JPH05126767A - 放射分析装置 - Google Patents
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- JPH05126767A JPH05126767A JP11490192A JP11490192A JPH05126767A JP H05126767 A JPH05126767 A JP H05126767A JP 11490192 A JP11490192 A JP 11490192A JP 11490192 A JP11490192 A JP 11490192A JP H05126767 A JPH05126767 A JP H05126767A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で分析精度が一層向上した放射分
析装置を提供する。 【構成】 シュミレートされたビーム経路を記録する手
段を含み、放射光のずれ及び分析装置又は試料における
他のずれを検出信号に基いて補正する。この補正を行う
ことにより分析装置における多数の設定の自由度が達成
され、普遍的な用途に適合させることができる。
析装置を提供する。 【構成】 シュミレートされたビーム経路を記録する手
段を含み、放射光のずれ及び分析装置又は試料における
他のずれを検出信号に基いて補正する。この補正を行う
ことにより分析装置における多数の設定の自由度が達成
され、普遍的な用途に適合させることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射源と、分析される
べき試料から放出された放射を検出する放射検出器とを
具える放射分析装置関するものである。
べき試料から放出された放射を検出する放射検出器とを
具える放射分析装置関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線分析装置の形態をした上記型式の放
射分析装置は、米国特許第2853618 号から既知である。
この分析装置において、分析精度は、例えば幾何学的な
光学系の誤差、素子及び試料の位置決め及び方位の変
化、分析されるべき試料の吸収及び回折特性の変化等に
起因する放射光学系のずれにより顕著な影響を受けてし
まう。この結果、解像度及び測定精度が低くなりすぎ厳
格な分析要件を満足しなくなってしまう。さらに、この
分析装置では、放射光学素子の相対的な位置決め及び方
位の自由度は、用いる移動機構によって厳格な制約を受
けるのが一般的である。
射分析装置は、米国特許第2853618 号から既知である。
この分析装置において、分析精度は、例えば幾何学的な
光学系の誤差、素子及び試料の位置決め及び方位の変
化、分析されるべき試料の吸収及び回折特性の変化等に
起因する放射光学系のずれにより顕著な影響を受けてし
まう。この結果、解像度及び測定精度が低くなりすぎ厳
格な分析要件を満足しなくなってしまう。さらに、この
分析装置では、放射光学素子の相対的な位置決め及び方
位の自由度は、用いる移動機構によって厳格な制約を受
けるのが一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】米国特許第4726047 号
明細書に記載されている分析装置は、適合した移動機構
により光学素子の相対的な方位の精度及び位置決めに関
する自由度を一層高めることを目的としている。しかし
ながら、この分析装置においても、放射光学系のずれに
より、十分満足し得る分析精度が得られないのが実情で
ある。しかも、移動機構の機械的構造が比較的複雑化す
る不具合もある。従って、本発明の目的は、比較的簡単
な構造で分析精度を一層向上した放射分析装置を提供す
ることにある。
明細書に記載されている分析装置は、適合した移動機構
により光学素子の相対的な方位の精度及び位置決めに関
する自由度を一層高めることを目的としている。しかし
ながら、この分析装置においても、放射光学系のずれに
より、十分満足し得る分析精度が得られないのが実情で
ある。しかも、移動機構の機械的構造が比較的複雑化す
る不具合もある。従って、本発明の目的は、比較的簡単
な構造で分析精度を一層向上した放射分析装置を提供す
ることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による放射分析装置は、放射光に関する情報
を発生及び処理する装置を具え、装置内におけるずれを
補正する補正信号を発生させるように構成したことを特
徴とする。この補正信号は測定値をシュミレーションに
よって位置決めされた位置、方位及び寸法が理想的に特
定された放射光学素子を用いて補正信号を算出し、その
計算値を中央制御ユニットのメモリに記憶する。その他
実際の測定期間中に、この情報を用いて放射光学系のず
れを補正すると共に、必要に応じて各素子の相対的位置
及び方位に関するずれを補正することができる。シュミ
レーションの目安は、例えば測定されるべき放射パター
ンのピーク位置、ピーク幅又はピーク形状に関して適切
な予測ができるような数の放射径路を含む放射径路シュ
ミレーションコンピュータプログラムによって実行され
る測定値を以て構成する。この目的を達成するため、本
発明による分析装置は、スペクトル分析及び回折装置の
ような放射強度パターンの測定に特に好適であり、測定
すべきラインパターンはシュミレーション測定によって
得た補正信号によって位置及び／又は形状について個別
に補正することができる。
め、本発明による放射分析装置は、放射光に関する情報
を発生及び処理する装置を具え、装置内におけるずれを
補正する補正信号を発生させるように構成したことを特
徴とする。この補正信号は測定値をシュミレーションに
よって位置決めされた位置、方位及び寸法が理想的に特
定された放射光学素子を用いて補正信号を算出し、その
計算値を中央制御ユニットのメモリに記憶する。その他
実際の測定期間中に、この情報を用いて放射光学系のず
れを補正すると共に、必要に応じて各素子の相対的位置
及び方位に関するずれを補正することができる。シュミ
レーションの目安は、例えば測定されるべき放射パター
ンのピーク位置、ピーク幅又はピーク形状に関して適切
な予測ができるような数の放射径路を含む放射径路シュ
ミレーションコンピュータプログラムによって実行され
る測定値を以て構成する。この目的を達成するため、本
発明による分析装置は、スペクトル分析及び回折装置の
ような放射強度パターンの測定に特に好適であり、測定
すべきラインパターンはシュミレーション測定によって
得た補正信号によって位置及び／又は形状について個別
に補正することができる。
【０００５】本発明によるビーム径路シュミレーション
コンピュータプログラムは、分析装置の性能を検討及び
評価し並びに測定値を評価して所望の測定結果を得るた
めに用いるのにも好適である。
コンピュータプログラムは、分析装置の性能を検討及び
評価し並びに測定値を評価して所望の測定結果を得るた
めに用いるのにも好適である。
【０００６】好適実施例として、本発明による放射分析
装置は、前記放射源が可視域又は近可視域の放射ビーム
を発生するように構成され、試料へ放射を投射すること
によって試料の吸収スペクトラムを発生させるように構
成する。
装置は、前記放射源が可視域又は近可視域の放射ビーム
