JPH05136019A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH05136019A JPH05136019A JP3293444A JP29344491A JPH05136019A JP H05136019 A JPH05136019 A JP H05136019A JP 3293444 A JP3293444 A JP 3293444A JP 29344491 A JP29344491 A JP 29344491A JP H05136019 A JPH05136019 A JP H05136019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flatness
- exposed
- mounting table
- wafer
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、フォトリソグラフィー技術によりウ
エハ上の導電体等のパターニングのためのレジストパタ
ーンを形成するのに用いられる露光装置に関し、被露光
体表面及び被露光体の載置台上の塵を区別して容易に検
出することができる露光装置を提供することを目的とす
る。 【構成】被露光体１２に露光光を照射する光学系１３
と、被露光体の載置台１１と、被露光体１２の搬送手段
２０と、載置台１１上の被露光体１２の平坦度を測定す
る平坦度測定手段１６とを有する露光装置であって、載
置台１１上に載置して平坦度測定手段１６により平坦度
をモニタする被露光体モニタ２１と、被露光体モニタ２
１の平坦度のモニタ結果を基準として被露光体１２の平
坦度の測定結果を比較し、該比較の結果に基づいて被露
光体１２の露光の可否を決定するとともに、少なくとも
光学系１３，載置台１１，搬送手段２０及び平坦度測定
手段１６を制御する制御手段とを含み構成する。
エハ上の導電体等のパターニングのためのレジストパタ
ーンを形成するのに用いられる露光装置に関し、被露光
体表面及び被露光体の載置台上の塵を区別して容易に検
出することができる露光装置を提供することを目的とす
る。 【構成】被露光体１２に露光光を照射する光学系１３
と、被露光体の載置台１１と、被露光体１２の搬送手段
２０と、載置台１１上の被露光体１２の平坦度を測定す
る平坦度測定手段１６とを有する露光装置であって、載
置台１１上に載置して平坦度測定手段１６により平坦度
をモニタする被露光体モニタ２１と、被露光体モニタ２
１の平坦度のモニタ結果を基準として被露光体１２の平
坦度の測定結果を比較し、該比較の結果に基づいて被露
光体１２の露光の可否を決定するとともに、少なくとも
光学系１３，載置台１１，搬送手段２０及び平坦度測定
手段１６を制御する制御手段とを含み構成する。
Description
【０００１】 （目次） ・産業上の利用分野 ・従来の技術（図４） ・発明が解決しようとする課題 ・課題を解決するための手段 ・作用 ・実施例（図１〜図３） ・発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置に関し、更に
詳しく言えば、フォトリソグラフィー技術によりウエハ
上の導電体等のパターニングのためのレジストパターン
を形成するのに用いられる露光装置に関する。
詳しく言えば、フォトリソグラフィー技術によりウエハ
上の導電体等のパターニングのためのレジストパターン
を形成するのに用いられる露光装置に関する。
【０００３】近年の半導体デバイスの微細化に伴い、微
細なパターニングが要求されている。従って、焦点ボケ
等を防止するため、ウエハ裏面又は露光装置のウエハ載
置台上の塵等を除去してウエハが平坦な状態で露光を行
う必要がある。
細なパターニングが要求されている。従って、焦点ボケ
等を防止するため、ウエハ裏面又は露光装置のウエハ載
置台上の塵等を除去してウエハが平坦な状態で露光を行
う必要がある。
【０００４】
【従来の技術】図４（ａ），（ｂ）は、フォトリソグラ
フィー技術によりウエハ上の導電体等のパターニングの
ためのレジストパターンを形成するのに用いられる従来
例の露光装置について説明する構成図で、図４（ａ）は
上面図、図４（ｂ）は側面図を示す。
フィー技術によりウエハ上の導電体等のパターニングの
ためのレジストパターンを形成するのに用いられる従来
例の露光装置について説明する構成図で、図４（ａ）は
上面図、図４（ｂ）は側面図を示す。
【０００５】図４（ａ），（ｂ）において、１は被露光
体としてのウエハ２を載置するウエハ載置台、３は露光
