JPH0512653A

JPH0512653A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0512653A
Application number: JP3190980A
Authority: JP
Inventors: Setsuko Kawahara; 説子河原; Katsuyuki Takeda; 克之竹田; Takeo Ito; 武男伊藤; Toshihiko Oguchi; 寿彦小口
Original assignee: Toshiba Corp; Konica Minolta Inc
Current assignee: Toshiba Corp; Konica Minolta Inc
Priority date: 1991-07-05
Filing date: 1991-07-05
Publication date: 1993-01-22

Abstract

(57)【要約】【構成】支持体上１に、磁性粉を含有する１層以上の
磁性層２を設けてなる磁気記録媒体におてい、少なくと
も１層の前記磁性層の抗磁力をＨｃ₁とし、この磁性層
に含まれる前記磁性粉の抗磁力をＨｃ₂としたとき、（Ｈｃ₁−Ｈｃ₂）≧100 Ｏｅであることを特徴とする磁気記録媒体。【効果】磁気記録媒体の抗磁力の不安定さを原因とす
る、出力低下、記録むら、オーバーライト性能の低下を
改善し、経時的な磁気記録減磁を防止し、更に、製造時
の磁性粉の分散性及び磁性塗料の塗布安定性の高い磁気
記録媒体を提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク、磁気テー
プ、磁気シート等の磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来技術】近年、磁気記録媒体は益々高性能なものが
指向され、高密度記録が可能な高い電磁変換特性を有す
る磁気ディスク、磁気テープ等の出現が望まれている。

【０００３】磁気記録媒体の電磁変換特性を向上するた
めに、従来より、飽和磁化量の大きい磁性粉の使用、磁
性粉の分散性向上、磁性層に関しては、重層化或は角形
比、抗磁力、飽和磁束密度等の向上、更には表面平滑度
の調整等多種の試みがなされて来た。

【０００４】ところで、磁気記録媒体の抗磁力は温度の
影響を受けて変化することが知られている。即ち、磁気
記録或は再生時に、磁気記録媒体及び磁気ヘッドは相互
の摩擦によって共に温度が上昇し、抗磁力は不安定とな
る。このため、磁気ヘッドからの書き込みが困難となっ
たり、出力低下、記録むら或はオーバーライト特性の低
下等のトラブルが起こるという問題があった。

【０００５】特開平２−270123号公報には、板状六方晶
フェライトを磁性粒子とし、この磁性粒子の抗磁力が温
度の上昇時に低下するものを用いて、フェライト磁気ヘ
ッドの飽和磁束密度が温度上昇とともに低下することに
対応させ、オーバーライト性能の低下を防止する技術が
開示されている。

【０００６】しかし、オーバーライト性能の低下等の諸
問題は、上記技術で必ずしも解決されるものではない。
即ち、磁気記録媒体の製造時に、磁性粉の分散性を高め
るために高性能の混練機を用いたり、磁性層中の磁性粉
の配向を高磁場で行ったり、或はカレンダーロールの圧
力を高める等によって磁性粉の充填度を上げることによ
って、磁性層の抗磁力は上昇する。この抗磁力の上昇分
が、後に、磁気記録−再生時の抗磁力の不安定さ、経時
に従って発生する磁気記録減磁、等の原因となってい
た。

【０００７】更に、前記技術に用いる、温度上昇時に抗
磁力の低下する磁性粒子は、高性能の混練機を用いて高
剪断力の下で分散を行うと、軟らかい凝集体（いわゆる
ダマ）が発生し、これが原因となってチキソトロピーの
傾向の強い、塗布安定性の悪い磁性塗料となる問題もあ
った。

【０００８】

【発明の目的】本発明の目的は、磁気記録媒体の抗磁力
の不安定さを原因とする、出力低下、記録むら、オーバ
ーライト性能の低下を改善し、経時的な磁気記録減磁を
防止し、更に、製造時の磁性粉の分散性及び磁性塗料の
塗布安定性の高い磁気記録媒体を提供することにある。

【０００９】

【発明の構成及びその作用効果】本発明は、支持体上
に、磁性粉を含有する１層以上の磁性層を設けてなる磁
気記録媒体において、少なくとも１層の前記磁性層の抗
磁力をＨｃ₁とし、この磁性層に含まれる前記磁性粉の
抗磁力をＨｃ₂としたとき、（Ｈｃ₁−Ｈｃ₂）≧100 Ｏｅ〔１〕（好ましくは≧150 Ｏｅ、≦500 Ｏｅ、更には≧180 Ｏ
ｅ、≦400 Ｏｅ）であることを特徴とする磁気記録媒体
に関するものである。

【００１０】上記において特に、前記磁性層が複数であ
り、かつ、最外層の磁性層の抗磁力Ｈｃ₁及びこの磁性
層に含まれる磁性粉の抗磁力Ｈｃ₂が、前記〔１〕式を
満たすものであることが好ましい。