を発生するように構成され、試料へ放射を投射すること
によって試料の吸収スペクトラムを発生させるように構
成する。
【０００７】別の実施例は、Ｘ線ビームを発生させる放
射源を有し、試料上におけるＸ線ビームの回折によって
回折パターンを発生させる。回折パターンを発生させる
場合、Ｘ線回折用のＸ線源の代りに、電子回折パターン
測定用の電子ビームのような粒子ビームを発生させる放
射源を用いることも可能である。Ｘ線源を有する放射分
析装置の放射光学系は分析されるべき試料のＸ線スペク
トラムを発生させるように構成することができる。例え
ばＸ線分析装置の放射光学系について高い設定作業の自
由度を達成するため、Ｘ線源及びＸ線検出器は、放射光
学素子に対して整列機構を有し、それぞれ独立して制御
可能な平行移動機構に個別に装着することができる。こ
れらの素子は、分析すべき試料に対して相互に独立して
制御可能な方法で位置決めし及び向きを定めることがで
きる。この分析装置はＸ線光学系に関して高い設定作業
の自由度を達成するので、例えばブラッグ−ブレンタノ
（Bragg-Brentano) 光学系及びジーマン−ボーリン(See
man-Bohlin) 光学系、並びに必要に応じて分析結晶交換
を介して集束光学系及び非集束性光学系を用いることが
できる。
射源を有し、試料上におけるＸ線ビームの回折によって
回折パターンを発生させる。回折パターンを発生させる
場合、Ｘ線回折用のＸ線源の代りに、電子回折パターン
測定用の電子ビームのような粒子ビームを発生させる放
射源を用いることも可能である。Ｘ線源を有する放射分
析装置の放射光学系は分析されるべき試料のＸ線スペク
トラムを発生させるように構成することができる。例え
ばＸ線分析装置の放射光学系について高い設定作業の自
由度を達成するため、Ｘ線源及びＸ線検出器は、放射光
学素子に対して整列機構を有し、それぞれ独立して制御
可能な平行移動機構に個別に装着することができる。こ
れらの素子は、分析すべき試料に対して相互に独立して
制御可能な方法で位置決めし及び向きを定めることがで
きる。この分析装置はＸ線光学系に関して高い設定作業
の自由度を達成するので、例えばブラッグ−ブレンタノ
（Bragg-Brentano) 光学系及びジーマン−ボーリン(See
man-Bohlin) 光学系、並びに必要に応じて分析結晶交換
を介して集束光学系及び非集束性光学系を用いることが
できる。
【０００８】好適実施例においては、位置、方位又は角
度の設定は、センサ手段により調整及び記録することが
できる。この結果、いかなる所望の光学的なセッテング
も集中制御方式で行うことができ、これらのセッティン
グを集中的に最適な信号処理を行うことができるように
記録することも可能である。Ｘ線源及び検出器はｘｙ移
動機構に装着され、例えばｘ軸は試料表面に平行に延在
するものとし、ｙ軸は関連する試料面と直交する方向に
延在するものとすることができる。さらに、例えば試料
表面に対するＸ線源及び検出器の角度配向は、Ｘ線源及
び検出器を調整することにより又は試料の方位を調整す
ることにより適正に設定することができる。これらのセ
ッティングは通常試料の性質及び大きさに基いて定め
る。この調整は、例えば試料を放射源／検出器面に対し
て平行移動させる場合すなわちｘｙ面をこれと直交する
ｚ方向に変位させる場合と等価である。通常の分析試料
の場合、試料を平行移動させることによりこの動作を実
行するのが有益である。例えば、最終的な構造物につい
て分析を行う場合、例えば金属疲労を検出するため応力
測定を行う場合、又は例えば試料中の結晶配向の測定を
行う場合、放射源及び検出器についてもｚ方向の移動の
自由度を与えることは極めて有益である。
度の設定は、センサ手段により調整及び記録することが
できる。この結果、いかなる所望の光学的なセッテング
も集中制御方式で行うことができ、これらのセッティン
グを集中的に最適な信号処理を行うことができるように
記録することも可能である。Ｘ線源及び検出器はｘｙ移
動機構に装着され、例えばｘ軸は試料表面に平行に延在
するものとし、ｙ軸は関連する試料面と直交する方向に
延在するものとすることができる。さらに、例えば試料
表面に対するＸ線源及び検出器の角度配向は、Ｘ線源及
び検出器を調整することにより又は試料の方位を調整す
ることにより適正に設定することができる。これらのセ
ッティングは通常試料の性質及び大きさに基いて定め
る。この調整は、例えば試料を放射源／検出器面に対し
て平行移動させる場合すなわちｘｙ面をこれと直交する
ｚ方向に変位させる場合と等価である。通常の分析試料
の場合、試料を平行移動させることによりこの動作を実
行するのが有益である。例えば、最終的な構造物につい
て分析を行う場合、例えば金属疲労を検出するため応力
測定を行う場合、又は例えば試料中の結晶配向の測定を
行う場合、放射源及び検出器についてもｚ方向の移動の
自由度を与えることは極めて有益である。
【０００９】本発明の好適実施例においては、独立して
調整可能なＸ線シールド境界を有する発散性スリットを
Ｘ線源と試料空間との間に設ける。このように構成する
ことにより、試料に対して対称的にＸ線照射することが
でき或いは所望の場合非対称性照射を行うことができ、
試料の所望の領域だけに照射することも比較的簡単に行
うことができる。この絞りの調整は符号化された形態で
実行できると共に、分析装置によって記録された分析信
号と相関付けられた符号化形態のものとして記録するこ
ともできる。
調整可能なＸ線シールド境界を有する発散性スリットを
Ｘ線源と試料空間との間に設ける。このように構成する
ことにより、試料に対して対称的にＸ線照射することが
でき或いは所望の場合非対称性照射を行うことができ、
試料の所望の領域だけに照射することも比較的簡単に行
うことができる。この絞りの調整は符号化された形態で
実行できると共に、分析装置によって記録された分析信
号と相関付けられた符号化形態のものとして記録するこ
ともできる。
【００１０】別の好適実施例においては、方向調整可能
なソーラプレートを有するソーラスリット装置（Soller
slit system) を、好ましくは分析すべき試料の被照射
面に近接して配置する。このソーラスリット装置は放射
源及び検出器の位置決めに関して高い自由度を有してい
るから、例えば米国特許第２８５３６１８号に記載され
ている分析装置に用いられているような放射源及び検出
器と関連する固定ソーラスリットを有するソーラスリッ
ト系よりも一層有益である。このソーラスリット装置
は、隔壁面及び試料面に平行な共通軸を中心にして回動
可能に装着された隔壁積層体を有することができ、或い
は各隔壁は個々の軸を中心に回動することも可能であ
る。方向調整は、例えばソーラスリット装置内において
隔壁面と直交する方向に変位させることにより、又は必
要に応じて隔壁面間の間隔の変化と共に行うことができ
る。さらに、隔壁が変位可能及び／又は傾動可能な装置
を用いることも可能である。従って、隔壁間の間隔はコ
リメータの放射透過方向と直交する方向に変化する。別
の実施例においては、隔壁長を平行化されるべき放射の
主方向と直交する方向に増大させ、この方向における放
射の平行度を改善する。このソーラスリット装置は、好
ましくは中央制御ユニットにより符号化された形態で調
整する。
なソーラプレートを有するソーラスリット装置（Soller
