron microscope
US11114491B2 (en) 2018-12-12 2021-09-07 Kla Corporation Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06102545A (ja) * 1992-09-04 1994-04-15 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 波長変換装置
JP2892938B2 (ja) * 1994-06-20 1999-05-17 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 波長変換装置
FR2722307B1 (fr) * 1994-07-05 1996-08-14 Thomson Csf Source optique compacte, basee sur le doublage de frequence d'un laser
DE19527337A1 (de) * 1995-07-26 1997-01-30 Adlas Lasertech Gmbh & Co Kg Laser mit Frequenzvervielfachung
AUPN442695A0 (en) * 1995-07-27 1995-08-17 Electro Optic Systems Pty Limited Eyesafe optical parametric system pumped by solid state lasers
AU705771B2 (en) * 1995-07-27 1999-06-03 Electro Optic Systems Pty Limited Eyesafe optical parametric system pumped by solid state lasers
JP3212931B2 (ja) 1997-11-26 2001-09-25 日本電気株式会社 波長変換方法及び波長変換素子
JP2001042369A (ja) * 1999-07-27 2001-02-16 Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk 波長変換ユニット
US20090028195A1 (en) * 2007-01-22 2009-01-29 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for frequency conversion of coherent light
US7955875B2 (en) * 2008-09-26 2011-06-07 Cree, Inc. Forming light emitting devices including custom wavelength conversion structures
US9841655B2 (en) 2015-07-01 2017-12-12 Kla-Tencor Corporation Power scalable nonlinear optical wavelength converter

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH022194A (ja) * 1988-06-14 1990-01-08 Asukaru:Kk レーザ光波長変換方法とその発振装置
JPH02150084A (ja) * 1988-11-30 1990-06-08 Hoya Corp レーザ装置
JPH0389574A (ja) * 1989-09-01 1991-04-15 Hitachi Ltd 第2次高調波発生装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3974507A (en) * 1975-09-29 1976-08-10 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Conversion of stripe-geometry junction laser emission to a spherical wavefront
US4272694A (en) * 1979-11-15 1981-06-09 The University Of Rochester System for converting the frequency of coherent radiation
US4879722A (en) * 1987-07-27 1989-11-07 Amoco Corporation Generation of coherent optical radiation by optical mixing
US5025446A (en) * 1988-04-01 1991-06-18 Laserscope Intra-cavity beam relay for optical harmonic generation
CN1008305B (zh) * 1988-04-14 1990-06-06 中国科学院福建物质结构研究所 用三硼酸锂单晶体制造的非线性光学器件
US5027361A (en) * 1988-06-21 1991-06-25 Board Of Trustees Of Leland Stanford, Jr., University Efficient laser harmonic generation employing a low-loss external optical resonator
JP2741081B2 (ja) * 1989-10-13 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 光波長変換装置
US5117433A (en) * 1989-11-27 1992-05-26 Hitachi, Ltd. Second harmonic generator for obtaining an aberration free plane wave and information processing system using the same
US5081639A (en) * 1990-10-01 1992-01-14 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Laser diode assembly including a cylindrical lens
US5038352A (en) * 1990-11-13 1991-08-06 International Business Machines Incorporation Laser system and method using a nonlinear crystal resonator
US5130996A (en) * 1990-11-30 1992-07-14 Hoya Corporation Solid-state laser device capable of generating a harmonic laser beam at a high conversion efficiency
US5130997A (en) * 1990-12-18 1992-07-14 Laserscope Medical laser apparatus, high powered red laser used in same, and laser resonator with non-linear output
US5119383A (en) * 1990-12-28 1992-06-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Antiresonant nonlinear mirror for passive laser modelocking
US5164947A (en) * 1991-02-28 1992-11-17 Amoco Corporation Single-frequency, frequency doubled laser
US5181224A (en) * 1991-05-10 1993-01-19 University Of California Microoptic lenses

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH022194A (ja) * 1988-06-14 1990-01-08 Asukaru:Kk レーザ光波長変換方法とその発振装置
JPH02150084A (ja) * 1988-11-30 1990-06-08 Hoya Corp レーザ装置
JPH0389574A (ja) * 1989-09-01 1991-04-15 Hitachi Ltd 第2次高調波発生装置