【００１１】また、本発明は支持体上に、磁性粉を含有
する複数の磁性層を設けてなる磁気記録媒体において、
少なくとも１層の前記磁性層の抗磁力をＨｃ₁とし、こ
の磁性層に含まれる前記磁性粉の抗磁力をＨｃ₂とした
とき、（Ｈｃ₁−Ｈｃ₂）≧100 Ｏｅ〔１〕（好ましくは≧150 Ｏｅ、≦500 Ｏｅ、更には≧180 Ｏ
ｅ、≦400 Ｏｅ）であり、かつ、この磁性層に隣接する
少なくとも１層の前記磁性層の抗磁力をＨ′ｃ₁とし、
この磁性層に含まれる前記磁性粉の抗磁力をＨ′ｃ₂と
したとき、 −50Ｏｅ≦（Ｈ′ｃ₁−Ｈ′ｃ₂）≦300 Ｏｅ
〔２〕（好ましくは-50 Ｏｅ以上、200 Ｏｅ以下、更には０Ｏ
ｅ以上、180 Ｏｅ以下）であることを特徴とする磁気記
録媒体に関するものである。

【００１２】上記において、前記〔１〕式を満たす前記
各磁性層に含まれる磁性粉が六方晶系磁性粉からなるこ
とが好ましい。

【００１３】また、上記において、前記〔２〕式を満た
す前記各磁性層に含まれる磁性粉が、コバルト含有Ｆｅ
Ｏｘ（但し、1.33≦ｘ≦1.50である。）からなることも
好ましい。

【００１４】本発明者は、磁気記録媒体の製造時に、以
下のような操作を行うことによって、形成された磁性層
の抗磁力Ｈｃ₁が上昇し、原料磁性粉の抗磁力Ｈｃ₂と
の差を100 Ｏｅ以上、好ましくは150Ｏｅ以上、さらに
好ましくは180 Ｏｅ以上とすることができること。ま
た、この100 Ｏｅ以上の差を有するように形成された磁
性層を有する磁気記録媒体は、出力低下、記録むら、オ
ーバーライト特性の低下等が起こらず、経時的な記録減
磁もほとんどないという優れた性能を有することを見出
した。

【００１５】即ち、上記の操作とは（１）混練時に高い剪断力を加える。（２）磁性塗料をウエットオンウエット方式で少なく
とも最外層はエクストルージョン型コーターを用いて塗
布する。また、塗布スピードを早めにする。（３）塗布後の配向を高磁場で繰り返し行う。（４）カレンダーロールの圧力を高める。等であり、これらの操作のうちの少なくとも一つを実施
することによって、上記の100 Ｏｅ以上の差を有する磁
性層を得ることができる。

【００１６】上記の100 Ｏｅ以上の差を有する磁性層
は、最外層の磁性層として形成されることが最も有効で
あるが、勿論これが最外層以外の磁性層であってもよ
い。また、この磁性層に隣接して、磁性層の抗磁力Ｈ′
ｃ₁とこの磁性層に使用する磁性粉の抗磁力Ｈ′ｃ₂と
の差が〔２〕式を満たす磁性層を形成することにより、
より一層前記の効果を発揮することが可能となる。

【００１７】本発明で使用する磁性粉はどのようなもの
でもよく、例えばストロンチウムフェライト、バリウム
フェライト等の六方晶系フェライト磁性粉、Ｃｏ−γ−
Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有Ｆｅ₃Ｏ₄等の酸化鉄磁性粉、Ｆ
ｅ、Ｆｅ−Ａｌ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ等の金属磁性粉、そ
の他ＣｒＯ₂等の酸化物、窒化鉄、炭化鉄等も使用する
ことができるが、中でも〔１〕式の要件を満たす磁性粉
として六方晶系フェライトを使用し、〔２〕式の要件を
満たす磁性粉としてＣｏ含有酸化鉄磁性粉を使用するこ
とが好ましい。

【００１８】上記六方晶系フェライトの中でもバリウム
フェライト（以後Ｂａ−フェライトと略す）が好まし
く、特に一般式ＢａＯ・ｎ（Ｆｅ_1-mＭ_m）₂Ｏ₃ 〔但し、式中、ＭはＺｎ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｉ
ｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖから選ばれる少なくとも
１種、好ましくは２種以上の元素であり、ｍは０〜0.2
、ｎは5.4 〜12.0の数を表す。〕であるものが好まし
い。

【００１９】上記Ｂａ−フェライトはＢＥＴ値30m²／ｇ
以上、板状比２〜15、保磁力200 〜2000Ｏｅのものを使
用することが好ましい。また、平均粒径は0.3 μｍ以下
が好ましく、0.01〜0.3 μｍが更に好ましい。平均粒径
が0.3 μｍを超えると記録再生時のノイズが著しくなっ
て、高密度記録に適さなくなり、本発明の効果を発揮で
きないことがある。

【００２０】目的とするＢａ−フェライトを形成するに
は、必要な上記各元素の酸化物、炭酸化物を、たとえば
ホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶融し、得られ
た酸液を急冷してガラスを形成し、次いでこのガラスを
所定温度で熱処理して目的とするＢａ−フェライトの結
晶粉末を析出させ、最後にガラス成分を熱処理によって
除去するガラス結晶化法が適用可能であり、その他に
も、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコ
キシド法、プラズマジェット法等が適用可能である。