slit system) を、好ましくは分析すべき試料の被照射
面に近接して配置する。このソーラスリット装置は放射
源及び検出器の位置決めに関して高い自由度を有してい
るから、例えば米国特許第２８５３６１８号に記載され
ている分析装置に用いられているような放射源及び検出
器と関連する固定ソーラスリットを有するソーラスリッ
ト系よりも一層有益である。このソーラスリット装置
は、隔壁面及び試料面に平行な共通軸を中心にして回動
可能に装着された隔壁積層体を有することができ、或い
は各隔壁は個々の軸を中心に回動することも可能であ
る。方向調整は、例えばソーラスリット装置内において
隔壁面と直交する方向に変位させることにより、又は必
要に応じて隔壁面間の間隔の変化と共に行うことができ
る。さらに、隔壁が変位可能及び／又は傾動可能な装置
を用いることも可能である。従って、隔壁間の間隔はコ
リメータの放射透過方向と直交する方向に変化する。別
の実施例においては、隔壁長を平行化されるべき放射の
主方向と直交する方向に増大させ、この方向における放
射の平行度を改善する。このソーラスリット装置は、好
ましくは中央制御ユニットにより符号化された形態で調
整する。
【００１１】上述した型式のＸ線分析装置は、その光学
素子の相対的な位置決めについて高い自由度を有してい
るから、各素子の位置を常時正確に記録しておくことが
望ましい。これら素子の機械的調整は、通常測定期間中
では適切な精度を以て行うことができない。このため、
本発明では、正確な位置決めに関するずれを補正信号に
よりオンラインで補正することができる。以下、図面に
基き本発明を詳細に説明する。
素子の相対的な位置決めについて高い自由度を有してい
るから、各素子の位置を常時正確に記録しておくことが
望ましい。これら素子の機械的調整は、通常測定期間中
では適切な精度を以て行うことができない。このため、
本発明では、正確な位置決めに関するずれを補正信号に
よりオンラインで補正することができる。以下、図面に
基き本発明を詳細に説明する。
【００１２】
【実施例】図１は本発明によるＸ線分析装置の一例の構
成を線図的に示す。Ｘ線分析装置はＸ線源２と、Ｘ線検
出器４と、試料８を支持する試料ホルダ６とを具え、試
料８の表面10に向けてＸ線源２から放射されたＸ線ビー
ム12を投射する。試料８により回折されたビーム14をＸ
線検出器４により検出する。アーム15及びベース16を介
してＸ線源２を支柱18に装着し、この支柱をベースプレ
ート20上に装着したガイド19により支持する。ベース16
は支柱18に沿って平行移動することができる。Ｘ線管ホ
ルダ22は、支柱18並びに好ましくはガイド19及び21の各
溝35及び37と直交する方向に延在する軸線24を中心にし
て回動可能とする。本例では、Ｘ線源の放射焦点を伸長
形状とし、その長手方向は軸線24と一致させる。一方、
放射焦点が点状のものを用いることも可能である。Ｘ線
検出器４をホルダ30に装着し、このホルダを回動可能な
アーム32を介してベース33に連結し、このベースをガイ
ド21に支持されている支柱26に平行移動可能に結合す
る。回動アーム32の回転軸31はガイド19及び21の各溝35
及び37と直交する方向に延在する。Ｘ線源、検出器及び
試料ホルダの平行移動及び回動の調整は、中央制御ユニ
ット40により制御すると共に記録する。各構成素子、特
に放射源２、検出器４及び試料ホルダ６の位置及び方位
に関するデータを記憶すると共に後述するビーム経路の
シュミレーション制御に必要な信号を記憶する記憶装置
42を制御ユニット40に結合する。この記憶装置は、種々
の構成素子に対する外部位置決めデータを記憶するのに
も好適な装置とすることが好ましい。各支柱18及び26の
軸線24及び31と直交する方向44に沿って延在するガイド
溝35及び37に沿う方向の平行移動を調整する調整機構50
及び52はエンコーダ（図示せず）を含んでいるから、支
柱18及び26は、分析されるべき試料に対して正確に位置
決めされるように中央制御ユニット40により調整するこ
とができる。
成を線図的に示す。Ｘ線分析装置はＸ線源２と、Ｘ線検
出器４と、試料８を支持する試料ホルダ６とを具え、試
料８の表面10に向けてＸ線源２から放射されたＸ線ビー
ム12を投射する。試料８により回折されたビーム14をＸ
線検出器４により検出する。アーム15及びベース16を介
してＸ線源２を支柱18に装着し、この支柱をベースプレ
ート20上に装着したガイド19により支持する。ベース16
は支柱18に沿って平行移動することができる。Ｘ線管ホ
ルダ22は、支柱18並びに好ましくはガイド19及び21の各
溝35及び37と直交する方向に延在する軸線24を中心にし
て回動可能とする。本例では、Ｘ線源の放射焦点を伸長
形状とし、その長手方向は軸線24と一致させる。一方、
放射焦点が点状のものを用いることも可能である。Ｘ線
検出器４をホルダ30に装着し、このホルダを回動可能な
アーム32を介してベース33に連結し、このベースをガイ
ド21に支持されている支柱26に平行移動可能に結合す
る。回動アーム32の回転軸31はガイド19及び21の各溝35
及び37と直交する方向に延在する。Ｘ線源、検出器及び
試料ホルダの平行移動及び回動の調整は、中央制御ユニ
ット40により制御すると共に記録する。各構成素子、特
に放射源２、検出器４及び試料ホルダ６の位置及び方位
に関するデータを記憶すると共に後述するビーム経路の
シュミレーション制御に必要な信号を記憶する記憶装置
42を制御ユニット40に結合する。この記憶装置は、種々
の構成素子に対する外部位置決めデータを記憶するのに
も好適な装置とすることが好ましい。各支柱18及び26の
軸線24及び31と直交する方向44に沿って延在するガイド
溝35及び37に沿う方向の平行移動を調整する調整機構50
及び52はエンコーダ（図示せず）を含んでいるから、支
柱18及び26は、分析されるべき試料に対して正確に位置
決めされるように中央制御ユニット40により調整するこ
とができる。
【００１３】試料ホルダ６は、試料のｘ及びｙ方向（方
向44及び46）の移動調整を行なう調整機構54により駆動
する。検出器４は回動調整機構50によって軸線31及び3
1′を中心にして回動され、全ての状況に対応して検出
器が試料に向くように構成する。放射源２についても同
様に構成し、特に放射ビームが点状に集束する放射源を
用いる場合上述した検出と同様に構成する。すなわち、
回動調整機構52によって放射源２を軸線24及び別の軸線
24′を中心にして回動させ、放射源をｘ方向及びｙ方向
に変位させる間にビームが試料上を走査するように構成
する。調整機構50，52及び54は全て中央制御ユニット40
により制御する。
向44及び46）の移動調整を行なう調整機構54により駆動
する。検出器４は回動調整機構50によって軸線31及び3
1′を中心にして回動され、全ての状況に対応して検出
器が試料に向くように構成する。放射源２についても同
様に構成し、特に放射ビームが点状に集束する放射源を
用いる場合上述した検出と同様に構成する。すなわち、
回動調整機構52によって放射源２を軸線24及び別の軸線
24′を中心にして回動させ、放射源をｘ方向及びｙ方向
に変位させる間にビームが試料上を走査するように構成
する。調整機構50，52及び54は全て中央制御ユニット40
