JPH05136043A - 自動液管理装置 - Google Patents
自動液管理装置Info
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- JPH05136043A JPH05136043A JP3131459A JP13145991A JPH05136043A JP H05136043 A JPH05136043 A JP H05136043A JP 3131459 A JP3131459 A JP 3131459A JP 13145991 A JP13145991 A JP 13145991A JP H05136043 A JPH05136043 A JP H05136043A
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- effective component
- concentration
- resist stripping
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジスト剥離液の有効成分を正確に測定する
ことができる自動液管理装置の提供を目的とする。 【構成】 演算手段５５において、予め入力されてい
る、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係を示
す基準データと、温度センサ５３Ａから出力されたレジ
スト剥離液の温度とに基づき、前記レジスト剥離液の濃
度を、有効成分の安定した測定ができる温度領域、例え
ば６５℃以上で有効成分の濃度を測定したときと同じ値
となるように補正することができ、これによって室温の
変動に左右されず、正確な濃度分析を行うことができ
る。
ことができる自動液管理装置の提供を目的とする。 【構成】 演算手段５５において、予め入力されてい
る、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係を示
す基準データと、温度センサ５３Ａから出力されたレジ
スト剥離液の温度とに基づき、前記レジスト剥離液の濃
度を、有効成分の安定した測定ができる温度領域、例え
ば６５℃以上で有効成分の濃度を測定したときと同じ値
となるように補正することができ、これによって室温の
変動に左右されず、正確な濃度分析を行うことができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、処理液が劣化したか
否かを判定する自動液管理装置に関するものである。
否かを判定する自動液管理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体の製造工程等で用いら
れるレジスト剥離液(処理液)は自動、手動を問わず様々
な方法で分析、管理されていた。具体的には、レジスト
剥離液を、ポンプとバルブの開閉とにより間欠的にサン
プリングした後、該レジスト剥離液を分析機器内に注入
し、この反応セル内において、滴定分析を行うようにし
ている。そして、このような自動液管理装置では、制御
手段内に設けられたコンピュータにより、ポンプの駆
動、バルブの開閉等の動作を制御するとともに、反応セ
ル内に滴下した試薬の滴下量に基づき、処理液中の有効
成分である硫酸あるいは過酸化水素の濃度を算出し、こ
れらの算出結果をＣＲＴあるいはプリンタに出力してい
る。
れるレジスト剥離液(処理液)は自動、手動を問わず様々
な方法で分析、管理されていた。具体的には、レジスト
剥離液を、ポンプとバルブの開閉とにより間欠的にサン
プリングした後、該レジスト剥離液を分析機器内に注入
し、この反応セル内において、滴定分析を行うようにし
ている。そして、このような自動液管理装置では、制御
手段内に設けられたコンピュータにより、ポンプの駆
動、バルブの開閉等の動作を制御するとともに、反応セ
ル内に滴下した試薬の滴下量に基づき、処理液中の有効
成分である硫酸あるいは過酸化水素の濃度を算出し、こ
れらの算出結果をＣＲＴあるいはプリンタに出力してい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
なレジスト剥離液の自動液管理装置では、通常、室温に
てレジスト剥離液の分析を行うようにしているが、この
とき室温が変化すると、該レジスト剥離液の分析値も微
妙に変化するという問題があり、この点において処理液
の有効成分濃度を正確に分析できる自動液管理装置の提
供が期待されていた。
なレジスト剥離液の自動液管理装置では、通常、室温に
てレジスト剥離液の分析を行うようにしているが、この
とき室温が変化すると、該レジスト剥離液の分析値も微
妙に変化するという問題があり、この点において処理液
の有効成分濃度を正確に分析できる自動液管理装置の提
供が期待されていた。
【０００４】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、レジスト剥離液（処理液）の温度と該レ
ジスト剥離液の有効成分の分析値との相関関係に基づ
き、測定したレジスト剥離液の有効成分濃度を、該レジ
スト剥離液の温度を示す温度データに基づき補正し、こ
れにより該レジスト剥離液の有効成分濃度を正確に測定
できる自動液管理装置の提供を目的とする。
ものであって、レジスト剥離液（処理液）の温度と該レ
ジスト剥離液の有効成分の分析値との相関関係に基づ
き、測定したレジスト剥離液の有効成分濃度を、該レジ
スト剥離液の温度を示す温度データに基づき補正し、こ
れにより該レジスト剥離液の有効成分濃度を正確に測定
できる自動液管理装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、第１の発明では、処理液をサンプリングするサン
プリング手段と、サンプリングされた処理液の有効成分
の量を検出する定量手段と、この定量手段から出力され
た検出データに基づき処理液の有効成分の濃度を演算す
る演算手段とを有する自動液管理装置において、前記定
量手段に、サンプリングされた処理液の温度を測定する
ための温度検出手段を設け、前記演算手段は、予め入力
されている、温度と処理液の有効成分濃度との関係を示
す基準データと、前記温度検出手段から出力された温度
データとに基づき、前記処理液の有効成分濃度を補正す
ることを特徴としている。第２の発明では、前記演算手
段は、係数化した基準データを、定量手段の検出データ
に基づき演算された処理液の有効成分濃度に乗じること
により、前記処理液の有効成分濃度を補正することを特
徴としている。第３の発明では、前記サンプリング手段
によりサンプリングされる処理液は、有効成分としてＨ
2ＳＯ4及びＨ2Ｏ2を含むものである、あるいは、Ｈ2Ｓ
Ｏ4及びＯ3 を含むものであることを特徴としている。
第４の発明では、処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、サンプリングされた処理液の吸光度を検出す
る吸光度検出手段と、この吸光度検出手段から出力され
た検出データに基づき処理液の有効成分の濃度を演算す
る演算手段と、前記吸光度検出手段に設けられて、サン
プリングされた処理液の温度を測定するための温度検出
手段とを具備し、前記演算手段は、予め入力されてい
る、温度と処理液の有効成分濃度との関係を示す基準デ
