JPH051131B2

JPH051131B2 -

Info

Publication number: JPH051131B2
Application number: JP59281401A
Authority: JP
Inventors: Shu Ishiguro
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1984-12-27
Filing date: 1984-12-27
Publication date: 1993-01-07
Also published as: JPS61154829A

Description

【発明の詳細な説明】

イ産業上の利用分野本発明はフイルム状体、例えば磁気記録媒体用
の磁性層付きフイルムの熱処理方法に関するもの
である。ロ従来技術磁気テープ、特に蒸着テープの製造において、
基板フイルムの一方の面に磁性材料を蒸着する
が、この際にカツピングと称される不均一な変形
がフイルムに生じることが多い。カツピングを起こした磁気テープをビデオテー
プに使用した場合、ビデオデツキ上における走行
安定性に欠けたり、リールに巻かれる時に巻乱れ
が起こつたりする。これらは、テープの縁が折れ
るいわゆるエツジ折れを起こし易いとともに、ビ
デオ画像の記録や再生上のトラブルの原因とな
る。それのみならず、テープのカーリングが生じ
ると、テープの全面がヘツドと良く接触しないた
め、テープとヘツドとの接触の良好な部分の出力
に対する、ヘツドの切換え時などの接触の悪い部
分の出力の割合が低下し、エンベロープ形状が悪
くなり、その他の各種Ｓ／Ｎ等の電磁変換特性も
悪くなる。上記のような悪影響は、テープのうね
りやシワが生じた場合にも起こり、これらの程度
がひどい場合にはテープとしての使用に全く耐え
ない場合も起こる。又、亀裂が生じると、Ｓ／Ｎ
等の電磁変換特性が悪くなり、程度のひどい場合
には大きなドロツプアウトとして検出されること
もある。カツピングを防ぐためにこれまで、所定温度に
加熱されたヒートロールにフイルムを接触させて
走行せしめながら熱処理している。しかし、従来
一般に用いられているヒートロールは、そのまま
蒸着テープに用いると、熱処理時にフイルムが波
打つたり、あるいは長手方向に平行のシワが入つ
たり、磁性層に亀裂が入つたりした。カツピング
の除去の度合いも巾方向にバラツキがあつた。ハ発明の目的本発明の目的は、カツピングが巾方向に均一に
除去でき、かつ磁性層等に亀裂を生じることもな
く、フイルム状体がうねつたり、シワが入つたり
することがないように熱処理を施すことができる
方法を提供することにある。ニ発明の構成及びその作用効果即ち、本発明は、フイルム状体を加熱部材の表
面に接触させて走行せしめながら熱処理するに際
し、前記フイルム状体と前記加熱部材との間の動
摩擦係数が前記フイルム状体の走行方向に直交す
る幅方向において0.5以下でかつほぼ均一となる
ようにするフイルム状体の熱処理方法に係るもの
である。本発明によれば、加熱部材（例えばヒートロー
ル）によるフイルム状体（例えば磁性層付きのフ
イルム）の熱処理時に、その幅方向で動摩擦係数
が0.5以下でほぼ均一となる（どの位置において
も0.5以下で均一となるのが望ましい）ようにし
ているので、カツピングを充二分にしかも均一に
除去でき、亀裂やシワ、うねり等が生じることも
ない。フイルム長手方向と直角の方向（巾方向）