により制御する。
【００１４】制御ユニット40からの補正信号をオンライ
ンで利用し、検出器４から発生した測定信号を処理装置
56を介して適切に処理し、制御ユニット40の制御のもと
で信号処理装置56によって記録する。この補正信号は、
測定シュミレーションを行なうことによって制御ユニッ
ト40から得られる。シュミレーションを利用することに
より、スリット絞り66とソーラスリット装置71並びに放
射源２と検出器４のような放射光学素子の基準位置は、
制御ユニット40に記憶されているコンピュータプログラ
ムにより位置、方位及び寸法に関して理想状態に規定さ
れる。基準データの信号は処理装置56及び制御ユニット
40を介して決定され制御ユニット40に結合されているメ
モリ42に記憶する。試料を用いて実際の測定を行なって
いる間に、この記憶した情報を用いて分析装置の放射光
学素子のずれを補正すると共に、必要に応じて試料８、
検出器４、放射源２並びに絞り66及びソーラスリット装
置71の相対的な位置及び向きを補正する。シュミレーシ
ョン測定は制御ユニット40のメモリ42に記憶されている
放射経路シュミレーションコンピュータプログラムに従
って実行される測定から成り、このシュミレーションプ
ログラムは例えば試料８によって測定される放射パター
ンのピーク位置、ピーク幅又はピーク形状に関して制御
ユニット40に基いて適切な予測ができるように基準試料
の多数のシュミレーションされた放射経路を含む。この
目的を達成するため、分析装置は、例えばスペクトラル
分析や回析測定のような検出器４によって検出される放
射強度パターンを測定し、これらスペクトラル分析や回
析測定において測定されるべきランイパターンは、制御
ユニット40及び処理装置56から発生したビームシュミレ
ーション測定によって得られる補正信号により位置及び
／又は形状に関して個々に補正する。従って、分析装置
は、処理装置56及び制御ユニット40を介して得られる補
正信号を用いて正確に整列し較正される。
ンで利用し、検出器４から発生した測定信号を処理装置
56を介して適切に処理し、制御ユニット40の制御のもと
で信号処理装置56によって記録する。この補正信号は、
測定シュミレーションを行なうことによって制御ユニッ
ト40から得られる。シュミレーションを利用することに
より、スリット絞り66とソーラスリット装置71並びに放
射源２と検出器４のような放射光学素子の基準位置は、
制御ユニット40に記憶されているコンピュータプログラ
ムにより位置、方位及び寸法に関して理想状態に規定さ
れる。基準データの信号は処理装置56及び制御ユニット
40を介して決定され制御ユニット40に結合されているメ
モリ42に記憶する。試料を用いて実際の測定を行なって
いる間に、この記憶した情報を用いて分析装置の放射光
学素子のずれを補正すると共に、必要に応じて試料８、
検出器４、放射源２並びに絞り66及びソーラスリット装
置71の相対的な位置及び向きを補正する。シュミレーシ
ョン測定は制御ユニット40のメモリ42に記憶されている
放射経路シュミレーションコンピュータプログラムに従
って実行される測定から成り、このシュミレーションプ
ログラムは例えば試料８によって測定される放射パター
ンのピーク位置、ピーク幅又はピーク形状に関して制御
ユニット40に基いて適切な予測ができるように基準試料
の多数のシュミレーションされた放射経路を含む。この
目的を達成するため、分析装置は、例えばスペクトラル
分析や回析測定のような検出器４によって検出される放
射強度パターンを測定し、これらスペクトラル分析や回
析測定において測定されるべきランイパターンは、制御
ユニット40及び処理装置56から発生したビームシュミレ
ーション測定によって得られる補正信号により位置及び
／又は形状に関して個々に補正する。従って、分析装置
は、処理装置56及び制御ユニット40を介して得られる補
正信号を用いて正確に整列し較正される。
【００１５】上述したビームシュミレーション測定は制
御ユニット40に記憶されているビームシュミレーション
コンピュータプログラムに従って行なわれ、このシュミ
レーションプログラムにより放射源２、検出器４及び試
料８の位置をシュミレーションすると共に、放射源２か
ら放出された入射放射ビーム12に応じて試料８から発生
するビームもシュミレーションする。シュミレーション
された回析パターンは、検出器４によって検出される出
射ビームによって形成される。一般的に、回析パターン
の特性は基準試料により以前から既知であり、検出器４
によって検出される回析パターンも既知である。従っ
て、回析パターンを受光する検出器４の理想的な位置も
既知のものとなる。検出器４に対する放射源２及び基準
試料８の相対位置をシュミレーションすることにより、
測定される特性に関連するコンピュータプログラムによ
ってシュミレーションされた回析ビーム14が発生する。
放射源２、試料８及び検出器４の実際の位置が、測定さ
れるべき試料８を用いてビーム14から所望の回析パター
ンを検出する検出器４の位置に対して正確に位置決めさ
れていない場合、コンピュータプログラムを介して調整
機構50，52及び54が放射源２、試料ホルダ６及び検出器
４並びに絞り66及びソーラ装置71（後述する）を互いに
再度位置決めされるようにセットし直すので、シュミレ
ーションされたビームが所望の向きでこれら素子に対し
て位置決めされることになる。従って、例えば検出器４
及び試料８用のホルダ６に到る経路における種々の制御
された構成素子の位置、方位及び寸法は、上述したよう
に、多数のシュミレーションされた放射経路の種々の組
み合わせとして記憶されるので、基準試料に対応する多
数の放射経路を用いて放射源２に対する検出器４の最も
精度の高い位置について所望の予測を行なうことができ
る。このようにして、例えば測定されるべき放射パター
ンのピーク位置、ピーク幅又はピーク形状のような実際
の試料を用いて測定される信号の特性についてホルダ
６、検出器４及び放射源２を調整する補正信号が制御ユ
ニット40から発生する。このようにして、制御ユニット
40から補正信号が発生し、実際の試料を用いて測定され
る信号の特性、例えば分析すべき放射パターンのピーク
位置、ピーク幅又はピーク形状に基いてホルダ６、検出
器４、放射源２が調整される。測定されるべきラインパ
ターンは、発生した補正信号により位置及び形状に関し
て個別に補正される。従って、検出器４、放射源２、ホ
ルダ６、絞り66及びソーラスリット装置71の相対位置に
おける検出されたスペクトラム放射強度パターンを最適
化するための位置誤差は試料について最適化される。
御ユニット40に記憶されているビームシュミレーション
コンピュータプログラムに従って行なわれ、このシュミ
レーションプログラムにより放射源２、検出器４及び試
料８の位置をシュミレーションすると共に、放射源２か
ら放出された入射放射ビーム12に応じて試料８から発生
するビームもシュミレーションする。シュミレーション
された回析パターンは、検出器４によって検出される出
射ビームによって形成される。一般的に、回析パターン
の特性は基準試料により以前から既知であり、検出器４
によって検出される回析パターンも既知である。従っ
て、回析パターンを受光する検出器４の理想的な位置も