【００２１】一方、Ｃｏ含有酸化鉄磁性粉としてはＣｏ
含有ＦｅＯｘ（但し、ｘは1.33〜1.50である。）で表さ
れる、コバルトを含有又は吸着している酸化鉄であるこ
とが好ましい。このＣｏ含有酸化鉄のｘは1.33〜1.50で
あるが、好ましくは1.35〜1.48、更に好ましくは1.38〜
1.46である。

【００２２】この磁性粉は例えば以下の方法によって製
造される。すなわち、まず公知の方法で硫酸第１鉄水溶
液と苛性ソーダ水溶液から水酸化第１鉄の沈澱をつく
る。コバルト含有ＦｅＯｘを調製する場合には、上記の
硫酸第１鉄水溶液中に塩化コバルト等の水溶性塩を加え
ると良い。また、コバルト以外にもＡｌ、Ｓｉ、Ｐ等の
原子を導入して変性酸化鉄を調製することも可能であ
る。

【００２３】次に、上記沈澱液中に空気を吹き込みなが
ら攪拌してゲーサイト（α−ＦｅＯＯＨ）とする。これ
を水洗乾燥した後、更に焼成炉で脱水還元を行う。この
時、焼成温度及び焼成時間を適宜調整することによっ
て、所望のｘ値を有するマグネタイト化磁性粉を得るこ
とができる。更に、コバルト被着ＦｅＯｘを調製するに
は、得られたマグネタイト化磁性粉を、塩化コバルト、
硫酸コバルト等を溶解した水溶液中へ分散し、苛性ソー
ダ水溶液で中和する。これを昇温攪拌後、スラリー状の
酸化鉄を取り出し、水洗、濾過、乾燥する。この場合に
も、Ｃｏだけでなく、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ等の原子を導入し
て変性酸化鉄を調製することができる。

【００２４】本発明の磁性層に用いることのできる結合
剤は、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニ
ル系樹脂、その他特開平２−154320号公報３頁右上２行
目〜20行目に例示されるものであるが、前記各層に含ま
れる結合剤のうちの少なくとも一種には陰性有機基が導
入されていることが好ましい。

【００２５】上記の陰性有機基とは、例えば−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ′）₂、−ＯＳＯ₃Ｍ
（但し、Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子であり、
Ｍ′は水素原子、アルカリ金属原子又はアルキル基であ
る。）であるが、中でも−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ及び−
ＰＯ（ＯＭ）₂（但し、Ｍは水素原子、Ｌｉ、Ｎａ又は
Ｋである。）が磁性粉の分散性を向上し、ひいては媒体
の電磁変換特性及び耐久性を向上する上で好ましい。

【００２６】上記各層用の結合剤に含まれる陰性有機基
は、夫々の陰性有機基を有する結合剤に対して0.1 〜8.
0 モル％、更には0.5 〜6.0 モル％含まれることが磁性
粉の分散性を向上させるために好ましい。含有率が0.1
モル％より少ないと分散性が低下し、8.0 モル％より多
いと磁性塗料がゲル化し易くなる。また、重量平均分子
量は好ましくは15,000〜80,000である。結合剤の磁性層
中の含有率は磁性粉100 重量部に対して、５〜40重量部
（好ましくは５〜30重量部）の範囲とする。この場合、
ポリウレタン及び／又はポリエステルと塩化ビニル系樹
脂との比は重量比で通常は100 ：０〜10：90（好ましく
は90：10〜30：70）の範囲内とする。

【００２７】本発明に係る支持体は、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリカーボネート等の公知のも
のであり、例えば特開平２−260122号公報の２頁右下６
行目〜３頁左上10行目に挙げられるものである。

【００２８】その他磁性層には必要に応じて、カーボン
ブラック、分散剤、潤滑剤、研磨剤及び帯電防止剤等の
添加剤等を含有させてもよい。

【００２９】カーボンブラックは、特に最外層の磁性層
に含有させることによって、磁性層の表面性及びＢａ−
フェライトの分散性を改善する効果があり、更に、遮光
性及び導電性も付与される。このようあカーボンブラッ
クとしては窒素吸着法比表面積であるＢＥＴ値１〜800
m²／ｇ、平均粒径10〜1000ｍμ、ＤＢＰ吸油量10〜400m
l ／100gr のものがあり、例として特開平３−63928 号
公報第６頁左下16行目〜同第７頁左上12行目のものが挙
げられる。

【００３０】分散剤としては、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、オレイン酸等の脂肪
酸やリン酸エステル、アルキルコハクスルホン酸等があ
り、例えば特願平２−189713号公報３頁右上20行目〜３
頁左下９行目に示されるものが挙げられる。

【００３１】潤滑剤としては、ブチルステアレートやオ
レイルオレート、２−エチルヘキシルステアレート、ジ
オレイルアジペート、２−エチルヘキシルパルミテー
ト、ブチルパルミテート、ラウリルオレート等の脂肪酸
エステル、前記の脂肪酸やシリコーンオイルをはじめ、
例えば特開平２−154319号公報の13頁右上14行目〜14頁
左下２行目或は、特開平２−132639号公報の７頁左上20
行目〜右下１行目に示されるものが挙げられる。

