JPH05125186A - ポリフエニレンスルフイドの製造方法 - Google Patents
ポリフエニレンスルフイドの製造方法Info
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- JPH05125186A JPH05125186A JP3293166A JP29316691A JPH05125186A JP H05125186 A JPH05125186 A JP H05125186A JP 3293166 A JP3293166 A JP 3293166A JP 29316691 A JP29316691 A JP 29316691A JP H05125186 A JPH05125186 A JP H05125186A
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Abstract
なく、口金汚れの少ない製膜性の良好なPPSの製造方
法を提供する。 【構成】 温度315.6℃でのメルトインデックスが
0.5g/10分以上200g/10分以下であるポリ
フェニレンスルフィドを、酸素分圧が20mmHg以下
の不活性雰囲気下、200℃以上融点以下の温度範囲で
熱処理する。
Description
いポリフェニレンスルフィドの製造方法に関するもので
あり、更に詳しくは、酸素のない不活性雰囲気下、比較
的高温で加熱し口金汚れの原因となる低分子量物が減少
したポリフェニレンスルフィドの製造方法に関する。
と略すことがある)、特にポリ−p−フェニレンスルフ
ィドは、優れた機械的性質、熱的性質、電気的性質など
によりコンデンサの誘電体、電気絶縁材料、電子部品、
音響振動板、離型材などに使用されている。
る方法でPPSを製造すると、低分子量物の混入が避け
られず、該低分子量物は押出成形の際、口金部分に付着
し、例えば、2軸延伸フィルムを製造する場合、製膜性
を著しく低下させるという問題があった。すなわち、口
金部分に付着した低分子量物が、押出シートに付着し、
2軸延伸の際破れの原因となったり、また、付着物を除
去するために、たびたび製膜機を停止させて口金部分の
清掃を行なう必要があった。
る方法としてポリマを有機溶媒で洗浄する方法(特開昭
59−6221号公報、特願昭63−72980号公
報)、減圧下に重合で使用した溶媒を除去する方法(特
開昭59−89327号公報)が提案されているが、い
まだ不十分であった。
のPPSの上記の欠点を解消し、押出の際、口金部分に
付着する低分子量物が少なく、口金汚れの少ない製膜性
の良好なPPSの製造方法を提供することにある。
達成するために、温度315.6℃でのメルトインデッ
クスが0.5g/10分以上200g/10分以下であ
るポリフェニレンスルフィドを、酸素分圧が20mmH
g以下の不活性雰囲気下、200℃以上融点以下の温度
範囲で熱処理することを特徴とするポリフェニレンスル
フィドの製造方法、とするものである。
は、ポリ−p−フェニレンスルフィドを主たる対象と
し、p−フェニレンスルフィド単位が70モル%以上存
在するものが好ましい。より好ましくは、90モル%以
上がp−フェニレンスルフィド単位であるものである。
かかる単位が30モル%未満であれば、例えば、
し支えないが、これらの共重合成分は10モル%以下で
あることがより好ましい。特に、
2モル%以下が好ましい。
従来公知の方法、すなわち、硫化アルカリとp−ジハロ
ベンゼンを極性溶媒中で高温高圧下に反応させることに
よって得ることができる。特に、硫化ナトリウムとp−
ジクロルベンゼンをN−メチルピロリドン等のアミド系
高沸点溶媒中で反応させるのが好ましい。この場合、重
合度を調整するために、苛性アルカリ、カルボン酸アル
カリ金属塩などのいわゆる重合助剤を添加して、230
℃〜280℃で反応させるのが最も好ましい。重合系内
の圧力及び重合時間は、使用する助剤の種類や量及び所
望する重合度などによって適宜決定される。
の維持のためには、重合したポリマ(一般に粉末状)
を、金属イオンを含まない水や有機溶媒で洗浄し、重合
中の副生塩、重合助剤等を除去し、イオン性キャリア濃
度を十分小さくしておくことが好ましい。この場合、ポ
リマ中の総無機分は5000ppm以下、カルシウム1
000ppm以下、ナトリウム500ppm以下が好ま
しい。
押出機を用いてガット状に押出し、ペレット化しておく
こともできる。また、この際に、酸化防止剤、熱安定
剤、滑剤、核形成剤、紫外線吸収剤、着色剤等を配合す
ることもできる。
℃でのメルトインデックスは、0.5g/10分以上、
200g/10分以下であることが必要である。好まし
くは、5g/10分以上150g/10分以下、より好
ましくは10g/10分以上、120g/10分以下で
ある。メルトインデックスが0.5g/10分より小さ
いと、押出が困難となるため好ましくない。一方、20
0g/10分を越える場合には、フィルムなどに押出し
た際に厚みの均一性が劣るため好ましくない。
上PPSの融点以下までである。好ましくは220℃以
上、PPSの融点より5℃低い温度まで、さらに好まし
くは、230℃以上、PPSの融点より5℃低い温度ま
でである。熱処理温度が200℃より低いと、口金汚れ
を引き起こす低分子量物を減少させることが困難であり
好ましくない。一方、融点を越えると溶融してしまい装
置への付着が起こること、熱劣化が大きくなることから
好ましくない。また、溶融状態であると低分子量物の低
減効果が小さくなるため固相状態で行なう必要がある。
は、酸素分圧が20mmHg以下の不活性雰囲気とする
必要がある。好ましくは酸素分圧が10mmHg以下、
より好ましくは、5mmHg以下である。酸素分圧が2
0mmHgを越える雰囲気で熱処理を実施すると、PP