ータと、前記温度検出手段から出力された温度データと
に基づき、前記処理液の有効成分濃度を補正することを
特徴としている。
めに、第１の発明では、処理液をサンプリングするサン
プリング手段と、サンプリングされた処理液の有効成分
の量を検出する定量手段と、この定量手段から出力され
た検出データに基づき処理液の有効成分の濃度を演算す
る演算手段とを有する自動液管理装置において、前記定
量手段に、サンプリングされた処理液の温度を測定する
ための温度検出手段を設け、前記演算手段は、予め入力
されている、温度と処理液の有効成分濃度との関係を示
す基準データと、前記温度検出手段から出力された温度
データとに基づき、前記処理液の有効成分濃度を補正す
ることを特徴としている。第２の発明では、前記演算手
段は、係数化した基準データを、定量手段の検出データ
に基づき演算された処理液の有効成分濃度に乗じること
により、前記処理液の有効成分濃度を補正することを特
徴としている。第３の発明では、前記サンプリング手段
によりサンプリングされる処理液は、有効成分としてＨ
2ＳＯ4及びＨ2Ｏ2を含むものである、あるいは、Ｈ2Ｓ
Ｏ4及びＯ3 を含むものであることを特徴としている。
第４の発明では、処理液をサンプリングするサンプリン
グ手段と、サンプリングされた処理液の吸光度を検出す
る吸光度検出手段と、この吸光度検出手段から出力され
た検出データに基づき処理液の有効成分の濃度を演算す
る演算手段と、前記吸光度検出手段に設けられて、サン
プリングされた処理液の温度を測定するための温度検出
手段とを具備し、前記演算手段は、予め入力されてい
る、温度と処理液の有効成分濃度との関係を示す基準デ
ータと、前記温度検出手段から出力された温度データと
に基づき、前記処理液の有効成分濃度を補正することを
特徴としている。
【０００６】
【作用】第１〜第３の発明として示される自動液管理装
置では、予め入力されている、温度と処理液の有効成分
濃度との関係を示す基準データと、温度検出手段から出
力された温度データとに基づき、処理液の有効成分濃度
を補正するようにしたので、該処理液の温度が有効成分
濃度の安定した測定ができない温度領域、例えば６５℃
以下である場合に、この温度で測定した有効成分濃度
を、前記基準データに基づき、該処理液を６５℃以上で
測定したときの測定値と同じ値となるように補正するこ
とができる。第４の発明として示される自動液管理装置
では、予め入力されている、温度と処理液の有効成分濃
度との関係を示す基準データと、温度検出手段から出力
された温度データとに基づき、吸光度に基づき演算され
た処理液の有効成分濃度を補正するようにしたので、第
１〜第３の発明と同様に、該処理液の温度が、有効成分
濃度の安定した測定ができない温度領域、例えば６５℃
以下である場合に、この温度で測定した有効成分濃度
を、前記基準データに基づき、該処理液を６５℃以上で
測定したときの測定値と同じ値となるように補正するこ
とができる。
置では、予め入力されている、温度と処理液の有効成分
濃度との関係を示す基準データと、温度検出手段から出
力された温度データとに基づき、処理液の有効成分濃度
を補正するようにしたので、該処理液の温度が有効成分
濃度の安定した測定ができない温度領域、例えば６５℃
以下である場合に、この温度で測定した有効成分濃度
を、前記基準データに基づき、該処理液を６５℃以上で
測定したときの測定値と同じ値となるように補正するこ
とができる。第４の発明として示される自動液管理装置
では、予め入力されている、温度と処理液の有効成分濃
度との関係を示す基準データと、温度検出手段から出力
された温度データとに基づき、吸光度に基づき演算され
た処理液の有効成分濃度を補正するようにしたので、第
１〜第３の発明と同様に、該処理液の温度が、有効成分
濃度の安定した測定ができない温度領域、例えば６５℃
以下である場合に、この温度で測定した有効成分濃度
を、前記基準データに基づき、該処理液を６５℃以上で
測定したときの測定値と同じ値となるように補正するこ
とができる。
【０００７】
【実施例】この発明の第１実施例を図１〜図３を参照し
て説明する。まず、図１を参照して、本発明に係る自動
液管理装置の概略構成について説明する。図１におい
て、符号５０で示すものは、半導体用シリコンウエハ上
のレジスト（ノボラック樹脂等）を剥離して溶解するレ
ジスト剥離液が貯留される貯留槽である。なお、前記レ
ジスト剥離液中には、レジストを剥離して溶解するため
の硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及び過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）等の有効
成分が含有され、あるいは硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及びオゾン
（Ｏ3 ）等の有効成分が含有されている。また、前記貯
留槽５０には、レジスト剥離液を輸送するサンプリング
ポンプ５１（サンプリング手段）を途中に有する経路５
２が設けられ、この経路５２の途中であり、かつ前記サ
ンプリングポンプ５１の下流側には、定量手段５３が設
けられている。
て説明する。まず、図１を参照して、本発明に係る自動
液管理装置の概略構成について説明する。図１におい
て、符号５０で示すものは、半導体用シリコンウエハ上
のレジスト（ノボラック樹脂等）を剥離して溶解するレ
ジスト剥離液が貯留される貯留槽である。なお、前記レ
ジスト剥離液中には、レジストを剥離して溶解するため
の硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及び過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）等の有効
成分が含有され、あるいは硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及びオゾン
（Ｏ3 ）等の有効成分が含有されている。また、前記貯
留槽５０には、レジスト剥離液を輸送するサンプリング
ポンプ５１（サンプリング手段）を途中に有する経路５
２が設けられ、この経路５２の途中であり、かつ前記サ
ンプリングポンプ５１の下流側には、定量手段５３が設
けられている。
【０００８】前記定量手段５３は、前記経路５２により
送られた一定量のレジスト剥離液に試薬を滴下し、この
ときのレジスト剥離液の電位を測定するものであって、
この定量手段５３において検出された電位を示す検出デ
ータ（Ａ）は演算手段５５に供給され、この演算手段５
５において、試薬を滴下した場合の電位の変化、及び試
薬の滴下量からレジスト剥離液中の有効成分の濃度を算
出するようにしている。つまり、前記演算手段５５にお
いては、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点とし
て、この反応の終点における試薬の滴下量から、前記レ
ジスト剥離液の有効成分である硫酸及び過酸化水素濃
度、あるいは硫酸及びオゾン濃度がそれぞれ算出される
ものである。また、この定量手段５３には、レジスト剥
離液の温度を測定するための温度センサ５３Ａ（温度検
出手段）が設けられており、この温度センサ５３Ａによ
り測定されたレジスト剥離液の温度を示す温度データ