【００３２】研磨剤としては、アルミナ、酸化クロム、
α−酸化鉄（ベンガラ）、窒化ホウ素、炭化ケイ素、酸
化ジルコニウム、酸化ケイ素等の他、例えば特開平１−
277322号７頁左上15行目〜右上２行目のものが挙げられ
る。

【００３３】帯電防止剤としては、例えば特願平２−13
2639号公報８頁右上４行目〜左下５行目に示されるもの
が挙げられる。

【００３４】上記磁性層を形成するための磁性塗料に配
合される溶剤としては、トルエン、キシレン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸
エチル、エチレングリコールモノアセテート等の例えば
特開平１−159828号公報８頁右上１行目〜16行目に示さ
れるものが挙げられる。

【００３５】本発明において使用される磁性塗料は、磁
性粉、結合剤、潤滑剤や必要に応じて研磨剤、分散剤、
帯電防止剤等を溶媒中で混練及び分散して製造される。
磁性塗料の混練及び分散に使用される混練分散機の例と
しては、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミ
ル、トロンミル，ペブルミル、コンボルミル、サンドミ
ル、サンドグラインダー、Szegveri アトライター、高
インペラー分散機、高速度衝撃ミル、高速ストーンミ
ル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音
波分散機、オープンニーダー、連続ニーダー、加圧ニー
ダー、プラネタリーニーダー等が挙げられるが、特に高
い剪断力を有する連続ニーダー、加圧ニーダー等を使用
することが好ましい。

【００３６】なお、上記結合剤の強度及び耐久性を増す
ために混練、分散後に加える硬化剤としては、エポキシ
化合物やポリイソシアネート化合物等例えば特開平２−
132640号公報９頁右上１行目〜右下17行目に示されるも
のが挙げられる。

【００３７】本発明の磁気記録媒体、例えば磁気テープ
は、図１及び図２に示すように、支持体１の片面に磁性
粉を含有する磁性層２及び４と、また、必要あれば更に
オーバーコート層（図示せず）とがこの順序にそれぞれ
積層して設けられている。

【００３８】下層２は図２に示すような１層でもよい
が、２層或はそれ以上でもよい。

【００３９】また必要があれば磁性層と反対の面にバッ
クコート層３を設けてもよく、更に、下層２と支持体１
との間に下引き層（図示せず）を設けたものであっても
よい。また、支持体１にコロナ放電処理を施してもよ
い。

【００４０】本発明に係る磁性層の重層構造は、ウエッ
ト・オン・ウエット方式の重層塗布（即ち、下層の磁性
層用塗料が未乾燥のうちに、上層の磁性層用塗料を塗布
すること）により形成することが望ましいが、勿論ウエ
ット・オン・ドライ方式（即ち、下層を乾燥させた後に
上層を塗布すること）、或はその他の方法による形成で
あてもよい。

【００４１】磁性層の厚みは、最外層で2.5 μｍ以下で
更には0.01〜1.5 μｍが好ましく、また、全ての磁性層
の合計厚さが4.0μｍ以下、更には0.1 〜3.5 μｍであ
ることが好ましい。

【００４２】次に、ウエット・オン・ウエット方式によ
る磁気記録媒体の製造法の一例を図３に従って説明す
る。まず供給ロール32から繰出されたフィルム状支持体
１上には、押し出しコータ10、11により、上記した磁性
層２、４用の磁性塗料が塗布される。

【００４３】複数の磁性層を、ウエット・オン・ウエッ
ト方式で塗布するための押し出しコーターの一例を図４
に示す。ここにおいて、図４（Ａ）は２基の押し出しコ
ーターを並べて使用する方法であり、図４（Ｂ）は押し
出し用スリットは分離されているが、吐出口は一体化し
た例である。また図４（Ｃ）は、スリット及び吐出口を
一体化した例である。

【００４４】上記の塗布方法において、各塗料は、図示
しないインラインミキサーを通して押し出しコータ10、
11へと供給してよい。押し出しコータ10、11には夫々、
液溜り部13、14が設けられ、各コーターからの塗料をウ
エット・オン・ウエット方式で重ねる。この際の塗布ス
ピードは20〜600 ｍ／分が好ましく、50〜500 ｍ／分が
更に好ましい。

【００４５】このウエット・オン・ウエット方式におけ
る重層塗布においては、下層が湿潤状態のままで上層の
磁性層を塗布するので、下層の表面（即ち、上層との境
界面）が滑らかになるとともに上層の表面性が良好にな
り、かつ、上下層間の接着性も向上する。

【００４６】この結果、特に高密度記録のために高出
力、低ノイズの要求される例えば磁気テープとしての要
求性能を満たしたものとなり、更にドロップアウトも低
域することができるため、信頼性も向上する。

【００４７】上記ウエット・オン・ウエット方式によっ
て形成される上下層間には、明確な境界が実質的に存在
する場合以外に、一定の厚みで以て、両層の成分が混在
してなる境界領域が存在する場合があるが、こうした領
域を除いた上側及び下側の層を上記の磁性層とするいず
れの場合も、本発明の範囲に含まれる。