光をウエハ２上に照射する露光光源，レンズ及び露光マ
スクを含む光学系、６はレーザ光線を用いてオートフォ
ーカス値を検出することにより、ウエハ載置台１上のウ
エハ２の平坦度を測定する平坦度測定手段で、レーザ光
源４とディテクタ５とからなる。７は露光すべきウエ
ハ，又は露光完了後のウエハを収納するウエハカセット
８ａ〜８ｃを保持するカセットステーション、９は露光
すべきウエハの位置を調整するアライナ、１０はウエハ
２を搬送する搬送手段で、ウエハカセット８ａ〜８ｃか
ら取り出してアライナ９に搬送し、更に位置調整された
ウエハをウエハ載置台１に載置する。また、露光後にウ
エハ２をウエハ載置台１から取り去りウエハカセット８
ａ〜８ｃに収納する。
体としてのウエハ２を載置するウエハ載置台、３は露光
光をウエハ２上に照射する露光光源，レンズ及び露光マ
スクを含む光学系、６はレーザ光線を用いてオートフォ
ーカス値を検出することにより、ウエハ載置台１上のウ
エハ２の平坦度を測定する平坦度測定手段で、レーザ光
源４とディテクタ５とからなる。７は露光すべきウエ
ハ，又は露光完了後のウエハを収納するウエハカセット
８ａ〜８ｃを保持するカセットステーション、９は露光
すべきウエハの位置を調整するアライナ、１０はウエハ
２を搬送する搬送手段で、ウエハカセット８ａ〜８ｃか
ら取り出してアライナ９に搬送し、更に位置調整された
ウエハをウエハ載置台１に載置する。また、露光後にウ
エハ２をウエハ載置台１から取り去りウエハカセット８
ａ〜８ｃに収納する。
【０００６】このような露光装置を用いて露光を行う方
法について図４（ａ），（ｂ）を参照しながら説明す
る。まず、ウエハ２の平坦度の検査を行う。即ち、平坦
度測定手段６のレーザ光源４よりウエハ２にレーザ光線
を照射し、反射光をディテクタ５で受けることにより平
坦度を測定する。これを露光すべきウエハ２の表面の小
さく区分された領域について行い、平坦度の絶対値と分
布とを観察することによりウエハ２又はウエハ載置台１
上の塵の有無を検査する。
法について図４（ａ），（ｂ）を参照しながら説明す
る。まず、ウエハ２の平坦度の検査を行う。即ち、平坦
度測定手段６のレーザ光源４よりウエハ２にレーザ光線
を照射し、反射光をディテクタ５で受けることにより平
坦度を測定する。これを露光すべきウエハ２の表面の小
さく区分された領域について行い、平坦度の絶対値と分
布とを観察することによりウエハ２又はウエハ載置台１
上の塵の有無を検査する。
【０００７】次いで、塵の無いことを確認した後、光学
系３から露光光を照射し、ウエハ２上のレジスト膜を選
択的に露光する。
系３から露光光を照射し、ウエハ２上のレジスト膜を選
択的に露光する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の露光
の前の平坦度の検査方法では、ウエハ２裏面の塵によっ
て平坦度が悪化しているのか、ウエハ載置台１上の塵に
よるものなのか判別できない。このため、ウエハ載置台
１の表面に塵があってもなくても、オイルストーン等の
研磨財を用いてウエハ載置台１の表面を軽く研磨するこ
とにより、ウエハ載置台１を定期的にクリーニングして
いる。更に、平坦度の測定により平坦度の異常が検出さ
れた場合には、ウエハ２を再洗浄するとともに、再びウ
エハ載置台１の表面をクリーニングしている。
の前の平坦度の検査方法では、ウエハ２裏面の塵によっ
て平坦度が悪化しているのか、ウエハ載置台１上の塵に
よるものなのか判別できない。このため、ウエハ載置台
１の表面に塵があってもなくても、オイルストーン等の
研磨財を用いてウエハ載置台１の表面を軽く研磨するこ
とにより、ウエハ載置台１を定期的にクリーニングして
いる。更に、平坦度の測定により平坦度の異常が検出さ
れた場合には、ウエハ２を再洗浄するとともに、再びウ
エハ載置台１の表面をクリーニングしている。
【０００９】このように、平坦度の異常が検出された場
合、何処の塵が原因しているか特定するのが難しいの
で、クリーニングを効率良く行うことができないという
問題がある。
合、何処の塵が原因しているか特定するのが難しいの
で、クリーニングを効率良く行うことができないという
問題がある。
【００１０】また、平坦度の測定結果を作業者が見てか
ら塵の有無を判断しなければならないため、非常に時間
がかかるという問題がある。本発明は、かかる従来の問
題点に鑑みてなされたもので、被露光体表面及び被露光
体の載置台上の塵を区別して容易に検出することができ
る露光装置を提供することを目的とするものである。
ら塵の有無を判断しなければならないため、非常に時間