（Ｂ）は、後述する演算手段５５に供給されるようにな
っている。
送られた一定量のレジスト剥離液に試薬を滴下し、この
ときのレジスト剥離液の電位を測定するものであって、
この定量手段５３において検出された電位を示す検出デ
ータ（Ａ）は演算手段５５に供給され、この演算手段５
５において、試薬を滴下した場合の電位の変化、及び試
薬の滴下量からレジスト剥離液中の有効成分の濃度を算
出するようにしている。つまり、前記演算手段５５にお
いては、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点とし
て、この反応の終点における試薬の滴下量から、前記レ
ジスト剥離液の有効成分である硫酸及び過酸化水素濃
度、あるいは硫酸及びオゾン濃度がそれぞれ算出される
ものである。また、この定量手段５３には、レジスト剥
離液の温度を測定するための温度センサ５３Ａ（温度検
出手段）が設けられており、この温度センサ５３Ａによ
り測定されたレジスト剥離液の温度を示す温度データ
（Ｂ）は、後述する演算手段５５に供給されるようにな
っている。
【０００９】なお、図１において、符号５４で示すもの
は、サンプリングポンプ５１、定量手段５３をそれぞれ
駆動するための駆動信号をそれぞれ出力するための制御
手段であり、また、符号５６で示すものは、前記演算手
段５５において演算された有効成分濃度を補正するため
の係数（基準データ）を入力するための入力手段であり
（後述する）、また、符号５７で示すものは、定量手段
５３において有効成分量が測定された後のレジスト剥離
液をドレンとして貯留するためのドレン貯留部である。
は、サンプリングポンプ５１、定量手段５３をそれぞれ
駆動するための駆動信号をそれぞれ出力するための制御
手段であり、また、符号５６で示すものは、前記演算手
段５５において演算された有効成分濃度を補正するため
の係数（基準データ）を入力するための入力手段であり
（後述する）、また、符号５７で示すものは、定量手段
５３において有効成分量が測定された後のレジスト剥離
液をドレンとして貯留するためのドレン貯留部である。
【００１０】次に、上記演算手段５５の構成について説
明する。この演算手段５５は、上述したように定量手段
５３において定量された有効成分量（検出データ
（Ａ））からレジスト剥離液の濃度を計算するととも
に、このレジスト剥離液の濃度を、温度センサ５３Ａか
ら出力された温度データ（Ｂ）と、予め入力されてい
る、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係を示
す基準データとに基づき補正するものである。
明する。この演算手段５５は、上述したように定量手段
５３において定量された有効成分量（検出データ
（Ａ））からレジスト剥離液の濃度を計算するととも
に、このレジスト剥離液の濃度を、温度センサ５３Ａか
ら出力された温度データ（Ｂ）と、予め入力されてい
る、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係を示
す基準データとに基づき補正するものである。
【００１１】まず、図２及び図３を参照して、温度とレ
ジスト剥離液の有効成分濃度（過酸化水素濃度につい
て）との関係について説明する。図２に示すグラフは、
過酸化水素の濃度の異なる二種類のレジスト剥離液につ
いて、その濃度測定値が、該レジスト剥離液の温度とど
のような関係にあるかを示すものである。そして、これ
らの測定結果を参照して判るように、二種類のレジスト
剥離液について温度が６５℃以下の場合には、温度の上
昇に伴って、過酸化水素の濃度測定値も上昇してゆく。
すなわち、レジスト剥離液の温度が６５℃以下である場
合には、過酸化水素の濃度測定値が不安定であることが
判る。なお、レジスト剥離液の温度が６５℃以下である
場合に、過酸化水素の濃度測定値が不安定となる理由に
ついては、温度が６５℃以下であると、過酸化水素と硫
酸とが反応して、あるいはオゾンと硫酸とが反応して、
不安定な中間物質を形成し、この不安定な中間物質が、
過酸化水素の濃度測定値の不安定要因となると考えられ
ている。
ジスト剥離液の有効成分濃度（過酸化水素濃度につい
て）との関係について説明する。図２に示すグラフは、
過酸化水素の濃度の異なる二種類のレジスト剥離液につ
いて、その濃度測定値が、該レジスト剥離液の温度とど
のような関係にあるかを示すものである。そして、これ
らの測定結果を参照して判るように、二種類のレジスト
剥離液について温度が６５℃以下の場合には、温度の上
昇に伴って、過酸化水素の濃度測定値も上昇してゆく。
すなわち、レジスト剥離液の温度が６５℃以下である場
合には、過酸化水素の濃度測定値が不安定であることが
判る。なお、レジスト剥離液の温度が６５℃以下である
場合に、過酸化水素の濃度測定値が不安定となる理由に
ついては、温度が６５℃以下であると、過酸化水素と硫
酸とが反応して、あるいはオゾンと硫酸とが反応して、
不安定な中間物質を形成し、この不安定な中間物質が、
過酸化水素の濃度測定値の不安定要因となると考えられ
ている。
【００１２】一方、レジスト剥離液の温度が６５℃以上
の場合には、温度が上昇しても、過酸化水素の濃度測定
値は殆ど変化しない。すなわち、レジスト剥離液の温度
が６５℃以上である場合には、不安定な中間物質が形成
されず、過酸化水素の濃度測定値がほぼ一定の値を示す
ことが判る。そして、前記演算手段５５では、このよう
な過酸化水素の濃度測定値と、レジスト剥離液の温度と
の関係に基づいて、レジスト剥離液の温度が例えば６５
℃以下である場合に、このとき測定されたレジスト剥離
液の有効成分濃度を、前記不安定な中間物質の影響を排
除して、該レジスト剥離液が６５℃以上の安定領域で測
定されたときと同じ測定値となるように補正するもので
ある。
の場合には、温度が上昇しても、過酸化水素の濃度測定
値は殆ど変化しない。すなわち、レジスト剥離液の温度
が６５℃以上である場合には、不安定な中間物質が形成
されず、過酸化水素の濃度測定値がほぼ一定の値を示す
ことが判る。そして、前記演算手段５５では、このよう
な過酸化水素の濃度測定値と、レジスト剥離液の温度と
の関係に基づいて、レジスト剥離液の温度が例えば６５
℃以下である場合に、このとき測定されたレジスト剥離
液の有効成分濃度を、前記不安定な中間物質の影響を排
除して、該レジスト剥離液が６５℃以上の安定領域で測
定されたときと同じ測定値となるように補正するもので
ある。
【００１３】次に、図３を参照して、演算手段５５にお
いてレジスト剥離液の有効成分濃度を補正するための具
体的方法について説明する。図３で白丸で示すライン
（１）は、図２に示す、温度とレジスト剥離液の有効成
分濃度（過酸化水素濃度）との関係を模式化したもので
あり、このような（１）で示される関係のものを、入力
手段５６により、基準データとして演算手段５５に入力
しておく。具体的には、ライン（１）において、温度Ｔ
2 より低い範囲の傾き（＝ａ）を、基準データとして入
力しておく。ここで、符号Ｔ2 はレジスト剥離液の濃度
が安定する温度、すなわち図２に対応させれば、Ｔ2 ＝
６５℃である。
いてレジスト剥離液の有効成分濃度を補正するための具
体的方法について説明する。図３で白丸で示すライン
（１）は、図２に示す、温度とレジスト剥離液の有効成
分濃度（過酸化水素濃度）との関係を模式化したもので