【００４８】上記ウエット・オン・ウエット方式によっ
て磁性塗料が形成された後、例えば6000Gauss の前段配
向磁石33により配向され、更に、例えば6000Gauss の後
段配向磁石35を配した乾燥器34に導入され、ここで上下
に配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。配向磁
石は4000Gauss 以上、更には6000〜10000Gaussのものを
３段以上、更には５〜６段使用することが好ましい。

【００４９】次に、乾燥された各塗布層付きの支持体１
はカレンダーロール38の組合わせからなるスーパーカレ
ンダー装置37に導かれ、ここでカレンダー処理された後
に、巻き取りロール39に巻き取られる。このカレンダー
処理は、40〜120 ℃の下に40〜400 kg／m²、更には、60
〜300 Kg／mm²の圧力で行なうことが好ましい。

【００５０】このようにして得られた磁性フィルムをス
リットして磁気テープを製造する。

【００５１】

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。成分、割合、操作順序等は、本発明の精神から逸
脱しない範囲において種々変更しうる。なお、下記の例
において「部」はすべて重量部である。

【００５２】実施例１〜23、比較例１〜６〈第３層（最上層）用磁性塗料〉磁性粉（表１参照） 100部塩化ビニル樹脂（日本ゼオン：ＭＲ110 ）６〃スルホン酸変性ポリウレタン樹脂 13〃（東洋紡績社製：ＵＲ8700、ＭＥＫ／トルエンの固形分30wt％溶液）カーボンブラック１〃 α−Ａｌ₂Ｏ₃ ５〃リン酸エステル（東邦化学工業社製：ＲＥ610 ）２〃メチルエチルケトン適量トルエン適量

【００５３】上記組成物を加圧ニーダーで混練し、下記組成物で希釈した。シクロヘキサノン適量メチルエチルケトン〃トルエン〃ミリスチン酸１部ステアリン酸１〃脂肪酸エステル１〃

【００５４】これを攪拌、分散後、ポリイソシアネート
5.0 重量部を加え、最上層用磁性塗料とした。なお、こ
の磁性塗料は、最上層用であるが、磁性層が単層の場合
にも使用している（実施例１〜５、23及び比較例１〜
４）。

【００５５】〈第２層（中間層）、第１層（下層）用磁性塗料〉強磁性粉末（詳細は表１に記載） 100部塩化ビニル樹脂（日本ゼオン：ＭＲ110 ） 10〃スルホン酸変性ポリウレタン樹脂 15〃（東洋紡績社製：ＵＲ8700、ＭＥＫ／トルエンの固形分30wt％溶液）カーボンブラック１〃メチルエチルケトン適量トルエン〃

【００５６】上記組成物を加圧ニーダーで混練し、前記
の希釈用組成物で希釈し、攪拌、分散後、ポリイソシア
ネート5.0 重量部を加え、中間層又は下層用磁性塗料と
した。

【００５７】これら磁性塗料（これら磁性塗料の組成
中、メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン
が適量とあるのは各磁性塗料の調整に際して各磁性粉10
0 部に対してメチルエチルケトン、トルエン、シクロヘ
キサノンを各100 部ずつ、混練、分散の様子をみながら
添加したことを表す。）を用いて、7.5 μｍのポリエチ
レンテレフタレート支持体上に乾燥膜厚等が表２の通り
になるよう塗設し、裏面には下記組成のバックコート層
（乾燥膜厚0.5 μｍ）を設け８mm幅に断裁しビデオテー
プを製造した。

【００５８】〈バックコート層用塗料〉カーボンブラック（平均粒径26ｍμ） 40部硫酸バリウム（平均粒径300 ｍμ） 10〃ニトロセルロース 25〃ポリウレタン（日本ポリウレタン社製のＮ−2301） 25〃ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製のコロネートＬ） 10〃シクロヘキサノン 400〃メチルエチルケトン 250〃トルエン 250〃

【００５９】各例の結果を表３に示した。なお、表３に
おいては磁性層の抗磁力をＴＨｃ、磁性粉の抗磁力をＯ
Ｈｃと表している。また、性能評価は以下の方法で行っ
た。なお、オーバーライト特性については、「繰返し記
録再生ルミＳ／Ｎ」の値で判定した。

【００６０】（ａ）膜厚変動（％）試料用磁気テープの先端から終端迄の全長の磁性層乾燥
膜厚を測定し、この膜厚の変動幅を算出した。

【００６１】（ｂ）ＲＦ出力変動（ｄＢ）（ａ）と同じく全長走行させたときのＲＦ出力を測定
し、最大値と最小値の差を求めた。

【００６２】（ｃ）Ｈｃ低下率（％） 20℃における磁性層の抗磁力を基準（０ｄＢ）とし、50
℃及び80℃において48時間経過後の抗磁力の低下率を求
めた。

【００６３】（ｄ）繰返し記録再生ルミＳ／Ｎ（繰返し
ルミＳ／Ｎ）試料テープ上にホワイト100 ％の信号を基準レベルで
入力し、再生ビデオ信号を921 Ｄ／１〔（株）シバソク
製ノイズメータ〕に入力し、得られるノイズ絶対値より
ルミＳ／Ｎを読み取った。比較例４のテープの値をゼロ
としたときの相対値で示した。（測定単位：ｄＢ）上記と同じ部分のテープについて記録再生を30回繰返
し、再度ルミＳ／Ｎを測定した。（のルミＳ／Ｎ値）−（のルミＳ／Ｎ値）＝繰返
し記録再生ルミＳ／Ｎとした。