がかかるという問題がある。本発明は、かかる従来の問
題点に鑑みてなされたもので、被露光体表面及び被露光
体の載置台上の塵を区別して容易に検出することができ
る露光装置を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題は、第１に、被
露光体に露光光を照射する光学系と、前記被露光体の載
置台と、前記被露光体の搬送手段と、前記載置台上の被
露光体の平坦度を測定する平坦度測定手段とを有する露
光装置であって、前記載置台上に載置して前記平坦度測
定手段により前記平坦度をモニタする被露光体モニタ
と、該被露光体モニタを清浄な雰囲気中に収納する収納
手段と、前記被露光体モニタの平坦度のモニタ結果を基
準として前記被露光体の平坦度の測定結果を比較し、該
比較の結果に基づいて前記被露光体の露光の可否を決定
するとともに、少なくとも前記光学系，載置台，搬送手
段及び平坦度測定手段を制御する制御手段とを有するこ
とを特徴とする露光装置によって達成され、第２に、第
１の発明に記載の露光装置であって、前記被露光体モニ
タを清浄な雰囲気中に収納する収納手段を有することを
特徴とする露光装置によって達成される。
露光体に露光光を照射する光学系と、前記被露光体の載
置台と、前記被露光体の搬送手段と、前記載置台上の被
露光体の平坦度を測定する平坦度測定手段とを有する露
光装置であって、前記載置台上に載置して前記平坦度測
定手段により前記平坦度をモニタする被露光体モニタ
と、該被露光体モニタを清浄な雰囲気中に収納する収納
手段と、前記被露光体モニタの平坦度のモニタ結果を基
準として前記被露光体の平坦度の測定結果を比較し、該
比較の結果に基づいて前記被露光体の露光の可否を決定
するとともに、少なくとも前記光学系，載置台，搬送手
段及び平坦度測定手段を制御する制御手段とを有するこ
とを特徴とする露光装置によって達成され、第２に、第
１の発明に記載の露光装置であって、前記被露光体モニ
タを清浄な雰囲気中に収納する収納手段を有することを
特徴とする露光装置によって達成される。
【００１２】
【作用】本発明の露光装置においては、被露光体モニタ
の平坦度のモニタ結果を基準として被露光体の平坦度の
測定結果を比較する制御手段を有しているので、塵があ
れば、その時点で直ちに異常を判別することができる。
従って、迅速に対処することができる。
の平坦度のモニタ結果を基準として被露光体の平坦度の
測定結果を比較する制御手段を有しているので、塵があ
れば、その時点で直ちに異常を判別することができる。
従って、迅速に対処することができる。
【００１３】また、被露光体モニタを清浄な雰囲気中に
収納する収納手段を有しているので、被露光体モニタに
塵が付着しないように管理することができる。従って、
被露光体の平坦度の測定結果に異常が発生した場合、例
えば、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常
がなければ、被露光体に付着した塵だと判断できる。ま
た、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常が
あれば、被露光体の載置台の表面に付着した塵だと判断
できる。このように、被露光体表面及び被露光体の載置
台上の塵を区別して容易に検出することができる。
収納する収納手段を有しているので、被露光体モニタに
塵が付着しないように管理することができる。従って、
被露光体の平坦度の測定結果に異常が発生した場合、例
えば、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常
がなければ、被露光体に付着した塵だと判断できる。ま
た、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常が
あれば、被露光体の載置台の表面に付着した塵だと判断
できる。このように、被露光体表面及び被露光体の載置
台上の塵を区別して容易に検出することができる。
【００１４】
【実施例】図１（ａ），（ｂ）は、本発明の実施例の露
光装置について説明する構成図である。図１（ａ）は上
面図、図１（ｂ）は側面図を示す。
光装置について説明する構成図である。図１（ａ）は上
面図、図１（ｂ）は側面図を示す。
【００１５】図１（ａ），（ｂ）において、１１は被露
光体としてのウエハ１２又は被露光体モニタ２１を載置
するウエハ載置台（被露光体の載置台）、１３は露光光
をウエハ１２等上に照射する露光光源，レンズ及び露光
マスクを含む光学系、１６はレーザ光線を用いてオート