あり、このような（１）で示される関係のものを、入力
手段５６により、基準データとして演算手段５５に入力
しておく。具体的には、ライン（１）において、温度Ｔ
2 より低い範囲の傾き（＝ａ）を、基準データとして入
力しておく。ここで、符号Ｔ2 はレジスト剥離液の濃度
が安定する温度、すなわち図２に対応させれば、Ｔ2 ＝
６５℃である。
【００１４】そして、定量手段５３の定量値である有効
成分量（検出データ（Ａ））から計算された、温度がＴ
1 （温度データ（Ｂ）により供給された）の場合のレジ
スト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1）から、温度が安定領
域を示すＴ2の場合の有効成分濃度（Ｄ2）を求める。す
なわち、Ｔ1とＤ1で特定されるプロット（ｍ1） を通
り、かつ（１）と同じ傾き（＝ａ）のライン（２）を求
め（一点鎖線で示す）、このライン（２）に基づき、温
度がＴ2である場合の有効成分濃度Ｄ2 を求めるように
する（プロットｍ2で示す）。なお、この場合の計算と
しては、有効成分濃度Ｄ1に、基準データであるライン
（１）の傾きａを乗じることにより、安定した値とされ
る、有効成分濃度Ｄ2を計算できるものである。そし
て、上記演算手段５５においては、このような計算を行
うことにより、有効成分濃度（Ｄ1）を温度（Ｔ1）に応
じて補正した、すなわち温度の影響を排除した有効成分
濃度（Ｄ2）を得ることができ、その結果として、室温
の変動に拘らずレジスト剥離液の有効成分の濃度を正確
に測定できる効果が得られるものである。
成分量（検出データ（Ａ））から計算された、温度がＴ
1 （温度データ（Ｂ）により供給された）の場合のレジ
スト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1）から、温度が安定領
域を示すＴ2の場合の有効成分濃度（Ｄ2）を求める。す
なわち、Ｔ1とＤ1で特定されるプロット（ｍ1） を通
り、かつ（１）と同じ傾き（＝ａ）のライン（２）を求
め（一点鎖線で示す）、このライン（２）に基づき、温
度がＴ2である場合の有効成分濃度Ｄ2 を求めるように
する（プロットｍ2で示す）。なお、この場合の計算と
しては、有効成分濃度Ｄ1に、基準データであるライン
（１）の傾きａを乗じることにより、安定した値とされ
る、有効成分濃度Ｄ2を計算できるものである。そし
て、上記演算手段５５においては、このような計算を行
うことにより、有効成分濃度（Ｄ1）を温度（Ｔ1）に応
じて補正した、すなわち温度の影響を排除した有効成分
濃度（Ｄ2）を得ることができ、その結果として、室温
の変動に拘らずレジスト剥離液の有効成分の濃度を正確
に測定できる効果が得られるものである。
【００１５】なお、本実施例は、安定領域を示す温度Ｔ
2 を６５℃としたが、これに限定されず、例えば１００
℃であっても良い。また、前記入力手段５６において基
準データとして入力したライン（１）の傾き（＝ａ）
は、Ｔ2 以下の温度領域において全て同じとするのでは
なく、レジスト剥離液の温度区分により異なる値として
も良い。例えば図２に示すように、５０℃以下、５０〜
５８℃、５８〜６５℃で示されるように、ライン（１）
の傾きを温度に応じて区分する、すなわちライン（１）
を複数の傾きにより表すようにし、これによって、より
実際に近い正確な有効成分の濃度計算を行うようにして
も良い。
2 を６５℃としたが、これに限定されず、例えば１００
℃であっても良い。また、前記入力手段５６において基
準データとして入力したライン（１）の傾き（＝ａ）
は、Ｔ2 以下の温度領域において全て同じとするのでは
なく、レジスト剥離液の温度区分により異なる値として
も良い。例えば図２に示すように、５０℃以下、５０〜
５８℃、５８〜６５℃で示されるように、ライン（１）
の傾きを温度に応じて区分する、すなわちライン（１）
を複数の傾きにより表すようにし、これによって、より
実際に近い正確な有効成分の濃度計算を行うようにして
も良い。
【００１６】なお、図３では、レジスト剥離液の有効成
分である過酸化水素について、濃度測定値と温度との関
係を示したものであるが、この関係と同様に他の有効成
分である硫酸あるいはオゾンについても、これらの濃度
測定値の温度が所定値（Ｔ2）以下の場合では、一定と
ならないことが実験により予め確かめられている。これ
によって、硫酸あるいはオゾンの濃度を分析する場合に
おいても、レジスト剥離液の濃度（Ｄ1）を、該レジス
ト剥離液の温度（Ｔ1）に応じて補正する必要がある。
分である過酸化水素について、濃度測定値と温度との関
係を示したものであるが、この関係と同様に他の有効成
分である硫酸あるいはオゾンについても、これらの濃度
測定値の温度が所定値（Ｔ2）以下の場合では、一定と
ならないことが実験により予め確かめられている。これ
によって、硫酸あるいはオゾンの濃度を分析する場合に
おいても、レジスト剥離液の濃度（Ｄ1）を、該レジス
ト剥離液の温度（Ｔ1）に応じて補正する必要がある。
【００１７】次に、図１に示す構成を更に具体化した自
動液管理装置を、本発明の第２実施例として図４を参照
して説明する。まず、図４において符号１で示すもの
は、図示しない処理槽からレジスト剥離液が供給される
処理液供給経路である。なお、前記レジスト剥離液に
は、半導体用シリコンウエハ上のレジスト（ノボラック
樹脂等）を剥離して溶解する硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及び過酸
化水素（Ｈ2Ｏ2）等の有効成分が含有されているもの、
あるいは、硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及びオゾン（Ｏ3 ）等の有
効成分が含有されているものが使用される。
動液管理装置を、本発明の第２実施例として図４を参照
して説明する。まず、図４において符号１で示すもの
は、図示しない処理槽からレジスト剥離液が供給される
処理液供給経路である。なお、前記レジスト剥離液に
は、半導体用シリコンウエハ上のレジスト（ノボラック
樹脂等）を剥離して溶解する硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及び過酸
化水素（Ｈ2Ｏ2）等の有効成分が含有されているもの、
あるいは、硫酸（Ｈ2ＳＯ4）及びオゾン（Ｏ3 ）等の有
効成分が含有されているものが使用される。
【００１８】前記処理液供給経路１の途中にはレジスト
剥離液の流通方向Ｘに沿って、レジスト剥離液を冷却す
る冷却器２、未溶解物等の不純物を除去するフィルタ
３、フォトセル４、六方電磁弁５が順次設けられてい
る。前記フォトセル４は、前記経路１によって送られて
きたレジスト剥離液をセル（図示略）内に導き、該レジ
スト剥離液に一定波長の光線を照射することにより、当
該レジスト剥離液の吸光度を測定するものである。な
お、前記六方電磁弁５は、（一）通常は実線で示すよう
に配置されており、前記レジスト剥離液をループ１０及
び経路６・７を通じて処理槽（図示略）に、経路６・８
を通じてドレンタンク９にそれぞれ案内する、（二）レ
ジスト剥離液中の硫酸、過酸化水素濃度を測定する際
に、点線で示す位置に切り換え、前記実線の位置に配置
されている間にループ１０に一時貯留されたレジスト剥