【００６４】表１磁性粉抗磁力飽和磁化量 SBet値平均針状比或は No. 磁性粉種 Hc(Oe) (emu/g) (m²/g) 平均板状比 ──────────────────────────────────── １ Co-γ-FeOx(x=1.44) 750 75 45 針状比８２〃 (x=1.48) 980 76 55 〃３３〃 (x=1.50) 900 72 45 〃８４〃 (x=1.33) 900 82 45 〃８５〃 (x=1.36) 650 80 40 〃 11 ６〃 (x=1.38) 950 78 50 〃６７ Fe-Al 1400 100 56 〃 8.5 ８〃 1600 120 60 〃 7.3 ９ BaO(Fe₂O₃) 1050 62 37 板状比 3.5 10 〃 1200 55 50 〃 5.0 11 BaO・6(Fe_0.84 730 53 35 〃７ Co _0.08 Ti _0.08)₂O₃ 12 BaO・6(Fe_0.94 750 55 〃〃７ Co _0.03 Ti _0.03)₂O₃

【００６５】表２Ａ実施例１２３４５６ ───────────────────────────────── 第３層磁性粉No. ９８２３６７混練時間(hr) 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 ^*1コーター種類ＥＥＥＥＥＥ配向磁石 10000G 10000G 10000G 10000G 10000G 6000G 5 段 5 段 5 段 5 段 5 段 5 段乾燥工程有無有有有有有有乾燥膜厚（μｍ） 3.0 3.0 3.5 3.5 3.5 0.5 第２層磁性粉No. − − − − − ９混練時間(hr) − − − − − 1.5 コーター種類 − − − − − Ｒ配向磁石 − − − − − 10000G 5 段乾燥工程有無 − − − − − 有乾燥膜厚（μｍ） − − − − − 2.5 第１層磁性粉No. − − − − − − 混練時間(hr) − − − − − − コーター種類 − − − − − − 配向磁石 − − − − − − 乾燥工程有無 − − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） − − − − − −^*2 Wet-on-Wetコーター − − − − − −^*6 カレンダー条件温度（℃） 80 80 80 80 80 80 圧力（Kg/cm²) 80 80 80 80 80 80

【００６６】表２Ｂ実施例７８９ 10 11 12 ───────────────────────────────── 第３層磁性粉No. ８ 10 10 ９９ 10 混練時間(hr) 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 コーター種類ＥＥＥＥＥＥ配向磁石 6000G 6000G 6000G 6000G 6000G 10000G 5 段 5 段 5 段 5 段 5 段 5 段乾燥工程有無有有有有有有乾燥膜厚（μｍ） 0.5 0.5 0.5 0.3 0.3 0.5 第２層磁性粉No. ９９７２６９混練時間(hr) 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 コーター種類ＥＲＲＲＲＥ配向磁石 − 10000G 10000G 10000G 10000G − 5 段 5 段 5 段 5 段乾燥工程有無無有有有有 − 乾燥膜厚（μｍ） 0.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 第１層磁性粉No. １ − − − − − 混練時間(hr) 1.0 − − − − − コーター種類Ｒ − − − − − 配向磁石 10000G − − − − − 5 段乾燥工程有無無 − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） 2.0 − − − − − Wet-on-Wetコーター (Ａ) − − − − (Ａ) カレンダー条件温度（℃） 80 80 80 80 80 80 圧力（Kg/cm²) 100 100 100 100 100 100

【００６７】表２Ｃ実施例 13 14 15 16 17 18 ───────────────────────────────── 第３層磁性粉No. 10 ９９９９９混練時間(hr) 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 コーター種類ＥＥＥＥＥＥ配向磁石 10000G 10000G 10000G 10000G 10000G 10000G 5 段 5 段 5 段 5 段 5 段 5 段乾燥工程有無有有有有有有乾燥膜厚（μｍ） 0.5 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 第２層磁性粉No. ７２６２２２混練時間(hr) 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 コーター種類ＥＥＥＥＥＥ配向磁石 − − − − − − 乾燥工程有無 − − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） 2.5 2.5 2.5 0.5 0.5 0.5 第１層磁性粉No. − − − １４５混練時間(hr) − − − 1.0 1.0 1.0 コーター種類 − − − ＥＥＥ配向磁石 − − − − − − 乾燥工程有無 − − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） − − − 2.0 2.0 2.0 Wet-on-Wetコーター (Ａ) (Ａ) (Ａ) (Ａ) (Ａ) (Ａ) カレンダー条件温度（℃） 80 80 80 80 80 80 圧力（Kg/cm²) 100 100 100 100 100 100