フォーカス値を検出することにより、ウエハ載置台１１
上のウエハ１２等の平坦度を測定する平坦度測定手段
で、レーザ光源１４とディテクタ１５とからなる。１７
は露光すべきウエハ，又は露光完了後のウエハを収納す
るウエハカセット18ａ〜18ｃを保持するカセットステー
ション、１９は露光すべきウエハの位置を調整するアラ
イナ、２０はウエハ１２等をウエハ載置台１１に載置
し、かつ露光後にウエハ１２等をウエハ載置台１１から
取り去るロボット（搬送手段）である。
光体としてのウエハ１２又は被露光体モニタ２１を載置
するウエハ載置台（被露光体の載置台）、１３は露光光
をウエハ１２等上に照射する露光光源，レンズ及び露光
マスクを含む光学系、１６はレーザ光線を用いてオート
フォーカス値を検出することにより、ウエハ載置台１１
上のウエハ１２等の平坦度を測定する平坦度測定手段
で、レーザ光源１４とディテクタ１５とからなる。１７
は露光すべきウエハ，又は露光完了後のウエハを収納す
るウエハカセット18ａ〜18ｃを保持するカセットステー
ション、１９は露光すべきウエハの位置を調整するアラ
イナ、２０はウエハ１２等をウエハ載置台１１に載置
し、かつ露光後にウエハ１２等をウエハ載置台１１から
取り去るロボット（搬送手段）である。
【００１６】２１は被露光体モニタで、特別に洗浄さ
れ、清浄に保持されているウエハが用いられる。２２は
被露光体モニタ２１を清浄な状態で収納する収納室（収
納手段）で、例えば室壁が一定の電位に保たれ、塵を静
電的に吸着するようになっている。また、室内は清浄な
不活性ガスで満たされているか、又は減圧状態になって
いる。
れ、清浄に保持されているウエハが用いられる。２２は
被露光体モニタ２１を清浄な状態で収納する収納室（収
納手段）で、例えば室壁が一定の電位に保たれ、塵を静
電的に吸着するようになっている。また、室内は清浄な
不活性ガスで満たされているか、又は減圧状態になって
いる。
【００１７】２３は被露光体モニタ２１の平坦度のモニ
タ結果を基準としてウエハ１２の平坦度の測定結果を比
較し、比較の結果に基づいてウエハ１２の露光の可否を
決定するとともに、少なくとも光学系１３，ウエハ載置
台１１，ロボット２０及び平坦度測定手段１６を制御す
る制御手段である。２４は平坦度に異常があるときに制
御手段２３からの信号により鳴るアラームである。
タ結果を基準としてウエハ１２の平坦度の測定結果を比
較し、比較の結果に基づいてウエハ１２の露光の可否を
決定するとともに、少なくとも光学系１３，ウエハ載置
台１１，ロボット２０及び平坦度測定手段１６を制御す
る制御手段である。２４は平坦度に異常があるときに制
御手段２３からの信号により鳴るアラームである。
【００１８】このような露光装置を用いて露光を行う方
法について図１（ａ），（ｂ）を参照しながら説明す
る。まず、搬送手段２０により被露光体モニタ２１をウ
エハ載置台１１上に載置する。続いて、レーザ光源１４
によりレーザ光線を被露光体モニタ２１上に照射し、反
射光をディテクタ１５で受けてオートフォーカス値を検
出することにより、ウエハ載置台１１上の被露光体モニ
タ２１の平坦度を測定する。これをチップ領域とほぼ同
じ配置及び面積に相当する被露光体モニタ２１の表面の
複数の小領域について行う。その結果の一例を図２
（ａ）に示す。結果は平坦度の基準として制御手段２３
に記憶される。
法について図１（ａ），（ｂ）を参照しながら説明す
る。まず、搬送手段２０により被露光体モニタ２１をウ
エハ載置台１１上に載置する。続いて、レーザ光源１４
によりレーザ光線を被露光体モニタ２１上に照射し、反
射光をディテクタ１５で受けてオートフォーカス値を検
出することにより、ウエハ載置台１１上の被露光体モニ
タ２１の平坦度を測定する。これをチップ領域とほぼ同
じ配置及び面積に相当する被露光体モニタ２１の表面の
複数の小領域について行う。その結果の一例を図２
（ａ）に示す。結果は平坦度の基準として制御手段２３
に記憶される。
【００１９】次いで、搬送手段２０により被露光体モニ
タ２１をウエハ載置台１１から取り去って収納室２２に
収納した後、搬送手段２０によりウエハカセット18ｃか
ら露光すべきウエハ１２を取り出し、ウエハ載置台１１
上に載置する。続いて、露光すべきウエハ１２の平坦度
の検査を行う。即ち、平坦度測定手段１６により露光す
べきウエハ１２を用いてウエハ１２の表面の小さく区分
された領域の平坦度を測定し、その値を予め取得されて
いるモニタ結果と逐次比較する。仮に、異常があれば、
例えば図３（ｃ）に示すような結果が得られるが、この