既知のものとなる。検出器４に対する放射源２及び基準
試料８の相対位置をシュミレーションすることにより、
測定される特性に関連するコンピュータプログラムによ
ってシュミレーションされた回析ビーム14が発生する。
放射源２、試料８及び検出器４の実際の位置が、測定さ
れるべき試料８を用いてビーム14から所望の回析パター
ンを検出する検出器４の位置に対して正確に位置決めさ
れていない場合、コンピュータプログラムを介して調整
機構50，52及び54が放射源２、試料ホルダ６及び検出器
４並びに絞り66及びソーラ装置71（後述する）を互いに
再度位置決めされるようにセットし直すので、シュミレ
ーションされたビームが所望の向きでこれら素子に対し
て位置決めされることになる。従って、例えば検出器４
及び試料８用のホルダ６に到る経路における種々の制御
された構成素子の位置、方位及び寸法は、上述したよう
に、多数のシュミレーションされた放射経路の種々の組
み合わせとして記憶されるので、基準試料に対応する多
数の放射経路を用いて放射源２に対する検出器４の最も
精度の高い位置について所望の予測を行なうことができ
る。このようにして、例えば測定されるべき放射パター
ンのピーク位置、ピーク幅又はピーク形状のような実際
の試料を用いて測定される信号の特性についてホルダ
６、検出器４及び放射源２を調整する補正信号が制御ユ
ニット40から発生する。このようにして、制御ユニット
40から補正信号が発生し、実際の試料を用いて測定され
る信号の特性、例えば分析すべき放射パターンのピーク
位置、ピーク幅又はピーク形状に基いてホルダ６、検出
器４、放射源２が調整される。測定されるべきラインパ
ターンは、発生した補正信号により位置及び形状に関し
て個別に補正される。従って、検出器４、放射源２、ホ
ルダ６、絞り66及びソーラスリット装置71の相対位置に
おける検出されたスペクトラム放射強度パターンを最適
化するための位置誤差は試料について最適化される。
【００１６】前述したビーム経路コンピュータプログラ
ムを用いて装置性能の検討及び／又は評価を行なうと共
に測定値を検討することにより所望の測定結果を得るこ
とができる。
ムを用いて装置性能の検討及び／又は評価を行なうと共
に測定値を検討することにより所望の測定結果を得るこ
とができる。
【００１７】好適実施例において、本分析装置は可視域
又は近可視域の放射を発生する放射源２を有し、試料８
の吸収スペクトルを検出する。別の実施例では、Ｘ線ビ
ーム12を発生させる放射源２を具え、試料８にＸ線ビー
ムを投射して試料における回析パターンを発生させる。
回析パターンを発生させるためＸ線回析用のＸ線源を用
いることができ、或は電子線回析パターンを測定するた
め電子ビームのような粒子ビームを発生させる放射源を
用いることができる。Ｘ線源２、検出器４、絞り66及び
ソーラスリット装置71を具える放射光学系は、分析すべ
き試料のＸ線スペクトラムを発生させるように構成する
ことができる。例えばＸ線分析装置の放射光学系につい
て高い設定の自由度を達成するため、Ｘ線源２及びＸ線
検出器４は、スリット絞り66及びソーラスリット装置71
を含む放射光学系の構成要素用の整列機構を含みそれぞ
れ独立して制御可能な調整機構50及び52にそれぞれ個別
に装着する。従って、これらの構成素子は分析されるべ
き試料８に対して相互に独立して制御可能な態様で位置
決め及び方位設定される。この分析装置はＸ線光学系に
ついて高い自由度を達成するので、例えばブラッグ−ブ
レンタノ、（Bragg-Brentano) 光学系及びジーマン−ボ
ーリン(Seeman-Bohlin) 光学系を用いることができ、さ
らに分析結晶交換素子（図示せず）を介して集束光学系
及び非集束光学系を用いることができる。
又は近可視域の放射を発生する放射源２を有し、試料８
の吸収スペクトルを検出する。別の実施例では、Ｘ線ビ
ーム12を発生させる放射源２を具え、試料８にＸ線ビー
ムを投射して試料における回析パターンを発生させる。
回析パターンを発生させるためＸ線回析用のＸ線源を用
いることができ、或は電子線回析パターンを測定するた
め電子ビームのような粒子ビームを発生させる放射源を
用いることができる。Ｘ線源２、検出器４、絞り66及び
ソーラスリット装置71を具える放射光学系は、分析すべ
き試料のＸ線スペクトラムを発生させるように構成する
ことができる。例えばＸ線分析装置の放射光学系につい
て高い設定の自由度を達成するため、Ｘ線源２及びＸ線
検出器４は、スリット絞り66及びソーラスリット装置71
を含む放射光学系の構成要素用の整列機構を含みそれぞ
れ独立して制御可能な調整機構50及び52にそれぞれ個別
に装着する。従って、これらの構成素子は分析されるべ
き試料８に対して相互に独立して制御可能な態様で位置
決め及び方位設定される。この分析装置はＸ線光学系に
ついて高い自由度を達成するので、例えばブラッグ−ブ
レンタノ、（Bragg-Brentano) 光学系及びジーマン−ボ
ーリン(Seeman-Bohlin) 光学系を用いることができ、さ
らに分析結晶交換素子（図示せず）を介して集束光学系
及び非集束光学系を用いることができる。
【００１８】種々の構成素子の位置、方位及び角度のセ
ッテングは位置センサ60，62及び64により調整機構50，
52及び54を介して調整及び記録することができる。この
結果、検出器４及び放射源２についてのいかなる所望の
光学的セッテングは制御ユニット40によって集中制御方
式で行なうことができ、また、集中的なセッテングを記
録して処理装置56により最適な信号処理を行なうことも
できる。Ｘ線源及び検出器は、ｘ軸が試料表面10に平行
に延在し、ｙ軸が試料表面10と直交する方向に延在し、
ｚ軸がｘ軸及びｙ軸と直交するｘ−ｙ−ｚ移動機構に装
着するのが好ましい。さらに、例えば、試料表面８に対
する放射源２及び検出器４の角度配向は、放射源２及び
検出器４を各軸を中心にして調整することにより又は試
料８を方向44及び46に沿ってその向きを調整することに
より調整することができる。この調整方法は、試料８の
性質及び寸法に依存する。この調整方法は、例えば試料
を放射源と検出器との面に対して平行移動させる場合、
すなわち試料をｘｙ面と直交するｚ軸方向46に平行移動
させる場合にも適用される。通常の分析試料の場合、試
料を方向44及び46に平行移動させることによって上記移
動を行なうことは有益である。例えば最終構造物につい
て例えば応力測定を行なって金属疲労等を検出する場合
或は例えば試料中の結晶配向を測定する場合、放射源２
及び検出器４をｚ軸方向に自由に移動させることができ
ることは、極めて有用である。例えば、ｚ方向46の平行
移動は、制御ユニット40及び調整機構52及び50の制御の
もとで各軸線方向に沿って移動させ、又は各軸線24′又
は31′を中心にしてそれぞれ行なう。
ッテングは位置センサ60，62及び64により調整機構50，
52及び54を介して調整及び記録することができる。この
結果、検出器４及び放射源２についてのいかなる所望の
光学的セッテングは制御ユニット40によって集中制御方
式で行なうことができ、また、集中的なセッテングを記
録して処理装置56により最適な信号処理を行なうことも
できる。Ｘ線源及び検出器は、ｘ軸が試料表面10に平行
に延在し、ｙ軸が試料表面10と直交する方向に延在し、