離液を、純水供給系１１（後述する）を通じて送られた
純水により押し出し、反応セル（後述する）に案内す
る。なお、前記ループ１０は、その内部に貯留されるレ
ジスト剥離液の量が予め設定されている、つまり定量の
ために用いるものである。
剥離液の流通方向Ｘに沿って、レジスト剥離液を冷却す
る冷却器２、未溶解物等の不純物を除去するフィルタ
３、フォトセル４、六方電磁弁５が順次設けられてい
る。前記フォトセル４は、前記経路１によって送られて
きたレジスト剥離液をセル（図示略）内に導き、該レジ
スト剥離液に一定波長の光線を照射することにより、当
該レジスト剥離液の吸光度を測定するものである。な
お、前記六方電磁弁５は、（一）通常は実線で示すよう
に配置されており、前記レジスト剥離液をループ１０及
び経路６・７を通じて処理槽（図示略）に、経路６・８
を通じてドレンタンク９にそれぞれ案内する、（二）レ
ジスト剥離液中の硫酸、過酸化水素濃度を測定する際
に、点線で示す位置に切り換え、前記実線の位置に配置
されている間にループ１０に一時貯留されたレジスト剥
離液を、純水供給系１１（後述する）を通じて送られた
純水により押し出し、反応セル（後述する）に案内す
る。なお、前記ループ１０は、その内部に貯留されるレ
ジスト剥離液の量が予め設定されている、つまり定量の
ために用いるものである。
【００１９】また、前記経路６〜８の分岐部に設けられ
たものは、特に汚れたレジスト剥離液をドレンタンク９
に案内するための三方電磁弁１２、前記経路６の途中に
設けられたものはポンプ１３、前記経路８の途中に設け
られたものは、レジスト剥離液のＰＨを測定するＰＨ電
極１４である。なお、前記ポンプ１３はこの位置に限定
されるものではなく、フォトセル４あるいは六方電磁弁
５の前段に適宜設けるようにしても良い。前記純水供給
系１１は、純水の供給経路１５に沿って設けられた二方
電磁弁１６、中間トラップ１７、ポンプ１８と、分岐し
た経路１９に設けられて、該純水の供給圧力を一定値以
下に保持するリリーフ弁２０とにより構成されるもので
ある。また、このリリーフ弁２０により排出された純水
は、前記ドレンタンク９に案内される。なお、前記純水
供給系１１は、二方電磁弁１６、中間トラップ１７、ポ
ンプ１８、リリーフ弁２０を有するものであるが、これ
に限定されずポンプ１８のみにより構成しても良い。
たものは、特に汚れたレジスト剥離液をドレンタンク９
に案内するための三方電磁弁１２、前記経路６の途中に
設けられたものはポンプ１３、前記経路８の途中に設け
られたものは、レジスト剥離液のＰＨを測定するＰＨ電
極１４である。なお、前記ポンプ１３はこの位置に限定
されるものではなく、フォトセル４あるいは六方電磁弁
５の前段に適宜設けるようにしても良い。前記純水供給
系１１は、純水の供給経路１５に沿って設けられた二方
電磁弁１６、中間トラップ１７、ポンプ１８と、分岐し
た経路１９に設けられて、該純水の供給圧力を一定値以
下に保持するリリーフ弁２０とにより構成されるもので
ある。また、このリリーフ弁２０により排出された純水
は、前記ドレンタンク９に案内される。なお、前記純水
供給系１１は、二方電磁弁１６、中間トラップ１７、ポ
ンプ１８、リリーフ弁２０を有するものであるが、これ
に限定されずポンプ１８のみにより構成しても良い。
【００２０】一方、前記ループ１０に一時貯留された
後、純水により押し出されたレジスト剥離液は経路２１
を通じて反応セル２５（後述する）か、反応セル２６
（後述する）のいずれかに案内される。前記経路２１の
途中には、レジスト剥離液の温度を測定するための温度
センサ１００（温度検出手段）が設けられている。この
温度センサ１００において検出された温度データ（ハ）
は、後述する演算手段１０３に供給される。
後、純水により押し出されたレジスト剥離液は経路２１
を通じて反応セル２５（後述する）か、反応セル２６
（後述する）のいずれかに案内される。前記経路２１の
途中には、レジスト剥離液の温度を測定するための温度
センサ１００（温度検出手段）が設けられている。この
温度センサ１００において検出された温度データ（ハ）
は、後述する演算手段１０３に供給される。
【００２１】また、前記経路２１は、三方電磁弁２４を
介して経路２２と経路２３とに分岐しており、最終的に
反応セル２５・２６に至っている。また、前記反応セル
２５・２６には、前記経路２２・２３により供給された
レジスト剥離液に対して、試薬を供給するための試薬供
給系２７〜２９と、前記反応セル２５・２６内の溶液の
電位を測定するための電極３０・３１とがそれぞれ設け
られている。前記試薬供給系２７〜２９は、フラスコ２
７Ａ〜２９Ａに貯留された各試薬を、滴定ポンプ２７Ｂ
〜２９Ｂにより経路２７Ｃ〜２９Ｃを経由させて、前記
反応セル２５・２６に少量ずつ供給するものであり、前
記電極３０・３１は、試薬を滴下した場合におけるレジ
スト剥離液の電位をそれぞれ検出するものであって、こ
れら電位の変化からレジスト剥離液の硫酸、過酸化水
素、オゾン濃度が算出できるようになっている。つま
り、後述する演算手段１０３において、電位が飛躍した
点を反応の終点として、この反応の終点における試薬の
滴下量（この滴下量を示す検出データ（イ）は滴定ポン
プ２７Ｂ〜２９Ｂからそれぞれ出力される。また、電位
を示す検出データ（ロ）は電極３０・３１からそれぞれ
出力される）から、前記レジスト剥離液の有効成分濃度
がそれぞれ算出されるようになっている。
介して経路２２と経路２３とに分岐しており、最終的に
反応セル２５・２６に至っている。また、前記反応セル
２５・２６には、前記経路２２・２３により供給された
レジスト剥離液に対して、試薬を供給するための試薬供
給系２７〜２９と、前記反応セル２５・２６内の溶液の
電位を測定するための電極３０・３１とがそれぞれ設け
られている。前記試薬供給系２７〜２９は、フラスコ２
７Ａ〜２９Ａに貯留された各試薬を、滴定ポンプ２７Ｂ
〜２９Ｂにより経路２７Ｃ〜２９Ｃを経由させて、前記
反応セル２５・２６に少量ずつ供給するものであり、前
記電極３０・３１は、試薬を滴下した場合におけるレジ
スト剥離液の電位をそれぞれ検出するものであって、こ
れら電位の変化からレジスト剥離液の硫酸、過酸化水
素、オゾン濃度が算出できるようになっている。つま
り、後述する演算手段１０３において、電位が飛躍した
点を反応の終点として、この反応の終点における試薬の
滴下量（この滴下量を示す検出データ（イ）は滴定ポン
プ２７Ｂ〜２９Ｂからそれぞれ出力される。また、電位
を示す検出データ（ロ）は電極３０・３１からそれぞれ
出力される）から、前記レジスト剥離液の有効成分濃度
がそれぞれ算出されるようになっている。
【００２２】また、前記フラスコ２７Ａ〜２９Ａに貯留
される試薬としては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標
準液、過マンガン酸カリウム溶液等の酸化還元反応を起
こす標準液等が適当である。一方、反応セル２５・２６
の下部には、測定が終了する毎に該反応セル２５・２６
内のレジスト剥離液を排出するための経路３２〜３４が
設けられ、これら経路３２〜３４の途中には、フィルタ
３５・３６、反応セル２５・２６からの溶液の排出動作
を行うための二方電磁弁３７・３８、排液ポンプ３９が
順次設けられている。そして、前記経路３２〜３４を通