Sの酸化架橋が起こり、成形品としたとき脆くなるため
好ましくない。不活性雰囲気とするのは、PPSと化学
的に不活性な気体により空気を置換すると同時に低分子
量物を系外に除去するためであり、一般的には、減圧に
するか経済的に安価な窒素気流を用いるのが好ましい。
もちろん、全圧力は、酸素分圧が20mmHg以下であ
るかぎりいかなる圧力でもよい。
のメルトインデックスη0 と熱処理後のメルトインデッ
クスηの差(η−η0 )が、 −30≦100×(η−η0 )/η0 ≦30 (1) の範囲となるように熱処理を行なうことが好ましい。P
PSのメルトインデックスは、ポリマの重合度、末端
基、枝分かれの程度で変化し、これらは加熱処理に用い
る装置の形式、処理温度、時間、雰囲気等の操作条件で
変化する。しかし、本発明で規定する酸素分圧の範囲に
おいては、熱処理を行なってもポリマのメルトインデッ
クスの変化を小さくすることができる。加熱温度、圧力
を前述の範囲内とするほか、加熱時間としては通常、3
0分以上10時間以下が好ましい。
PSを均一に加熱できるものが好ましい。具体的には、
回転型乾燥機、流動床型乾燥機や種々の撹拌翼を有する
乾燥機などを用いることができる。
であってもペレット状であってもよいが、取り扱いのし
易さからガット状が好ましい。また、一旦フィルム化し
た後のフィルム屑を細断したものであってもよい。
PSは、熱処理時に融着してしまうことを避けるため結
晶化していることが好ましく、結晶化度として30%以
上、さらに好ましくは35%以上である。
トインデックスを著しく変化させることなく口金汚れの
原因となる低分子量物を減少させたPPSをえることが
できる。
細に説明する。なお、評価は次の方法で行なった。
50mmのサンプルの破断強度、破断伸度を求めn=5
の平均値として算出した。
15.6℃で測定し、g/10分単位で表わした値。
により求め、結晶化度(Xc)は、その密度を用いて密
度法により求めた。すなわち、密度は一般的に用いられ
る次の式より求められる。 (100/d)=(Xc/dcr)+[(100−Xc)/dam} (2) 式(2)においてd、dcrおよびdamはそれぞれ試
料の密度、結晶相の密度および非晶相の密度である。こ
こで、dcr、damはEur.Poly.J.,7,
1127(1971)に記載されている値を用いた。す
なわち、dcr=1.43g/cm3 、dam=1.3
2g/cm3 である。
因するフィルム破れの発生状況から次の基準に従い判定
した。 ○:10時間製膜後でも、口金への付着がほとんどなく
フィルム破れが起こらない。 △:10時間製膜後で、口金の付着物があり、その間フ
ィルム破れがときおり起こる。 ×:数時間の製膜で口金に多量の付着物があり、フィル
ム破れが頻発し、製膜の続行のため口金清掃を実施し
た。
塩、45モルの酢酸ナトリウム及び25リットルのN−
メチルピロリドン(以下、NMPと略称する)を仕込
み、撹拌しながら徐々に205℃まで昇温し、含有され
ている水分を蒸留により除去した。
クロルベンゼンおよびNMP8リットルを加え、170
℃で窒素を3kg/cm2 に加圧封入後、昇温し、26
0℃にて4時間重合した。重合終了後冷却し、蒸留水中
にポリマを沈澱させ、150メッシュ目開きを有する金
網によって、小塊状ポリマを採取した。
浄した後、減圧下120℃にて乾燥して、融点が283
℃の白色粒状のPPSを得た。
酸カルシウムをPPSに対して0.7重量%となるよう
配合し、2軸混練機で320℃にて溶融混練し、ストラ
ンドより吐出、切断して2〜3mm径、3〜4mm長さ
のPPSぺレットとした。
0mmHg以下の減圧下2時間乾燥し予備結晶化させ
た。得られたPPSペレットの結晶化度は40%であっ
た。次いでこのペレットを回転型乾燥機に仕込み、減
圧、窒素封入を繰り返して窒素で置換した後、温度24
0℃、酸素分圧1mmHg(全圧5mmHg)で4時間
熱処理した。熱処理後のPPSペレットのメルトインデ
ックスは70g/10分であった。
に供給し、続いて設けられたTダイ型口金より吐出させ
冷却回転ドラムで急冷し、実質的に非晶の厚さ55μm
のPPSシートを得た。
の加熱ロールに接触走行させ、加熱ロール群の次に設け
られた周速の異なる30℃の冷却ロールとの間で長手方
向に3.7倍延伸した。この1軸延伸シートをテンター
を用いて長手と直交方向に100℃で3.7倍延伸し、
続いて260℃10秒間熱処理し、厚み4μmの2軸延
伸PPSフィルムを得た。本製膜において、10時間の
間に1度のフィルム破れも起こらず、また、10時間後
での口金部分の付着物はほとんどなく、汚れは極めて少
なかった。また、得られたフィルムの機械特性も良好で
あった。
ルムの特性を一覧表にして表1に示した。
施例1と同様にして、PPSの製造、熱処理および製膜
を行ない2軸延伸PPSフィルムを得た。製膜結果およ
び得られた2軸延伸PPSフィルムの特性を表1に合わ
せて示したが、本発明の方法によれば、製膜時の口金汚
れが低減し、さらに得られたフィルムの機械的特性も良
好であることがわかる。
5倍量のNMPを用いて70℃で30分間撹拌しその後
ろ過する操作を3回繰り返し、さらに熱湯で8回洗浄
し、真空乾燥機を用いて150℃で乾燥した。得られた
ポリマの融点は、284℃であった。
1.2μmの炭酸カルシウムをPPSに対して0.7重
量%となるよう配合し、2軸混練機で320℃にて溶融
混練し、ストランドより吐出、切断して2〜3mm径、
3〜4mm長さのPPSのペレットとした。
0mmHg以下の減圧下で2時間乾燥した。得られたP
PSペレットの結晶化度は40%であった。
ルーダに供給し、続いて設けられたTダイ型口金より吐
出させ冷却回転ドラムで急冷し、実質的に非晶の厚さ5
5μmのPPSシートを得た。