ｚ軸がｘ軸及びｙ軸と直交するｘ−ｙ−ｚ移動機構に装
着するのが好ましい。さらに、例えば、試料表面８に対
する放射源２及び検出器４の角度配向は、放射源２及び
検出器４を各軸を中心にして調整することにより又は試
料８を方向44及び46に沿ってその向きを調整することに
より調整することができる。この調整方法は、試料８の
性質及び寸法に依存する。この調整方法は、例えば試料
を放射源と検出器との面に対して平行移動させる場合、
すなわち試料をｘｙ面と直交するｚ軸方向46に平行移動
させる場合にも適用される。通常の分析試料の場合、試
料を方向44及び46に平行移動させることによって上記移
動を行なうことは有益である。例えば最終構造物につい
て例えば応力測定を行なって金属疲労等を検出する場合
或は例えば試料中の結晶配向を測定する場合、放射源２
及び検出器４をｚ軸方向に自由に移動させることができ
ることは、極めて有用である。例えば、ｚ方向46の平行
移動は、制御ユニット40及び調整機構52及び50の制御の
もとで各軸線方向に沿って移動させ、又は各軸線24′又
は31′を中心にしてそれぞれ行なう。
【００１９】制御ユニット40を介して独立して調整可能
であり、方向70に沿って延在するＸ線シールドスリット
68を有する発散性スリット絞り66をＸ線源２と試料空間
との間に配置する。この結果、スリット68を調整するこ
とにより対称性又は所望の場合には非対称性の試料照射
を行なうことができる。試料８の所望の区域だけにＸ線
照射を行なうことは絞り66を用いることにより比較的簡
単に行なうことができる。この絞りの調整は、符号化し
た形態で行なうと共に制御ユニット40及び処理装置56を
介して分析によって記録された分析信号と相関した符号
化形態のものとして記録することが好ましい。
であり、方向70に沿って延在するＸ線シールドスリット
68を有する発散性スリット絞り66をＸ線源２と試料空間
との間に配置する。この結果、スリット68を調整するこ
とにより対称性又は所望の場合には非対称性の試料照射
を行なうことができる。試料８の所望の区域だけにＸ線
照射を行なうことは絞り66を用いることにより比較的簡
単に行なうことができる。この絞りの調整は、符号化し
た形態で行なうと共に制御ユニット40及び処理装置56を
介して分析によって記録された分析信号と相関した符号
化形態のものとして記録することが好ましい。
【００２０】ソーラスリット装置71は、分析すべき試料
８の被照射面近傍に配置され方向調整可能なソーラプレ
ートすなわち隔壁72を有する。本発明による分析装置は
放射源２及び検出器８の位置決めに関して高い自由度を
有しているから、例えば米国特許第2853618 号に記載さ
れているような放射源及び検出器に対して固定したソー
ラスリットを有するソーラスリット装置を用いることは
あまり有益ではない。これに対して、本発明によるソー
ラスリット装置71は隔壁72の面及び試料面10に平行な共
通軸74を中心にして回動可能となるように装着した隔壁
72を有することができ、又は隔壁72は個別の軸線74′を
中心にして回動可能とすることができる。方向調整は、
例えばソーラスリット装置71内において隔壁面と直交す
る方向に隔壁間隔の変化と組み合せて制御ユニット40を
用いて変位させることにより行なうことができる。さら
に、変形例として、隔壁72を変位可能とし及び／又は傾
動可能な隔壁系とすることも可能である。この場合、隔
壁と隔壁との間の空間は隔壁72によって形成されるコリ
メータの放射透過方向と直交する方向に変化する。別の
実施例において、隔壁長を、平行化されるべき放射の主
方向と直交する方向に増大させ、ソーラスリット装置に
よって形成される平行化作用をこの方向において一層改
善させる。このソーラスリット装置71は、中央制御ユニ
ット40によって符号化された形態で調整するのが好まし
い。
８の被照射面近傍に配置され方向調整可能なソーラプレ
ートすなわち隔壁72を有する。本発明による分析装置は
放射源２及び検出器８の位置決めに関して高い自由度を
有しているから、例えば米国特許第2853618 号に記載さ
れているような放射源及び検出器に対して固定したソー
ラスリットを有するソーラスリット装置を用いることは
あまり有益ではない。これに対して、本発明によるソー
ラスリット装置71は隔壁72の面及び試料面10に平行な共
通軸74を中心にして回動可能となるように装着した隔壁
72を有することができ、又は隔壁72は個別の軸線74′を
中心にして回動可能とすることができる。方向調整は、
例えばソーラスリット装置71内において隔壁面と直交す
る方向に隔壁間隔の変化と組み合せて制御ユニット40を
用いて変位させることにより行なうことができる。さら
に、変形例として、隔壁72を変位可能とし及び／又は傾
動可能な隔壁系とすることも可能である。この場合、隔
壁と隔壁との間の空間は隔壁72によって形成されるコリ
メータの放射透過方向と直交する方向に変化する。別の
実施例において、隔壁長を、平行化されるべき放射の主
方向と直交する方向に増大させ、ソーラスリット装置に
よって形成される平行化作用をこの方向において一層改
善させる。このソーラスリット装置71は、中央制御ユニ
ット40によって符号化された形態で調整するのが好まし
い。
【００２１】上述したＸ線分析装置は高い設定の自由度
を有しているから、各構成素子の位置は常時正確に知っ
ておくことが望ましい。従来の分析装置では、測定中分
析装置の機械的調整を適切な精度で行なうことができな
かった。これに対して、本発明では、相対的な位置決め
に関する誤差は補正信号によりオンラインで補正するこ
とができる。
を有しているから、各構成素子の位置は常時正確に知っ
ておくことが望ましい。従来の分析装置では、測定中分
析装置の機械的調整を適切な精度で行なうことができな
かった。これに対して、本発明では、相対的な位置決め
に関する誤差は補正信号によりオンラインで補正するこ
とができる。
【００２２】要約すると、試料は、Ｘ線入射ビームに応
じて検出器によって検出される回析パターンを発生す
る。試料によって多くの変化を以て発生する回析パター
ンは、シュミレーションされたコンピュータプログラム
において再現される。このシュミレーションコンピュー
タプログラムは、検出器、試料、放射源、スリット絞り
及びソーラスリット装置の種々の相対位置に基いて発生
した多数のパターンの全てをシュミレートする。これら
種々の基準パターンはメモリに記憶すると共に所定の回
析パターンを発生する分析系中の種々の構成素子の相対
位置に対応させる。このビームシュミレーション系は、
検出器、放射源、試料ホルダ、スリット絞り及びソーラ
スリット装置を基準位置に位置決めするように作動して
所定の基準回析パターンを形成する。
じて検出器によって検出される回析パターンを発生す
る。試料によって多くの変化を以て発生する回析パター
ンは、シュミレーションされたコンピュータプログラム
において再現される。このシュミレーションコンピュー
タプログラムは、検出器、試料、放射源、スリット絞り
及びソーラスリット装置の種々の相対位置に基いて発生
した多数のパターンの全てをシュミレートする。これら
種々の基準パターンはメモリに記憶すると共に所定の回
析パターンを発生する分析系中の種々の構成素子の相対
位置に対応させる。このビームシュミレーション系は、