じて排出された溶液は、前述したドレンタンク９内に送
られるようになっている。
される試薬としては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標
準液、過マンガン酸カリウム溶液等の酸化還元反応を起
こす標準液等が適当である。一方、反応セル２５・２６
の下部には、測定が終了する毎に該反応セル２５・２６
内のレジスト剥離液を排出するための経路３２〜３４が
設けられ、これら経路３２〜３４の途中には、フィルタ
３５・３６、反応セル２５・２６からの溶液の排出動作
を行うための二方電磁弁３７・３８、排液ポンプ３９が
順次設けられている。そして、前記経路３２〜３４を通
じて排出された溶液は、前述したドレンタンク９内に送
られるようになっている。
【００２３】なお、図４に示す自動液管理装置の系統図
において、符号１０１の範囲で示すものは図１のサンプ
リングポンプ５１に相当するサンプリング手段であり、
符号１０２で示す範囲のものは図１の定量手段５３に相
当する定量手段である。また、符号１０３で示すもの
は、図１の演算手段５５に相当する演算手段である。前
記演算手段１０３には、定量手段１０２の滴下ポンプ２
７Ｂ〜２９Ｂから出力された試薬の滴下量を示す検出デ
ータ（イ）と、電極３０・３１から出力された電位を示
す検出データ（ロ）とがそれぞれ入力されるようになっ
ており、この演算手段１０３において、電位が飛躍した
点を反応の終点として、この反応の終点における試薬の
滴下量から、前記レジスト剥離液の有効成分濃度（Ｄ
1 ）がそれぞれ算出される。また、この演算手段１０３
には、温度センサ１００において検出されたレジスト剥
離液の温度データ（ハ）（＝Ｔ1） が入力されるように
なっており、この演算手段１０３において、前記レジス
ト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1 ）は、前記温度データ
（ハ）（＝Ｔ1） と、入力手段１０４において予め入力
された、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係
を示す基準データ（ライン（１）も傾き（＝ａ））とに
基づき補正されるようになっている。
において、符号１０１の範囲で示すものは図１のサンプ
リングポンプ５１に相当するサンプリング手段であり、
符号１０２で示す範囲のものは図１の定量手段５３に相
当する定量手段である。また、符号１０３で示すもの
は、図１の演算手段５５に相当する演算手段である。前
記演算手段１０３には、定量手段１０２の滴下ポンプ２
７Ｂ〜２９Ｂから出力された試薬の滴下量を示す検出デ
ータ（イ）と、電極３０・３１から出力された電位を示
す検出データ（ロ）とがそれぞれ入力されるようになっ
ており、この演算手段１０３において、電位が飛躍した
点を反応の終点として、この反応の終点における試薬の
滴下量から、前記レジスト剥離液の有効成分濃度（Ｄ
1 ）がそれぞれ算出される。また、この演算手段１０３
には、温度センサ１００において検出されたレジスト剥
離液の温度データ（ハ）（＝Ｔ1） が入力されるように
なっており、この演算手段１０３において、前記レジス
ト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1 ）は、前記温度データ
（ハ）（＝Ｔ1） と、入力手段１０４において予め入力
された、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係
を示す基準データ（ライン（１）も傾き（＝ａ））とに
基づき補正されるようになっている。
【００２４】具体的には、図２及び図３を参照して説明
したように、前記演算手段１０３において、定量手段１
０２の定量値である有効成分量（検出データ（イ）
（ロ））から計算された、温度がＴ1 （温度データ
（ハ））の場合のレジスト剥離液の有効成分濃度
（Ｄ1）から、温度が安定領域を示すＴ2の場合の有効成
分濃度（Ｄ2）を求める。すなわち、Ｔ1とＤ1で特定さ
れるプロット（ｍ1） を通り、かつ（１）と同じ傾き
（＝ａ）のライン（２）を求め（一点鎖線で示す）、こ
のライン（２）に基づき、温度が安定領域を示すＴ2で
ある場合（プロットｍ2で示す）の有効成分濃度Ｄ2 を
求めるようにする。これにより、前記有効成分濃度（Ｄ
1）を温度（Ｔ1）に応じて補正した、すなわち温度の影
響を排除した有効成分濃度（Ｄ2） を得ることができ、
その結果、第１実施例と同様、室温の変動に拘らずレジ
スト剥離液の有効成分の濃度を正確に測定できる効果が
得られるものである。
したように、前記演算手段１０３において、定量手段１
０２の定量値である有効成分量（検出データ（イ）
（ロ））から計算された、温度がＴ1 （温度データ
（ハ））の場合のレジスト剥離液の有効成分濃度
（Ｄ1）から、温度が安定領域を示すＴ2の場合の有効成
分濃度（Ｄ2）を求める。すなわち、Ｔ1とＤ1で特定さ
れるプロット（ｍ1） を通り、かつ（１）と同じ傾き
（＝ａ）のライン（２）を求め（一点鎖線で示す）、こ
のライン（２）に基づき、温度が安定領域を示すＴ2で
ある場合（プロットｍ2で示す）の有効成分濃度Ｄ2 を
求めるようにする。これにより、前記有効成分濃度（Ｄ
1）を温度（Ｔ1）に応じて補正した、すなわち温度の影
響を排除した有効成分濃度（Ｄ2） を得ることができ、
その結果、第１実施例と同様、室温の変動に拘らずレジ
スト剥離液の有効成分の濃度を正確に測定できる効果が
得られるものである。
【００２５】なお、この演算手段１０３で演算されたレ
ジスト剥離液の有効成分の濃度、及びレジスト剥離液の
劣化度は、ＣＲＴあるいはプリンタに出力される。ま
た、符号１１０で示す制御手段からは、図示していない
が、サンプリング手段１０１の六方電磁弁５、三方電磁
弁１２、二方電磁弁１６、ポンプ１８等を駆動するため
の駆動信号、及び定量手段１０２の三方電磁弁２４、滴
定ポンプ２７Ｂ〜２９Ｂ、二方電磁弁３７・３８、排液
ポンプ３９を駆動するための駆動信号がそれぞれ出力さ
れている。
ジスト剥離液の有効成分の濃度、及びレジスト剥離液の
劣化度は、ＣＲＴあるいはプリンタに出力される。ま
た、符号１１０で示す制御手段からは、図示していない
が、サンプリング手段１０１の六方電磁弁５、三方電磁
弁１２、二方電磁弁１６、ポンプ１８等を駆動するため
の駆動信号、及び定量手段１０２の三方電磁弁２４、滴
定ポンプ２７Ｂ〜２９Ｂ、二方電磁弁３７・３８、排液
ポンプ３９を駆動するための駆動信号がそれぞれ出力さ
れている。
【００２６】次に、本発明の第３実施例を図５を参照し
て説明する。図５において符号６０で示すものは、レジ
スト剥離液をサンプリングし、該サンプリングしたレジ
スト剥離液を経路６１を通じて輸送するためのサンプリ
ングポンプ（サンプリング手段）である。符号６２で示
すものは、サンプリングしたレジスト剥離液の温度を検
出するための温度センサ（温度検出手段）であって、こ
の温度センサ６２において検出された温度データ（ホ）
は、後述する演算手段８１に供給されるようになってい
る。また、符号６３で示すものは、レジスト剥離液の有
効成分量を検出する定量手段としての吸光度検出手段で
ある。なお、前記レジスト剥離液の有効成分としては、
第１、第２実施例のレジスト剥離液と同様に、硫酸（Ｈ