【００６８】表２Ｄ実施例 19 20 21 22 23 ───────────────────────────── 第３層磁性粉No. ９９９９ 11 混練時間(hr) 3.0 3.0 3.0 3.0 1.5 コーター種類ＥＥＥＥＥ配向磁石 10000G 10000G 10000G ^*3 ^*3 5 段 5 段 5 段乾燥工程有無有有有有有乾燥膜厚（μｍ） 0.3 0.3 0.3 0.3 3.0 第２層磁性粉No. ２２２２ − 混練時間(hr) 1.5 1.5 1.5 1.5 − コーター種類ＥＥＥＥ − 配向磁石 − − − − − 乾燥工程有無 − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） 2.5 2.5 2.5 2.5 − 第１層磁性粉No. − − − − − 混練時間(hr) − − − − − コーター種類 − − − − − 配向磁石 − − − − − 乾燥工程有無 − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） − − − − − Wet-on-Wetコーター (Ａ) (Ｂ) (Ｃ) (Ｂ) − カレンダー条件温度（℃） 80 80 80 80 80 圧力（Kg/cm²) 100 100 100 100 100

【００６９】表２Ｅ比較例１２３４５６ ───────────────────────────────── 第３層磁性粉No. 12 12 ９９９９混練時間(hr) 1.5 ^*424 1.5 1.4 1.5 1.5 コーター種類ＲＥＥ ^*5 ＲＥ配向磁石 ^*3 ^*3 4000G 10000G 10000G 10000G 3 段 5 段 5 段 5 段乾燥工程有無有有有有有有乾燥膜厚（μｍ） 3.0 3.0 3.0 3.0 0.5 0.5 第２層磁性粉No. − − − − ９９混練時間(hr) − − − − 1.5 1.5 コーター種類 − − − − ＲＥ配向磁石 − − − − 10000G 4000G 5 段 3 段乾燥工程有無 − − − − 有 − 乾燥膜厚（μｍ） − − − − 2.5 2.5 第１層磁性粉No. − − − − − − 混練時間(hr) − − − − − − コーター種類 − − − − − − 配向磁石 − − − − − − 乾燥工程有無 − − − − − − 乾燥膜厚（μｍ） − − − − − − Wet-on-Wetコーター − − − − − Ａカレンダー条件温度（℃） 80 80 80 80 80 80 圧力（Kg/cm²) 300 300 300 300 300 300 ＊１コーター種類中、Ｅはエクストルージョン型、Ｒ
はリバースロール型を表す。＊２ｗｅｔ−ｏｎ−ｗｅｔコーター種類の（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）は、図４の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に夫
々対応している。＊３配向磁石に替えて、ソレノイド磁石を用いて配向
を行った。ソレノイド磁石は、図５に示すように銅線等
が所定数巻回され円筒状となされたソレノイド24よりな
るもので、そのコイルの両端部に交流電源25が接続され
て構成されている。なお、上記ソレノイド24の空間部に
は、前記非磁性支持体１が走行するようになされてい
る。＊４混練を行わず、組成物をボールミルで約24時間混
合した後分液を行った。＊５コータースピード（他の例では400 ｍ／分）を10
0 ｍ／分とした。＊６カレンダーロールを３回通過させた。

【００７０】表３Ａ実施例１２３４５６７８ ──────────────────────────────────── 第３層^*1 THc(Oe) 1320 2000 1160 1000 1150 1500 1680 1350 THc-^*2OHc(Oe) +270 +400 +180 +100 +200 +100 + 80 +150 第２層^*1 THc(Oe) − − − − − 1230 1130 1200 THc-^*2OHc(Oe) − − − − − +180 + 80 +150 第１層^*1 THc(Oe) − − − − − − 930 − THc-^*2OHc(Oe) − − − − − − +180 − 膜厚変動(%) ±1.0 ±1.0 ±1.0 ±1.0 ±1.0 ±3.0 ±3.0 ±3.0 RF出力変動(%) ±0.15±0.15±0.15±0.3 ±0.15±0.2 ±0.2 ±0.2 THc 低下率(%) 50℃ ００００００００ 80℃ −3.0 −3.0 −3.0 −3.0 −3.0 −1.0 −1.0 −1.0 繰返しルミS/N ００００００００＊１磁性層の抗磁力＊２磁性粉の抗磁力

【００７１】表３Ｂ実施例９ 10 11 12 13 14 15 16 ──────────────────────────────────── 第３層^*1 THc(Oe) 1350 1200 1200 1500 1500 1350 1350 1350 THc-^*2OHc(Oe) 150 150 150 300 300 300 300 300 第２層^*1 THc(Oe) 1580 1180 1140 1100 1400 950 900 1180 THc-^*2OHc(Oe) 180 200 190 50 ０ -30 -50 100 第１層^*1 THc(Oe) − − − − − − 700 THc-^*2OHc(Oe) − − − − − − -50 膜厚変動(%) ±3.0 ±3.0 ±3.0 ±0.5 ±0.5 ±0.5 ±0.5 ±0.5 RF出力変動(%) ±0.2 ±0.2 ±0.2 ±0.1 ±0.1 ±0.1 ±0.1 ±0.1 THc 低下率(%) 50℃ ００００００００ 80℃ -1.0 -1.0 -1.0 -0.5 -0.5 -0.5 -0.5 -0.5 繰返しルミS/N ００００００００＊１磁性層の抗磁力＊２磁性粉の抗磁力