検出器、放射源、試料ホルダ、スリット絞り及びソーラ
スリット装置を基準位置に位置決めするように作動して
所定の基準回析パターンを形成する。
【００２３】その後、分析すべき実際の試料を試料ホル
ダに装着する。この分析系は、シュミレーション系によ
って設定された種々の構成素子の方位及び位置において
作動する。次に、回析パターンを測定する。この分析系
の実際の操作で試料から発生した回析パターンがシュミ
レーションパターンと相異する場合、この分析系が、試
料から所望の回析パターンが発生するようにその中の種
々の構成素子について位置決めをし直すと共に方位を補
正する。このようにして、検出器、放射源、試料ホル
ダ、スリット絞り及びソーラスリット装置を含む分析系
の全ての構成素子が、試験条件下において試料から所定
の回析パターンが発生するように相対的に個別の方位に
位置することになる。
ダに装着する。この分析系は、シュミレーション系によ
って設定された種々の構成素子の方位及び位置において
作動する。次に、回析パターンを測定する。この分析系
の実際の操作で試料から発生した回析パターンがシュミ
レーションパターンと相異する場合、この分析系が、試
料から所望の回析パターンが発生するようにその中の種
々の構成素子について位置決めをし直すと共に方位を補
正する。このようにして、検出器、放射源、試料ホル
ダ、スリット絞り及びソーラスリット装置を含む分析系
の全ての構成素子が、試験条件下において試料から所定
の回析パターンが発生するように相対的に個別の方位に
位置することになる。
【００２４】上述した実施例で用いた光学素子には、ス
リット絞り66、ソーラスリット装置71、放射源２及び検
出器を含んでいる。試料８用のホルダ６を含むこれら全
ての素子の位置は制御ユニット40の制御のもとで制御さ
れ、試料８を用いて測定された回析パターンを最適にす
るようにこれら素子の相対位置が最適化される。シュミ
レーションプログラムはこれら全ての素子の相対位置を
その相対位置を最適化するプロセスの一部としてシュミ
レートする。従って、各素子用のセンサ及び調整機構が
各素子の所定の位置を確認し、その位置を表示する信号
を制御ユニット40に供給し、制御ユニットは、これらの
位置をビームシュミレーションプログラムに基いて予め
定めた所望の位置について分析して各調整機構に補正信
号を供給し分析系の種々の素子の相対位置を調整する。
リット絞り66、ソーラスリット装置71、放射源２及び検
出器を含んでいる。試料８用のホルダ６を含むこれら全
ての素子の位置は制御ユニット40の制御のもとで制御さ
れ、試料８を用いて測定された回析パターンを最適にす
るようにこれら素子の相対位置が最適化される。シュミ
レーションプログラムはこれら全ての素子の相対位置を
その相対位置を最適化するプロセスの一部としてシュミ
レートする。従って、各素子用のセンサ及び調整機構が
各素子の所定の位置を確認し、その位置を表示する信号
を制御ユニット40に供給し、制御ユニットは、これらの
位置をビームシュミレーションプログラムに基いて予め
定めた所望の位置について分析して各調整機構に補正信
号を供給し分析系の種々の素子の相対位置を調整する。
【図１】本発明による放射分析装置の一例の構成を示す
線図的斜視図である。
線図的斜視図である。
２ Ｘ線源 ４ Ｘ線検出器 ６ 試料ホルダ ８ 試料 15 アーム 16 ベース 18, 26 支柱 19, 21 ガイド 20 ベースプレート 40 中央制御ユニット 42 記憶装置 66 スリット絞り 71 ソーラスリット装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト デルヘツ オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエン フルーネバウツウエツハ１ (72)発明者 フオケ トウインストラ オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエン フルーネバウツウエツハ１
Claims (13)
- 【請求項１】 放射源と、分析されるべき試料から放出
された放射を検出する放射検出器とを具える放射分析装
置において、 放射に関する情報を発生及び処理する装置を具え、装置
内におけるずれを補正する補正信号を発生させるように
構成したことを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の放射分析装置におい
て、補正信号をオン−ラインで利用して記録された測定
信号を処理することができるように構成したことを特徴
とする放射分析装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の放射分析装置に
おいて、補正信号を計算するための放射データがビーム
経路のシュミレーションによって得られるように構成し
たことを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項４】 請求項１，２又は３に記載の放射分析装
置において、シュミレーションによって発生した補正信
号によって位置及び／又は形状に関して個々に補正可能
な測定スペクトラム又は回折パターンのラインパターン
を測定できるように構成したことを特徴とする放射分析
装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の放射分析装置におい
て、前記放射源が可視域又は近可視域の放射ビームを発
生するように構成され、試料の吸収スペクトルを発生さ
せるように構成したことを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項６】 請求項４に記載の放射分析装置におい
て、前記放射源を、試料における回折による回折パター
ンを発生させる粒子ビームを発生させるように構成した
ことを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項７】 請求項４に記載の放射分析装置におい
て、前記放射源を、試料における回折による回折パター
ンを発生させるＸ線ビームを発生させるように構成した
ことを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項８】 請求項７に記載の放射分析装置におい
て、放射光学系を、Ｘ線回折計に好適に構成したこと放
射分析装置。 - 【請求項９】 請求項１から８までのいずれか１項に記
載の放射分析装置において、前記放射源及び放射検出器
を、中央制御装置の制御のもとで試料に対して独立して
位置決めされ及び／又は方位調整されるように構成した
ことを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の放射分析装置におい
て、位置決め及び方位調整を行うため、放射光学素子
が、前記中央制御装置によって制御されるセンサを有す
ることを特徴とする放射分析装置。 - 【請求項１１】 隔壁が、調整可能又は局部的可変平行
化作用を行うことができることを特徴とするソーラスリ
ット装置。 - 【請求項１２】 請求項11に記載のソーラスリット装置
において、隔壁を相対的に旋回可能としたことを特徴と
するソーラスリット装置。 - 【請求項１３】 請求項11又は12に記載のソーラスリッ