2ＳＯ4）及び過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）、あるいは硫酸（Ｈ
2ＳＯ4）及びオゾン（Ｏ3 ）等がある。
て説明する。図５において符号６０で示すものは、レジ
スト剥離液をサンプリングし、該サンプリングしたレジ
スト剥離液を経路６１を通じて輸送するためのサンプリ
ングポンプ（サンプリング手段）である。符号６２で示
すものは、サンプリングしたレジスト剥離液の温度を検
出するための温度センサ（温度検出手段）であって、こ
の温度センサ６２において検出された温度データ（ホ）
は、後述する演算手段８１に供給されるようになってい
る。また、符号６３で示すものは、レジスト剥離液の有
効成分量を検出する定量手段としての吸光度検出手段で
ある。なお、前記レジスト剥離液の有効成分としては、
第１、第２実施例のレジスト剥離液と同様に、硫酸（Ｈ
2ＳＯ4）及び過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）、あるいは硫酸（Ｈ
2ＳＯ4）及びオゾン（Ｏ3 ）等がある。
【００２７】前記吸光度検出手段６３は、光源６４と、
前記経路６１を通じて送られたレジスト剥離液が流通す
るとともに、このレジスト剥離液中に前記光源６４から
の光が照射されるフローセル６５と、フローセル６５を
経由した光の中で、特定波長の光のみを取り出す干渉フ
ィルタ６６と、該干渉フィルタ６６を経由した光の強度
を測定するための光センサ６７とを具備するものであっ
て、この光センサ６７において測定された、レジスト剥
離液の有効成分量を示す検出データ（ニ）は、演算手段
８１（後述する）に供給されるようになっている。な
お、図５において、符号６８Ａ〜６８Ｃで示すものは、
光源６４から出力された光を屈曲させるための反射板で
あり、符号８２で示すものはサンプリングポンプ６０及
び光源６４を駆動するための駆動手段である。また、符
号８３で示すものは、演算手段８１に対して基準データ
を供給するための入力手段である（後述する）。
前記経路６１を通じて送られたレジスト剥離液が流通す
るとともに、このレジスト剥離液中に前記光源６４から
の光が照射されるフローセル６５と、フローセル６５を
経由した光の中で、特定波長の光のみを取り出す干渉フ
ィルタ６６と、該干渉フィルタ６６を経由した光の強度
を測定するための光センサ６７とを具備するものであっ
て、この光センサ６７において測定された、レジスト剥
離液の有効成分量を示す検出データ（ニ）は、演算手段
８１（後述する）に供給されるようになっている。な
お、図５において、符号６８Ａ〜６８Ｃで示すものは、
光源６４から出力された光を屈曲させるための反射板で
あり、符号８２で示すものはサンプリングポンプ６０及
び光源６４を駆動するための駆動手段である。また、符
号８３で示すものは、演算手段８１に対して基準データ
を供給するための入力手段である（後述する）。
【００２８】次に、演算手段８１について説明する。前
記演算手段８１には、光センサ６７において検出された
光の強度を示し、かつレジスト剥離液の有効成分量を示
す検出データ（ニ）が入力されるようになっており、こ
の検出データ（ニ）を予め記憶させておいた基準データ
と比較することにより、該レジスト剥離液の吸光度を検
出し、この検出結果からレジスト剥離液の有効成分濃度
（Ｄ1 ）を検出するようにしている。また、この演算手
段８１には、温度センサ６２において検出されたレジス
ト剥離液の温度データ（ホ）（＝Ｔ1） が入力されるよ
うになっており、この演算手段８１において、前記レジ
スト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1 ）は、前記温度データ
（ホ）（＝Ｔ1） と、入力手段８３において予め入力さ
れた、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係を
示す基準データ（ライン（１）の傾き（＝ａ）：図３参
照）とに基づき補正されるようになっている。
記演算手段８１には、光センサ６７において検出された
光の強度を示し、かつレジスト剥離液の有効成分量を示
す検出データ（ニ）が入力されるようになっており、こ
の検出データ（ニ）を予め記憶させておいた基準データ
と比較することにより、該レジスト剥離液の吸光度を検
出し、この検出結果からレジスト剥離液の有効成分濃度
（Ｄ1 ）を検出するようにしている。また、この演算手
段８１には、温度センサ６２において検出されたレジス
ト剥離液の温度データ（ホ）（＝Ｔ1） が入力されるよ
うになっており、この演算手段８１において、前記レジ
スト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1 ）は、前記温度データ
（ホ）（＝Ｔ1） と、入力手段８３において予め入力さ
れた、温度とレジスト剥離液の有効成分濃度との関係を
示す基準データ（ライン（１）の傾き（＝ａ）：図３参
照）とに基づき補正されるようになっている。
【００２９】具体的には、図２及び図３を参照して説明
したように、前記演算手段８１では、吸光度検出手段６
３の定量値である有効成分量（検出データ（ニ））から
計算された、温度がＴ1 （温度データ（ホ））の場合の
レジスト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1） から、温度が安
定領域を示すＴ2 の場合の有効成分濃度（Ｄ2）を求め
る。すなわち、Ｔ1とＤ1で特定されるプロット（ｍ1）
を通り、かつ（１）と同じ傾き（＝ａ）のライン（２）
を求め（一点鎖線で示す）、このライン（２）に基づ
き、温度が安定領域を示すＴ2である場合（プロットｍ2
で示す）の有効成分濃度Ｄ2 を求めるようにする。これ
により、前記有効成分濃度（Ｄ1）を温度（Ｔ1）に応じ
て補正した、すなわち温度の影響を排除した有効成分濃
度（Ｄ2） を得ることができ、その結果、室温の変動に
拘らずレジスト剥離液の有効成分濃度を正確に測定でき
る効果が得られるものである。
したように、前記演算手段８１では、吸光度検出手段６
３の定量値である有効成分量（検出データ（ニ））から
計算された、温度がＴ1 （温度データ（ホ））の場合の
レジスト剥離液の有効成分濃度（Ｄ1） から、温度が安
定領域を示すＴ2 の場合の有効成分濃度（Ｄ2）を求め
る。すなわち、Ｔ1とＤ1で特定されるプロット（ｍ1）
を通り、かつ（１）と同じ傾き（＝ａ）のライン（２）
を求め（一点鎖線で示す）、このライン（２）に基づ
き、温度が安定領域を示すＴ2である場合（プロットｍ2
で示す）の有効成分濃度Ｄ2 を求めるようにする。これ
により、前記有効成分濃度（Ｄ1）を温度（Ｔ1）に応じ
て補正した、すなわち温度の影響を排除した有効成分濃
度（Ｄ2） を得ることができ、その結果、室温の変動に
拘らずレジスト剥離液の有効成分濃度を正確に測定でき
る効果が得られるものである。
【００３０】
【発明の効果】以上の説明から明かなように、第１〜第
３の発明として示される自動液管理装置では、予め入力
されている、温度と処理液の有効成分濃度との関係を示
す基準データと、温度検出手段から出力された温度デー
タとに基づき、処理液の有効成分濃度を補正するように
したので、該処理液の温度が、有効成分の安定した測定
ができない温度領域、例えば６５℃以下である場合に、