図３（ｃ）のように全部測定をしなくても、モニタ結果
と大幅にずれるデータが得られた時点で直ちに、制御手
段２３からの信号によりアラーム２４を鳴らして作業者
に知らせる。
タ２１をウエハ載置台１１から取り去って収納室２２に
収納した後、搬送手段２０によりウエハカセット18ｃか
ら露光すべきウエハ１２を取り出し、ウエハ載置台１１
上に載置する。続いて、露光すべきウエハ１２の平坦度
の検査を行う。即ち、平坦度測定手段１６により露光す
べきウエハ１２を用いてウエハ１２の表面の小さく区分
された領域の平坦度を測定し、その値を予め取得されて
いるモニタ結果と逐次比較する。仮に、異常があれば、
例えば図３（ｃ）に示すような結果が得られるが、この
図３（ｃ）のように全部測定をしなくても、モニタ結果
と大幅にずれるデータが得られた時点で直ちに、制御手
段２３からの信号によりアラーム２４を鳴らして作業者
に知らせる。
【００２０】次いで、塵が無い場合には図２（ｂ）に示
すような結果が得られ、モニタ結果とほぼ同一となるの
で、制御手段２３が塵の無いことを確認した後、制御手
段２３から光学系１３に信号を送り、光学系１３から露
光光を照射してウエハ１２上のレジスト膜を選択的に露
光する。
すような結果が得られ、モニタ結果とほぼ同一となるの
で、制御手段２３が塵の無いことを確認した後、制御手
段２３から光学系１３に信号を送り、光学系１３から露
光光を照射してウエハ１２上のレジスト膜を選択的に露
光する。
【００２１】以上のように、本発明の実施例の露光装置
においては、被露光体モニタ２１の平坦度のモニタ結果
を基準としてウエハ１２の平坦度の測定結果を比較する
制御手段２３を有しているので、塵があれば、その時点
で直ちに異常を判別することができる。従って、迅速に
対処することができる。
においては、被露光体モニタ２１の平坦度のモニタ結果
を基準としてウエハ１２の平坦度の測定結果を比較する
制御手段２３を有しているので、塵があれば、その時点
で直ちに異常を判別することができる。従って、迅速に
対処することができる。
【００２２】また、被露光体モニタ２１を清浄な雰囲気
中に収納する収納室２２を有しているので、被露光体モ
ニタ２１に塵が付着しないように管理することができ
る。従って、ウエハ１２の平坦度の測定結果に異常が発
生した場合、例えば、被露光体モニタ２１による平坦度
のモニタ結果に異常がなければ、ウエハ１２に付着した
塵だと判断できる。また、被露光体モニタ２１による平
坦度のモニタ結果に異常があれば、ウエハ載置台１１の
表面に付着した塵だと判断できる。このように、ウエハ
１２の表面及びウエハ載置台１１上の塵を区別して容易
に検出することができる。
中に収納する収納室２２を有しているので、被露光体モ
ニタ２１に塵が付着しないように管理することができ
る。従って、ウエハ１２の平坦度の測定結果に異常が発
生した場合、例えば、被露光体モニタ２１による平坦度
のモニタ結果に異常がなければ、ウエハ１２に付着した
塵だと判断できる。また、被露光体モニタ２１による平
坦度のモニタ結果に異常があれば、ウエハ載置台１１の
表面に付着した塵だと判断できる。このように、ウエハ
１２の表面及びウエハ載置台１１上の塵を区別して容易
に検出することができる。
【００２３】
【発明の効果】以上のように、本発明の露光装置におい
ては、被露光体モニタの平坦度のモニタ結果を基準とし
て被露光体の平坦度の測定結果を比較する制御手段を有
しているので、塵があれば、その時点で直ちに異常を判
別することができる。従って、迅速に対処することがで
きる。
ては、被露光体モニタの平坦度のモニタ結果を基準とし
て被露光体の平坦度の測定結果を比較する制御手段を有
しているので、塵があれば、その時点で直ちに異常を判
別することができる。従って、迅速に対処することがで
きる。
【００２４】また、被露光体モニタを清浄な雰囲気中に
収納する収納手段を有しているので、被露光体モニタに
塵が付着しないように管理することができる。従って、
被露光体の平坦度の測定結果に異常が発生した場合、例
えば、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常
がなければ、被露光体に付着した塵だと判断できる。ま
た、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常が
あれば、被露光体の載置台の表面に付着した塵だと判断
できる。このように、被露光体表面及び被露光体の載置
台上の塵を区別して容易に検出することができる。
収納する収納手段を有しているので、被露光体モニタに