の加熱ロールに接触走行させ、加熱ロール群の次に設け
られた周速の異なる30℃の冷却ロールとの間で長手方
向に3.7倍延伸した。この1軸延伸シートをテンター
を用いて長手と直交方向に100℃で3.7倍延伸し、
続いて260℃10秒間熱処理し、厚み4μmの2軸延
伸PPSフィルムを得た。
発したため口金部分の清掃を行なったがその後も4回の
フィルム破れが起こった。
ルムの特性を一覧表にして表1に示した。
合を行ない、メルトインデックスの異なる粒状PPSを
得た。得られたPPSを用いて、実施例1の(2)〜
(4)と同様にして2軸延伸PPSフィルムを製造し
た。結果を表1に表わしたが、本発明の方法によれば、
口金汚れしにくく、フィルム破れが起こらないことがわ
かる。
流中(酸素分圧1mmHg以下)で熱処理を実施した以
外は実施例1と同様にPPSの製造、ペレタイズ、熱処
理、製膜を行なった。フィルム破れは起こらず、口金の
汚れもすくなかった。
汚れの原因となる低分子量物が減少しているため、製膜
時の破れが減少し、そのため口金を清掃する頻度が少な
くてもすみ、製膜性が著しく向上するという特長をも
つ。
Sは、溶融押出しして未延伸シートや1軸延伸、2軸延
伸してフィルムにする場合、特に有効に活用できる。ま
た、低分子量物が少ないため、得られたフィルムは、電
気特性、機械特性などに優れるばかりか、これらの特性
の均一性にも優れており、モータ、トランスなど電気絶
縁材料、コンデンサの誘電体、各種の離型材料、回路基
板に好適に用いられる。さらに、繊維その他成形材料の
分野にも有効に適用することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 温度315.6℃でのメルトインデック
スが0.5g/10分以上200g/10分以下である
ポリフェニレンスルフィドを、酸素分圧が20mmHg
以下の不活性雰囲気下、200℃以上融点以下の温度範
囲で熱処理することを特徴とするポリフェニレンスルフ
ィドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03293166A JP3099984B2 (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | ポリフェニレンスルフィドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03293166A JP3099984B2 (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | ポリフェニレンスルフィドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05125186A true JPH05125186A (ja) | 1993-05-21 |
| JP3099984B2 JP3099984B2 (ja) | 2000-10-16 |
Family
ID=17791271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP03293166A Expired - Lifetime JP3099984B2 (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | ポリフェニレンスルフィドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3099984B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001261831A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-26 | Toray Ind Inc | ポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法およびポリアリーレンスルフィド樹脂組成物 |
| JP2003105087A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-04-09 | Toray Ind Inc | フィルムまたは繊維用ポリアリーレンスルフィド樹脂、その製造方法及びフィルムまたは繊維 |
| JP2005232254A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Toray Ind Inc | ポリアリーレンスルフィド樹脂および押出成形品 |
| JP2018141174A (ja) * | 2010-03-10 | 2018-09-13 | エスケー ケミカルズ カンパニー リミテッド | ポリアリーレンスルフィド及びその製品 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH06197839A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-07-19 | Nakanishi Seisakusho:Kk | 米飯の冷却方法並びにそれに用いる米飯冷却装置 |
| JPH0799949A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-18 | Takahashi Kogyo Kk | 洗浄滅菌装置付フリーザー |
-
1991
- 1991-11-08 JP JP03293166A patent/JP3099984B2/ja not_active Expired - Lifetime
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