Cited By (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3046738A1 (de) * 1979-12-11 1981-09-10 Sakata Shokai Ltd., Osaka "druckfarben und ihre verwendung fuer den wasserfreien offsetdruck"
JPH07311396A (ja) * 1994-05-17 1995-11-28 Nec Corp レーザ装置
JP2002055368A (ja) * 2000-08-11 2002-02-20 Takano Co Ltd 波長変換レーザ装置
JP2005331599A (ja) * 2004-05-18 2005-12-02 Kawasaki Heavy Ind Ltd 波長変換レーザ装置
JP2007298932A (ja) * 2006-05-03 2007-11-15 Mitsubishi Materials Corp 波長変換方法
JP2007298933A (ja) * 2006-05-03 2007-11-15 Mitsubishi Materials Corp 波長変換方法
JP2010020135A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Sony Corp 波長変換装置、レーザ光発生装置および波長変換方法
US7920607B2 (en) 2008-07-11 2011-04-05 Sony Corporation Wavelength conversion apparatus, laser light generating apparatus and wavelength conversion method
US10193293B2 (en) 2011-06-13 2019-01-29 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US9972959B2 (en) 2011-06-13 2018-05-15 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US9793673B2 (en) 2011-06-13 2017-10-17 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US9413134B2 (en) 2011-07-22 2016-08-09 Kla-Tencor Corporation Multi-stage ramp-up annealing for frequency-conversion crystals
JP2014523551A (ja) * 2011-07-22 2014-09-11 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 高品質で安定した出力ビーム、および長寿命高変換効率の非線形結晶を備えたレーザ
US11227770B2 (en) 2011-10-07 2022-01-18 Kla Corporation Passivation of nonlinear optical crystals
JP2018132773A (ja) * 2011-10-07 2018-08-23 ケーエルエー−テンカー コーポレイション レーザシステム、非線形光学結晶およびその不活性化方法
JP2020129134A (ja) * 2011-10-07 2020-08-27 ケーエルエー コーポレイション レーザシステムおよび非線形光学結晶の製造方法
US10283366B2 (en) 2011-10-07 2019-05-07 Kla-Tencor Corporation Passivation of nonlinear optical crystals
US10197501B2 (en) 2011-12-12 2019-02-05 Kla-Tencor Corporation Electron-bombarded charge-coupled device and inspection systems using EBCCD detectors
US9496425B2 (en) 2012-04-10 2016-11-15 Kla-Tencor Corporation Back-illuminated sensor with boron layer
JP2017191324A (ja) * 2012-05-22 2017-10-19 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 193nmレーザーを使用する固体レーザーおよび検査システム
US11081310B2 (en) 2012-08-03 2021-08-03 Kla-Tencor Corporation Photocathode including silicon substrate with boron layer
US10199197B2 (en) 2012-08-03 2019-02-05 Kla-Tencor Corporation Photocathode including silicon substrate with boron layer
US9601299B2 (en) 2012-08-03 2017-03-21 Kla-Tencor Corporation Photocathode including silicon substrate with boron layer
US9768577B2 (en) 2012-12-05 2017-09-19 Kla-Tencor Corporation Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier
US10439355B2 (en) 2013-02-13 2019-10-08 Kla-Tencor Corporation 193nm laser and inspection system
US9935421B2 (en) 2013-02-13 2018-04-03 Kla-Tencor Corporation 193nm laser and inspection system
US9529182B2 (en) 2013-02-13 2016-12-27 KLA—Tencor Corporation 193nm laser and inspection system
US9608399B2 (en) 2013-03-18 2017-03-28 Kla-Tencor Corporation 193 nm laser and an inspection system using a 193 nm laser
US9478402B2 (en) 2013-04-01 2016-10-25 Kla-Tencor Corporation Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor
US9620341B2 (en) 2013-04-01 2017-04-11 Kla-Tencor Corporation Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor
JP2016224476A (ja) * 2013-12-20 2016-12-28 シャープ株式会社 光源
US10269842B2 (en) 2014-01-10 2019-04-23 Hamamatsu Photonics K.K. Anti-reflection layer for back-illuminated sensor
US9748294B2 (en) 2014-01-10 2017-08-29 Hamamatsu Photonics K.K. Anti-reflection layer for back-illuminated sensor
US9620547B2 (en) 2014-03-17 2017-04-11 Kla-Tencor Corporation Image sensor, an inspection system and a method of inspecting an article
US10495582B2 (en) 2014-03-20 2019-12-03 Kla-Tencor Corporation System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser
US9804101B2 (en) 2014-03-20 2017-10-31 Kla-Tencor Corporation System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser
US9767986B2 (en) 2014-08-29 2017-09-19 Kla-Tencor Corporation Scanning electron microscope and methods of inspecting and reviewing samples
US10466212B2 (en) 2014-08-29 2019-11-05 KLA—Tencor Corporation Scanning electron microscope and methods of inspecting and reviewing samples
US9419407B2 (en) 2014-09-25 2016-08-16 Kla-Tencor Corporation Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus
US9748729B2 (en) 2014-10-03 2017-08-29 Kla-Tencor Corporation 183NM laser and inspection system
US10199149B2 (en) 2014-10-03 2019-02-05 Kla-Tencor Corporation 183NM laser and inspection system
US10748730B2 (en) 2015-05-21 2020-08-18 Kla-Tencor Corporation Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer
US10429719B2 (en) 2017-01-03 2019-10-01 Kla-Tencor Corporation 183 nm CW laser and inspection system
US10175555B2 (en) 2017-01-03 2019-01-08 KLA—Tencor Corporation 183 nm CW laser and inspection system
US10943760B2 (en) 2018-10-12 2021-03-09 Kla Corporation Electron gun and electron microscope
US11114491B2 (en) 2018-12-12 2021-09-07 Kla Corporation Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor

Also Published As

Publication number Publication date
US5309454A (en) 1994-05-03
EP0517518A2 (en) 1992-12-09
CA2066000A1 (en) 1992-12-05
EP0517518A3 (en) 1993-10-27
BR9202062A (pt) 1993-02-02
JP2828221B2 (ja) 1998-11-25

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