JPH05132474A - 2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾールの製法 - Google Patents
2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾールの製法Info
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- JPH05132474A JPH05132474A JP4091544A JP9154492A JPH05132474A JP H05132474 A JPH05132474 A JP H05132474A JP 4091544 A JP4091544 A JP 4091544A JP 9154492 A JP9154492 A JP 9154492A JP H05132474 A JPH05132474 A JP H05132474A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D285/00—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D275/00 - C07D283/00
- C07D285/01—Five-membered rings
- C07D285/02—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles
- C07D285/04—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles not condensed with other rings
- C07D285/12—1,3,4-Thiadiazoles; Hydrogenated 1,3,4-thiadiazoles
- C07D285/125—1,3,4-Thiadiazoles; Hydrogenated 1,3,4-thiadiazoles with oxygen, sulfur or nitrogen atoms, directly attached to ring carbon atoms, the nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 殺虫剤や除草剤の中間体として有用な2−ク
ロル−1,3,4−チアジアゾールの新規製法の提供。 【構成】 式(II) の2−メルカプト−5−メチルチオ−1,3,4−チアジ
アゾールを、触媒の存在下に及び必要ならば希釈剤の存
在下に−20〜+150℃の温度でホスゲン(COCl
2)と反応させる式(I) の2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾ
ールの製造法。
ロル−1,3,4−チアジアゾールの新規製法の提供。 【構成】 式(II) の2−メルカプト−5−メチルチオ−1,3,4−チアジ
アゾールを、触媒の存在下に及び必要ならば希釈剤の存
在下に−20〜+150℃の温度でホスゲン(COCl
2)と反応させる式(I) の2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾ
ールの製造法。
Description
【0001】本発明は、2−クロル−5−メチルチオ−
1,3,4−チアゾール、即ち殺虫剤として又は除草剤に
対する中間体として使用しうる化合物の新規な製造法に
関する。
1,3,4−チアゾール、即ち殺虫剤として又は除草剤に
対する中間体として使用しうる化合物の新規な製造法に
関する。
【0002】2−アミノ−5−メチルチオ−1,3,4−
チアジアゾールを塩酸中及び銅ブロンズの存在下に亜硝
酸ナトリウムと反応させる時に2−クロル−5−メチル
チオ−1,3,4−チアジアゾールが得られることは公知
である(参照、独国公開特許第2144326号)。こ
の製造法の工業的規模での適用に対して特記すべき欠点
は、多くの場合に不満足な生成物収量及び多量の化学
品、特に塩酸及び銅触媒の廃棄の必要性のあることであ
る。
チアジアゾールを塩酸中及び銅ブロンズの存在下に亜硝
酸ナトリウムと反応させる時に2−クロル−5−メチル
チオ−1,3,4−チアジアゾールが得られることは公知
である(参照、独国公開特許第2144326号)。こ
の製造法の工業的規模での適用に対して特記すべき欠点
は、多くの場合に不満足な生成物収量及び多量の化学
品、特に塩酸及び銅触媒の廃棄の必要性のあることであ
る。
【0003】今回式(I)
【0004】
【化3】
【0005】の2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4
−チアジアゾールは、式(II)
−チアジアゾールは、式(II)
【0006】
【化4】
【0007】の2−メルカプト−5−メチルチオ−1,
3,4−チアジアゾールを、触媒の存在下に及び必要な
らば希釈剤の存在下に−20〜+150℃の温度でホス
ゲン(COCl2)と反応させる時に良好な収率で及び
高純度で得られることが発見された。
3,4−チアジアゾールを、触媒の存在下に及び必要な
らば希釈剤の存在下に−20〜+150℃の温度でホス
ゲン(COCl2)と反応させる時に良好な収率で及び
高純度で得られることが発見された。
【0008】驚くことに式(I)の2−クロル−5−メ
チルチオ−1,3,4−チアジアゾールは、本発明の方法
によれば公知の方法よりも著るしく良好な収率で製造で
き、しかも上述した廃棄の問題が大きく回避される。
チルチオ−1,3,4−チアジアゾールは、本発明の方法
によれば公知の方法よりも著るしく良好な収率で製造で
き、しかも上述した廃棄の問題が大きく回避される。
【0009】本発明の反応過程は下式で概述しうる:
【0010】
【化5】
【0011】出発物質として使用しうる式(II)の化
合物は公知の市販品である。
合物は公知の市販品である。
【0012】本発明による方法は触媒の存在下に行われ
る。適当な触媒は特に窒素化合物、例えばトリエチルア
ミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベン
ジルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジ
ン、N,N−ジメチル、N,N−ジエチル、N,N−ジプ
ロピル、N,N−ジイソプロピル、N,N−ジブチル及び
N,N−ジイソブチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン及びN−ホルミルピ
ペリジン、及び燐化合物、例えばトリブチルホスフイ
ン、トリフエニルホスフイン及びトリフエニルホスフイ
ンオキシドである。本発明の方法は好ましくは希釈剤の
存在下に行われる。適当な希釈剤は実質的にすべての不
活性な有機溶媒である。これらは好ましくは脂肪族及び
芳香族の、可能ならばハロゲン化された炭化水素例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジク
ロルベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホ
ルム、及び四塩化炭素である。
る。適当な触媒は特に窒素化合物、例えばトリエチルア
ミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベン
ジルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジ
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ロピル、N,N−ジイソプロピル、N,N−ジブチル及び
N,N−ジイソブチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン及びN−ホルミルピ
ペリジン、及び燐化合物、例えばトリブチルホスフイ
ン、トリフエニルホスフイン及びトリフエニルホスフイ
ンオキシドである。本発明の方法は好ましくは希釈剤の
存在下に行われる。適当な希釈剤は実質的にすべての不
活性な有機溶媒である。これらは好ましくは脂肪族及び
芳香族の、可能ならばハロゲン化された炭化水素例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジク
ロルベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホ
ルム、及び四塩化炭素である。
【0013】本発明の方法の反応温度は広範囲に変える
ことができる。一般に−20〜+150℃、好ましくは
0〜120℃の温度が用いられる。
ことができる。一般に−20〜+150℃、好ましくは
0〜120℃の温度が用いられる。
【0014】本発明の方法は一般に大気圧下に行われ
る。しかしながら、減圧又は昇圧、一般に100〜10
バールの圧力を用いることも可能である。
る。しかしながら、減圧又は昇圧、一般に100〜10
バールの圧力を用いることも可能である。
【0015】本発明の方法を行うには、2−メルカプト
−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール1モル当
り1〜5モル、好ましくは1〜3モルのホスゲン及び
0.005〜0.5モル、好ましくは0.01〜0.1モル
の触媒が使用される。
−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール1モル当
り1〜5モル、好ましくは1〜3モルのホスゲン及び
0.005〜0.5モル、好ましくは0.01〜0.1モル
の触媒が使用される。
【0016】反応成分はいずれかの順序で混合しうる。
【0017】本発明の好適な具体例において、2−メル
カプト−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール、
溶媒、及び触媒は、撹拌によつて混合される。次いでホ
スゲンを撹拌しながら通じ、混合物を徐々に必要とされ
る反応温度にもつていく。実質的に最早やホスゲンが捕
捉されなくなつた時、混合物中にホスゲンの代りに窒素
を通じて過剰のホスゲンを置換する。次いで希釈剤を減
圧下に留去し、残渣として残る生成物を真空蒸留によつ
て精製する。
カプト−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール、
溶媒、及び触媒は、撹拌によつて混合される。次いでホ
スゲンを撹拌しながら通じ、混合物を徐々に必要とされ
る反応温度にもつていく。実質的に最早やホスゲンが捕
捉されなくなつた時、混合物中にホスゲンの代りに窒素
を通じて過剰のホスゲンを置換する。次いで希釈剤を減
圧下に留去し、残渣として残る生成物を真空蒸留によつ
て精製する。
【0018】本発明の方法で製造しうる2−クロル−5
−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾールは殺虫剤とし
て使用できる(独国公開特許第2144326号)。
−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾールは殺虫剤とし
て使用できる(独国公開特許第2144326号)。
【0019】2−クロル−5−メチルスルフイニル−
1,3,4−チアゾール又は2−クロル−5−メチルスル
ホニル−1,3,4−チアジアゾールへの酸化(製造例を
参照)後、除草剤の製造に使用することもできる(ヨー
ロツパ特許願第192117号を参照)。
1,3,4−チアゾール又は2−クロル−5−メチルスル
ホニル−1,3,4−チアジアゾールへの酸化(製造例を
参照)後、除草剤の製造に使用することもできる(ヨー
ロツパ特許願第192117号を参照)。
【0020】
【実施例】製造実施例 実施例1
【0021】
【化6】
【0022】2−メルカプト−5−メチルチオ−1,3,
4−チアジアゾール115g(0.7モル)、N−ホル
ミルピペリジン7ml及びクロルベンゼン700ml
の、10℃に冷却した混合物にホスゲンを撹拌しながら
導入し、約30分後に混合物を約2時間に徐々にわたり
110℃まで加熱した。ホスゲンの導入をこの温度で更