この温度で測定した有効成分濃度を、前記基準データに
基づき、該処理液を６５℃以上で測定したときの測定値
と同じ値となるように補正することができ、これによっ
て室温の変動に拘らず処理液の有効成分の濃度を正確に
測定できる効果が得られる。第４の発明として示される
自動液管理装置では、予め入力されている、温度と処理
液の有効成分濃度との関係を示す基準データと、温度検
出手段から出力された温度データとに基づき、吸光度に
基づき演算された処理液の有効成分濃度を補正するよう
にしたので、第１〜第３の発明と同様に、該処理液の温
度が、有効成分の安定した測定ができない温度領域、例
えば６５℃以下である場合に、この温度で測定した有効
成分濃度を、前記基準データに基づき、該処理液を６５
℃以上で測定したときの測定値と同じ値となるように補
正することができ、これによってこれによって室温の変
動に拘らず処理液の有効成分の濃度を正確に測定できる
効果が得られる。
３の発明として示される自動液管理装置では、予め入力
されている、温度と処理液の有効成分濃度との関係を示
す基準データと、温度検出手段から出力された温度デー
タとに基づき、処理液の有効成分濃度を補正するように
したので、該処理液の温度が、有効成分の安定した測定
ができない温度領域、例えば６５℃以下である場合に、
この温度で測定した有効成分濃度を、前記基準データに
基づき、該処理液を６５℃以上で測定したときの測定値
と同じ値となるように補正することができ、これによっ
て室温の変動に拘らず処理液の有効成分の濃度を正確に
測定できる効果が得られる。第４の発明として示される
自動液管理装置では、予め入力されている、温度と処理
液の有効成分濃度との関係を示す基準データと、温度検
出手段から出力された温度データとに基づき、吸光度に
基づき演算された処理液の有効成分濃度を補正するよう
にしたので、第１〜第３の発明と同様に、該処理液の温
度が、有効成分の安定した測定ができない温度領域、例
えば６５℃以下である場合に、この温度で測定した有効
成分濃度を、前記基準データに基づき、該処理液を６５
℃以上で測定したときの測定値と同じ値となるように補
正することができ、これによってこれによって室温の変
動に拘らず処理液の有効成分の濃度を正確に測定できる
効果が得られる。
【図１】本発明の第１実施例を示す自動液管理装置の全
体概略構成図。
体概略構成図。
【図２】レジスト剥離液の有効成分である過酸化水素の
測定濃度と、温度との関係を示したグラフ。
測定濃度と、温度との関係を示したグラフ。
【図３】レジスト剥離液の有効成分（過酸化水素）濃度
を補正する例を示すグラフ。
を補正する例を示すグラフ。
【図４】本発明の第２実施例を示す自動液管理装置の全
体概略構成図。
体概略構成図。
【図５】本発明の第３実施例を示す自動液管理装置の全
体概略構成図。
体概略構成図。
５１ サンプリングポンプ（サンプリング手段） ５３Ａ 温度センサ（温度検出手段） ５３ 定量手段 ５５ 演算手段 ６０ サンプリングポンプ（サンプリング手段） ６２ 温度センサ（温度検出手段） ６３ 吸光度検出手段 ８１ 演算手段 １００ 温度センサ（温度検出手段） １０１ サンプリング手段 １０２ 定量手段 １０３ 演算手段
Claims (4)
- 【請求項１】 処理液をサンプリングするサンプリング
手段と、サンプリングされた処理液の有効成分の量を検
出する定量手段と、この定量手段から出力された検出デ
ータに基づき処理液の有効成分の濃度を演算する演算手
段とを有する自動液管理装置において、 前記定量手段には、サンプリングされた処理液の温度を
測定するための温度検出手段が設けられてなり、 前記演算手段は、予め入力されている、温度と処理液の
有効成分濃度との関係を示す基準データと、前記温度検
出手段から出力された温度データとに基づき、前記処理
液の有効成分濃度を補正することを特徴とする自動液管
理装置。 - 【請求項２】 前記演算手段は、係数化した基準データ
を、定量手段の検出データに基づき演算された処理液の
有効成分濃度に乗じることにより、前記処理液の有効成
分濃度を補正することを特徴とする請求項１記載の自動
液管理装置。 - 【請求項３】 前記サンプリング手段によりサンプリン
グされる処理液は、有効成分としてＨ2ＳＯ4及びＨ2Ｏ2
を含むものである、あるいは、Ｈ2ＳＯ4及びＯ3 を含む
ものであることを特徴とする請求項１記載の自動液管理
装置。 - 【請求項４】 処理液をサンプリングするサンプリング
手段と、サンプリングされた処理液の吸光度を検出する
吸光度検出手段と、この吸光度検出手段から出力された
検出データに基づき処理液の有効成分の濃度を演算する
演算手段と、前記吸光度検出手段に設けられて、サンプ
リングされた処理液の温度を測定するための温度検出手
段とを具備してなり、 前記演算手段は、予め入力されている、温度と処理液の
有効成分濃度との関係を示す基準データと、前記温度検
出手段から出力された温度データとに基づき、前記処理
液の有効成分濃度を補正することを特徴とする自動液管
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3131459A JPH05136043A (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 自動液管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3131459A JPH05136043A (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 自動液管理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05136043A true JPH05136043A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=15058456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3131459A Pending JPH05136043A (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 自動液管理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05136043A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014096462A (ja) * | 2012-11-08 | 2014-05-22 | Panasonic Corp | フォトレジスト濃度測定装置および測定方法 |
-
1991
- 1991-06-03 JP JP3131459A patent/JPH05136043A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014096462A (ja) * | 2012-11-08 | 2014-05-22 | Panasonic Corp | フォトレジスト濃度測定装置および測定方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000523 |