ト装置において、隔壁長が主放射方向と直交する方向に
増大し、この方向における平行化作用が改善されるよう
に構成したことを特徴とするソーラスリット装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP91201090 | 1991-05-07 | ||
| NL912010907 | 1991-05-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05126767A true JPH05126767A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=8207641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11490192A Pending JPH05126767A (ja) | 1991-05-07 | 1992-05-07 | 放射分析装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0512620A3 (ja) |
| JP (1) | JPH05126767A (ja) |
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| JP2012103224A (ja) * | 2010-11-15 | 2012-05-31 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | Ｘ線回折装置及びｘ線回折の測定方法 |
| CN107592910A (zh) * | 2015-04-15 | 2018-01-16 | 依科视朗国际有限公司 | 用于检查电子器件的方法 |
| WO2022201661A1 (ja) * | 2021-03-22 | 2022-09-29 | 株式会社リガク | 放射線測定装置 |
| US20230152248A1 (en) * | 2021-11-18 | 2023-05-18 | Rigaku Corporation | Correction amount specifying apparatus, method, program, and jig |
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| JP3699723B2 (ja) * | 1994-06-25 | 2005-09-28 | パナリティカル ベー ヴィ | 材料サンプルの分析 |
| WO2006042569A1 (de) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Ge Inspection Technologies Gmbh | Prüfanlage zur zerstörungsfreien materialprüfung |
| FI20041538L (fi) | 2004-11-29 | 2006-05-30 | Stresstech Oy | Goniometri |
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| ITFI20050137A1 (it) * | 2005-06-20 | 2006-12-21 | Giovanni Berti | Apparecchiatura mobile per irragiamento e rilevazione di radiazioni |
| FR2920540B1 (fr) * | 2007-09-05 | 2012-07-20 | Inst La Soudure | Dispositif de montage, sur une piece a controler de maniere non destructive, d'une source d'irradiation presente dans un embout d'irradiation et/ou un collimateur d'un dispositif de controle |
| CN109374660B (zh) * | 2018-11-22 | 2024-09-06 | 北京科技大学 | 用于排笔光束的高通量粉末衍射的装置 |
| CN111812126A (zh) * | 2020-06-15 | 2020-10-23 | 中煤北京煤矿机械有限责任公司 | 用于液压支架结构件在线焊缝ndt检测的探伤系统和方法 |
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| US4199678A (en) * | 1979-01-31 | 1980-04-22 | U.S. Philips Corporation | Asymmetric texture sensitive X-ray powder diffractometer |
| DE3021585A1 (de) * | 1980-06-09 | 1981-12-24 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Roentgeneinstrukturanalysegeraet mit probenwechsler und ortsempfindlichem dektektor |
| FR2487079A1 (fr) * | 1980-07-18 | 1982-01-22 | Anvar | Instrument de mesure des fluctuations de l'intensite d'un pinceau de rayons x diffuses par un corps liquide ou solide amorphe |
| EP0137078B1 (en) * | 1983-10-12 | 1989-01-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray examination apparatus |
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-
1992
- 1992-05-04 EP EP92201211A patent/EP0512620A3/en not_active Withdrawn
- 1992-05-07 JP JP11490192A patent/JPH05126767A/ja active Pending
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| US12287301B2 (en) * | 2021-11-18 | 2025-04-29 | Rigaku Corporation | Correction amount specifying apparatus, method, program, and jig |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP0512620A3 (en) | 1995-07-05 |
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