にヒートロール等の加熱部材とのフイルムの接触
面の状態が均一であり、又、この方向の加熱部材
表面が均一でないと、磁性層等に亀裂が生じた
り、巾方向でカツピングの除去の度合いが異なつ
てくる。動摩擦係数が0.5よりも大きくなると、
熱処理時に亀裂が入つたり、シワやうねりを生じ
たり、巾方向のカツピングの除去の度合いが不均
一になる。うねじやシワが全く生ずることなく熱
処理するには、動摩擦係数が0.2以下となるよう
にすることが好ましい。また、本発明において、加熱部材の最大表面粗
さRmax.が0.1μｍよりも大きい場合、その表面の
凹凸の転写によつて、電磁変換特性に影響を及ぼ
すので、Rmax.≦0.1μｍとするのがよい。特に加
熱部材との接触面が磁性面である場合はRmax.
は0.05μｍ以下が好ましい。本発明において、動摩擦係数は次の様に決定で
きる。即ち、動摩擦係数の測定は、回転ドラム型表面
性測定機を用いて行なう。但し、この回転ドラム
としては熱ドラムを用い、表面温度が設定できる
ようにする。実際の測定は、熱ドラムの表面温度
を熱処理を行なう温度に設定し、摩擦係数を算出
する。本発明において「ほぼ均一」とは、各点の動摩
擦係数の平均値から、名点の値が0.5を越えない
範囲で、平均値より0.1よりは多くずれないこと
をいう。ニ実施例以下、本発明を実施例について詳細に説明す
る。熱処理を施す蒸着フイルムとしては、次のよ
うなものを用いた。厚さ12μｍ、幅160mmのポリ
エチレンテレフタレートフイルム上にCo−Ni磁
性膜を厚さが0.1μｍとなるように斜方蒸着した。この際、蒸発源としてはCo：80重量％、Ni：
20重量％のものを用い、蒸着の際O₂ガスを導入
しながら反応蒸着を行なつた。このようにして磁
性薄膜を蒸着したフイルムを第１図に示すような
装置を用いて熱処理した。この装置は、フイルム
供給ロール１と同巻取ロール１２との間で、ヒー
ター内蔵のヒートロール６（又は熱ドラム）によ
つて蒸着フイルムＦを接触走行させて熱処理する
ものである。図中、８は冷却ロール（チルロー
ル）、７は押圧ロール、２，３，４，５，９，１
０，１１はガイドローラ（３，１０はダンサーロ
ーラ）である。この熱処理に際し、150℃の表面
温度のヒートロール６に、張力500ｇ／mm²で１秒
間フイルムＦを接触させて搬送させながら熱処理
を行なつた。 (1) ヒートロール表面と磁性面側が接触する場
合。上記の蒸着条件で、160mm幅のベースの中央
140mm部分にだけ蒸着を行ない、ベースフイル
ム両端10mmずつ蒸着層を設けない部分をもつた
フイルムを作成し、これをサンプル(1)とする。
同様の蒸着条件で160mm巾全巾に均一に蒸着膜
を製膜したフイルムを作成し、これをサンプル
(2)とする。使用したベースフイルムの磁性面側
の表面粗さRmax.は両サンプルとも0.03μｍで
あつた。第２図のように、これらの２つのサン
プルの磁性層１３の面側がヒートロール６の表
面に接触するようにして、上記のような熱処理
をほどこし、熱処理中にヒートロール上でシワ
が発生するかどうか、又、熱処理後のフイルム
の巾方向の平坦度、亀裂の有無を調べた。さら
にこのフイルムを1/2インチ巾にスリツトして
磁気テープとし、カツピングの度合いをみた。
但し、熱ドラムの表面粗さRmax.は0.1μｍで、
表面は硬質クロムメツキのヒートロールを用い
た。この結果を下記表−１に示す。