に約2時間続けた。熱源の除去後、ホスゲンの代りに窒
素を混合物に通じ、次いでクロルベンゼンのほとんどを
真空下に留去した。残渣を油ポンプの真空下に蒸留し
た。
4−チアジアゾール115g(0.7モル)、N−ホル
ミルピペリジン7ml及びクロルベンゼン700ml
の、10℃に冷却した混合物にホスゲンを撹拌しながら
導入し、約30分後に混合物を約2時間に徐々にわたり
110℃まで加熱した。ホスゲンの導入をこの温度で更
に約2時間続けた。熱源の除去後、ホスゲンの代りに窒
素を混合物に通じ、次いでクロルベンゼンのほとんどを
真空下に留去した。残渣を油ポンプの真空下に蒸留し
た。
【0023】沸点78〜79℃/0.5ミリバールの2
−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール
81.5g(理論量の70%)が得られた。
−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール
81.5g(理論量の70%)が得られた。
【0024】2次生成物 実施例2
【0025】
【化7】
【0026】2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−
チアジアゾール16.7g(0.1モル)を酢酸100m
lに溶解し、次いで外部から冷却しながらスパチユラの
先端でタングステン酸ナトリウムを25〜35℃で添加
した後、35%水性過酸化水素溶液28.3g(H2O2
0.29モル)を滴下した。反応混合物を約25℃で2
0時間撹拌し、次いで凡そ2倍の容量まで水で希釈し
た。このようにして得られた結晶生成物を吸引濾過によ
り単離した。
チアジアゾール16.7g(0.1モル)を酢酸100m
lに溶解し、次いで外部から冷却しながらスパチユラの
先端でタングステン酸ナトリウムを25〜35℃で添加
した後、35%水性過酸化水素溶液28.3g(H2O2
0.29モル)を滴下した。反応混合物を約25℃で2
0時間撹拌し、次いで凡そ2倍の容量まで水で希釈し
た。このようにして得られた結晶生成物を吸引濾過によ
り単離した。
【0027】融点58℃の2−クロル−5−メチルスル
ホニル−1,3,4−チアジアゾール15.3g(理論量
の74%)が得られた。
ホニル−1,3,4−チアジアゾール15.3g(理論量
の74%)が得られた。
【0028】実施例3
【0029】
【化8】
【0030】2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−
チアジアゾール16.7g(0.1モル)をクロロホルム
25mlに溶解し、撹拌しながら−60℃まで冷却した
後クロロホルム135ml中3−クロル−過安息香酸
(70%)27g(0.11モル)の溶液を滴下した。
この反応混合物を約20℃で20時間撹拌し、次いで濾
過した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、
次いで溶媒を水流ポンプの真空下に注意深く留去した。
チアジアゾール16.7g(0.1モル)をクロロホルム
25mlに溶解し、撹拌しながら−60℃まで冷却した
後クロロホルム135ml中3−クロル−過安息香酸
(70%)27g(0.11モル)の溶液を滴下した。
この反応混合物を約20℃で20時間撹拌し、次いで濾
過した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、
次いで溶媒を水流ポンプの真空下に注意深く留去した。
【0031】2−クロル−5−メチルスルフイニル−
1,3,4−チアジアゾール13g(理論量の61%)を
油状残渣(含量84%)として得た。
1,3,4−チアジアゾール13g(理論量の61%)を
油状残渣(含量84%)として得た。
【0032】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る。
る。
【0033】1.式(II)
【0034】
【化9】
【0035】の2−メルカプト−5−メチルチオ−1,
3,4−チアジアゾールを、触媒の存在下に及び必要な
らば希釈剤の存在下に−20〜+150℃の温度でホス
ゲン(COCl2)と反応させる式(I)
3,4−チアジアゾールを、触媒の存在下に及び必要な
らば希釈剤の存在下に−20〜+150℃の温度でホス
ゲン(COCl2)と反応させる式(I)
【0036】
【化10】
【0037】の2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4
−チアジアゾールの製造法。
−チアジアゾールの製造法。
【0038】2.0〜120℃の温度を用いる上記1の
方法。
方法。
【0039】3.2−メルカプト−5−メチルチオ−
1,3,4−チアジアゾール1モル当り1〜5モルのホス
ゲン及び0.005〜0.5モルの触媒、好ましくは1〜
3モルのホスゲン及び0.01〜0.1モルの触媒を用い
る上記1の方法。
1,3,4−チアジアゾール1モル当り1〜5モルのホス
ゲン及び0.005〜0.5モルの触媒、好ましくは1〜
3モルのホスゲン及び0.01〜0.1モルの触媒を用い
る上記1の方法。
【0040】4.用いる触媒が、好ましくはトリエチル
アミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベ
ンジルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジ
ン、N,N−ジメチル、N,N−ジエチル、N,N−ジプ
ロピル、N,N−ジイソプロピル、N,N−ジブチル及び
N,N−ジイソブチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン及びN−ホルミルピ
ペリジンからなる群から選択される窒素化合物、或いは
好ましくはトリブチルホスフイン、トリフエニルホスフ
イン及びトリフエニルホスフインオキシドからなる群か
ら選択される燐化合物である上記1の方法。
アミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベ
ンジルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジ
ン、N,N−ジメチル、N,N−ジエチル、N,N−ジプ
ロピル、N,N−ジイソプロピル、N,N−ジブチル及び
N,N−ジイソブチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン及びN−ホルミルピ
ペリジンからなる群から選択される窒素化合物、或いは
好ましくはトリブチルホスフイン、トリフエニルホスフ
イン及びトリフエニルホスフインオキシドからなる群か
ら選択される燐化合物である上記1の方法。
【0041】5.希釈剤の存在下に行う上記1の方法。
【0042】6.用いる希釈剤が好ましくは脂肪族及び
芳香族の、好ましくはハロゲン化された炭化水素の群か
ら選択される不活性な有機溶媒である上記5の方法。
芳香族の、好ましくはハロゲン化された炭化水素の群か
ら選択される不活性な有機溶媒である上記5の方法。
【0043】7.用いる不活性な有機溶媒がベンゼン、
トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム又は四
塩化炭素である上記6の方法。
トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム又は四
塩化炭素である上記6の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // A01N 43/82 101 B 8930−4H C07B 61/00 300
Claims (3)
- 【請求項1】 式(II) 【化1】 の2−メルカプト−5−メチルチオ−1,3,4−チアジ
アゾールを、触媒の存在下に及び必要ならば希釈剤の存
在下に−20〜+150℃の温度でホスゲン(COCl
2)と反応させる式(I) 【化2】 の2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾ
ールの製造法。 - 【請求項2】 2−メルカプト−5−メチルチオ−1,
3,4−チアジアゾール1モル当り1〜5モルのホスゲ
ン及び0.005〜0.5モルの触媒、好ましくは1〜3
モルのホスゲン及び0.01〜0.1モルの触媒を用いる
請求項1の方法。 - 【請求項3】 用いる触媒が窒素化合物、好ましくはト
リエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジ
メチルベンジルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ
−ピリジン、N,N−ジメチル、N,N−ジエチル、N,
N−ジプロピル、N,N−ジイソプロピル、N,N−ジブ
チル及びN,N−ジイソブチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、N−メチルピロリドン及びN−ホ
ルミルピペリジンからなる群から選択される窒素化合
物、或いは燐化合物、好ましくはトリブチルホスフイ
ン、トリフエニルホスフイン及びトリフエニルホスフイ
ンオキシドからなる群から選択される燐化合物、である
請求項1の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19914109673 DE4109673A1 (de) | 1991-03-23 | 1991-03-23 | Verfahren zur herstellung von 2-chlor-5-methylthio-1,3,4-thiadiazol |
| DE4109673.8 | 1991-03-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05132474A true JPH05132474A (ja) | 1993-05-28 |
Family
ID=6428101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4091544A Pending JPH05132474A (ja) | 1991-03-23 | 1992-03-18 | 2−クロル−5−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾールの製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0505818A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05132474A (ja) |
| DE (1) | DE4109673A1 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1142171B (de) * | 1960-07-06 | 1963-01-10 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Pyrimidinverbindungen |
| AU3307871A (en) * | 1970-09-04 | 1973-03-08 | Agripat Sa | New heterocyclic compounds |
-
1991
- 1991-03-23 DE DE19914109673 patent/DE4109673A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-03-10 EP EP92104041A patent/EP0505818A1/de not_active Withdrawn
- 1992-03-18 JP JP4091544A patent/JPH05132474A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0505818A1 (de) | 1992-09-30 |
| DE4109673A1 (de) | 1992-09-24 |
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