塵が付着しないように管理することができる。従って、
被露光体の平坦度の測定結果に異常が発生した場合、例
えば、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常
がなければ、被露光体に付着した塵だと判断できる。ま
た、被露光体モニタによる平坦度のモニタ結果に異常が
あれば、被露光体の載置台の表面に付着した塵だと判断
できる。このように、被露光体表面及び被露光体の載置
台上の塵を区別して容易に検出することができる。
【図１】本発明の実施例の露光装置について説明する構
成図である。
成図である。
【図２】本発明の実施例の露光装置を用いたモニタ方法
について説明する図（その１）である。
について説明する図（その１）である。
【図３】本発明の実施例の露光装置を用いたモニタ方法
について説明する図（その２）である。
について説明する図（その２）である。
【図４】従来例の露光装置について説明する構成図であ
る。
る。
１１ ウエハ載置台（被露光体の載置台）、 １２ ウエハ（被露光体）、 １３ 光学系、 １４ レーザ光源、 １５ ディテクタ、 １６ 平坦度測定手段、 １７ カセットステーション、 18ａ〜18ｃ ウエハカセット、 １９ アライナ、 ２０ ロボット（搬送手段）、 ２１ 被露光体モニタ、 ２２ 収納質（収納手段）、 ２３ 制御手段、 ２４ アラーム。
Claims (2)
- 【請求項１】 被露光体に露光光を照射する光学系と、
前記被露光体の載置台と、前記被露光体の搬送手段と、
前記載置台上の被露光体の平坦度を測定する平坦度測定
手段とを有する露光装置であって、 前記載置台上に載置して前記平坦度測定手段により前記
平坦度をモニタする被露光体モニタと、前記被露光体モ
ニタの平坦度のモニタ結果を基準として前記被露光体の
平坦度の測定結果を比較し、該比較の結果に基づいて前
記被露光体の露光の可否を決定するとともに、少なくと
も前記光学系，載置台，搬送手段及び平坦度測定手段を
制御する制御手段とを有することを特徴とする露光装
置。 - 【請求項２】 請求項１記載の露光装置であって、前記
被露光体モニタを清浄な雰囲気中に収納する収納手段を
有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293444A JPH05136019A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293444A JPH05136019A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05136019A true JPH05136019A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=17794847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3293444A Withdrawn JPH05136019A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05136019A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200045776A (ko) * | 2018-10-23 | 2020-05-06 | 일진디스플레이(주) | 터치 패널의 제조 방법 |
| CN114384771A (zh) * | 2020-10-22 | 2022-04-22 | 中国科学院微电子研究所 | 晶圆对准方法、装置及半导体器件 |
-
1991
- 1991-11-08 JP JP3293444A patent/JPH05136019A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200045776A (ko) * | 2018-10-23 | 2020-05-06 | 일진디스플레이(주) | 터치 패널의 제조 방법 |
| CN114384771A (zh) * | 2020-10-22 | 2022-04-22 | 中国科学院微电子研究所 | 晶圆对准方法、装置及半导体器件 |
| CN114384771B (zh) * | 2020-10-22 | 2024-04-02 | 中国科学院微电子研究所 | 晶圆对准方法、装置及半导体器件 |
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