【００７２】表３Ｃ実施例 17 18 19 20 21 22 23 ─────────────────────────────── 第３層^*1 THc(Oe) 1350 1350 1450 1600 1600 1800 910 THc-^*2OHc(Oe) 300 300 400 550 550 750 180 第２層^*1 THc(Oe) 1100 1180 980 1180 1280 1230 − THc-^*2OHc(Oe) 120 200 ０ 200 300 250 − 第１層^*1 THc(Oe) 880 600 − − − − − THc-^*2OHc(Oe) -20 -50 − − − − − 膜厚変動(%) ±0.5 ±0.5 ±0.5 ±0.1 ±0.1 ±0.1 ±1.0 RF出力変動(%) ±0.1 ±0.1 ±0.1 ±0.01±0.01±0.01±0.15 THc 低下率(%) 50℃ ０００００００ 80℃ ０ -0.5 ００００ -3.0 繰返しルミS/N ０００００００＊１磁性層の抗磁力＊２磁性粉の抗磁力

【００７３】表３Ｄ比較例１２３４５６ ──────────────────────────── 第３層 ^*1THc(Oe) 780 765 1100 1000 1280 780 THc-^*2OHc(Oe) +30 +15 +50 -50 +80 +30 第２層 ^*1THc(Oe) − − − − 1100 1100 THc-^*2OHc(Oe) − − − − +50 +50 第１層 ^*1THc(Oe) − − − − − − THc-^*2OHc(Oe) − − − − − − 膜厚変動(%) ±5.0 ±20.0±1.0 ±1.0 ±3.5 ±20 RF出力変動(%) ±1.0 ±5.0 ±0.5 ±0.5 ±7.5 ±5.4 THc 低下率(%) 50℃ 5.0 10.0 20.0 28.0 30 30 80℃ 45.0 32.0 22.0 31.0 45 35 繰返しルミS/N -2.5 -3.0 -3.0 -2.0 -5.0 -5.0 ＊１磁性層の抗磁力＊２磁性粉の抗磁力

【００７４】上記の結果から明らかなように、本発明に
基づく磁気テープは分散性が良好なため膜厚変動がほと
んどない。また、前記〔１〕式の条件を満たすように調
製されているため、ＲＦ出力にむらがなく、長時間の高
温での使用においても抗磁力はほとんど低下しない。こ
のためオーバーライト特性も低下することのない優秀な
ものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】単層塗布の磁気記録媒体の断面図の例である。

【図２】重層塗布の磁気記録媒体の断面図の他の例であ
る。

【図３】磁気記録媒体の製造装置の例である。

【図４】押し出しコータの断面図の例である。

【図５】ソレノイド磁石の例を示す図である。

【符号の説明】

１支持体２、４、磁性層３バックコート層 10、11 押し出しコータ 13、14 液溜まり部 32 供給ロール 33 前段配向磁石 34 乾燥器 35 後段配向磁石 37 スーパーカレンダー装置 38 カレンダーロール 39 巻取りロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者伊藤武男神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地株式会社東芝総合研究所内 (72)発明者小口寿彦神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地株式会社東芝総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、磁性粉を含有する１層以上
の磁性層を設けてなる磁気記録媒体において、少なくと
も１層の前記磁性層の抗磁力をＨｃ₁とし、この磁性層に含まれる前記磁性粉の抗磁力をＨｃ₂とし
たとき、（Ｈｃ₁−Ｈｃ₂）≧100 Ｏｅ〔１〕であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記磁性層が複数であり、かつ、最外層
の磁性層の抗磁力Ｈｃ₁及びこの磁性層に含まれる磁性
粉の抗磁力Ｈｃ₂が前記〔１〕式を満たす、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】支持体上に、磁性粉を含有する複数の磁
性層を設けてなる磁気記録媒体において、少なくとも１
層の前記磁性層の抗磁力をＨｃ₁とし、この磁性層に含
まれる前記磁性粉の抗磁力をＨｃ₂としたとき、（Ｈｃ₁−Ｈｃ₂）≧100 Ｏｅ〔１〕であり、かつ、この磁性層に隣接する少なくとも１層の
前記磁性層の抗磁力をＨ′ｃ₁とし、この磁性層に含ま
れる前記磁性粉の抗磁力をＨ′ｃ₂としたとき、 −50Ｏｅ≦（Ｈ′ｃ₁−Ｈ′ｃ₂）≦300 Ｏｅ〔２〕であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】前記〔１〕式を満たす磁性層に含まれる
磁性粉が六方晶系磁性粉からなる請求項１〜３のいずれ
か１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記〔２〕式を満たす磁性層に含まれる
磁性粉が、コバルト含有ＦｅＯｘ（但し、1.33≦ｘ≦1.
50である。）からなる請求項３又は４に記載の磁気記録
媒体。