【表】次に、表面粗さRmax.が0.01μｍのベース上
に同様の蒸着条件下で蒸着を行ない、このサン
プルをサンプル(3)とした。表面粗さRmax.が
0.1μｍの硬質クロムメツキのヒートロールと、
サンプル(2)、(3)とのそれぞれの動摩擦係数を測
定し、かつ、これらの２つのサンプルの磁性面
側がヒートロール表面に接触するようにして先
に述べたような熱処理をほどこし、熱処理中に
ヒートロール上でシワが発生するかどうか、
又、熱処理後フイルムの巾方向の平坦度、亀裂
の有無を調べた。さらに、このフイルムを1/2
インチ巾にスリツトして磁気テープとし、カツ
ピングの度合いをみた。この結果を下記表−２
に示す。動摩擦係数μ_kを0.5以下、特に0.2以下
とすべきであることが分る。

【表】次に、サンプル(2)を表面粗さRmax.の異な
るヒートロールに接触させて熱処理を行なつ
た。すなわち、Rmax.が0.3μｍ、0.1μｍ、
0.05μｍ、0.03μｍの研磨度の異なるヒートロー
ルをそれぞれ用いて熱処理を行ない、それぞれ
のサンプルをサンプル(2)−ａ、(2)−ｂ、(2)−
ｃ、(2)−ｄとした。ヒートロールの表面はすべ
て硬質クロムメツキである。これらのサンプル
をそれぞれ1/2インチ幅にスリツトして磁気テ
ープを作成し、カツピングの度合い、RFエン
ベロープ形状、ドロツプアウトを測定した。な
お、RFエンベロープの形状としては、１つの
ビデイオヘツドの１フイールドのRF出力の中
程を拡大して（数百マイクロセカンド）、その
うちの100マイクロセカンド分をとり出し、そ
の部分で最大の出力を示す部分の振幅をＡ、最
小の出力を示す部分の振幅をＢとしたときＢ／
Ａ×100（％）で示されている（第３図参照）。
又、ドロツプアウト（D.O.）はそれぞれのサ
ンプルテープをJHSフオーマツトカセツトにセ
ツトして100％白レベル信号を記録し、その再
生時のビデイオヘツドアツプ出力の減衰量が
16dB、継続時間が5μsec.以上のドロツプアウ
トを10分間ドロツプアウトカウンタで測定し、
１分間あたりの平均値として求めた。これらの
測定結果を表−３に示す。

【表】 (2) ヒートロール表面とベース面側が接触する場
合。磁性面側のベース表面の表面粗さRmax.が
0.01μｍ、裏面の表面粗さRmax.が0.05μｍのベ
ースの磁性面側に、前記と同じ蒸着条件で全幅
に蒸着を行ない、蒸着フイルムを作成した。こ
のフイルムを第１図に示すような装置を用いて
150℃の表面温度の熱ドラム６に張力500ｇ／mm²
で１秒間磁性面の裏面、即ちベースフイルム１
４の面が接触するように搬送させながら熱処理
を行なつた。熱ドラム表面として、表面粗さ
Rmax.が0.1μｍの硬質クロムメツキの熱ドラム
を用いて熱処理を行なつたサンプルをサンプル
(4)、表面粗さRmax.が0.1μｍのアルミナセラミ
ツクコーテイングの熱ドラムを用いて熱処理を
行なつたサンプルをサンプル(5)とした。各々の
サンプルの熱ドラムとの動摩擦係数、亀裂の有
無、熱ドラム上でのシワの発生の様子、カツピ
ング、を測定し、この結果を表−４に示した。

【表】サンプル(4)は実際にはテープとしての使用に
耐えなかつた。以上の結果より、熱処理時にヒートロールと接
触するフイルム表面とヒートロールとの摩擦係数
がフイルムの長手方向と直角の方向（幅方向）の
どの位置においても0.5以下で均一、好ましくは
0.2以下で均一となるようにして熱処理を施すこ
とにより、亀裂やシワがなく、カツピングも均一
に除去されて平坦なテープができ、かつ、テープ
の表面性も確保されて、エンベロープ形状が良好
でD.O.の少ないテープが作成できることが明ら
かである。この場合、熱処理を施すためのヒート
ロールの表面粗さRmax.は0.1μｍ以下、好ましく
は0.05μｍ以下であるのがよい。以上に述べたプロセスは、上記に限らず、例え
ば熱ドラムを２本以上組合せた装置あるいはドラ
ム表面をアルミナ以外のセラミクスやシリコン、
テフロン等で形成することも可能であり、上記の
ような条件を満たしていればどのような組合せで
もよい。また、加熱部材は上述のヒートロール、
熱ドラム以外のもの、例えば加熱板であつてもよ
い。熱処理されるべきフイルム状体は磁気記録媒
体用のものに限らないし、またその形状も通常の
フイルムをはじめ、テープ状、シート状等をも含
むものとする。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであつて、第
１図は熱処理装置の概略図、第２図はヒートロー
ルとフイルムとの接触状態を示す断面図、第３図
はRFエンベロープ形状を示す図である。なお、図面に示した符号において、６……ヒー
トロール、１３……磁性層、１４……ベースフイ
ルム、Ｆ……フイルムである。

Claims

【特許請求の範囲】

１フイルム状体を加熱部材の表面に接触させて
走行せしめながら熱処理するに際し、前記フイル
ム状体と前記加熱部材との間の動摩擦係数が前記
フイルム状体の走行方向に直交する幅方向におい
て0.5以下でかつほぼ均一となるようにするフイ
ルム状体の熱処理方法。