JPH05139788A - 感光性ガラスの露光方法 - Google Patents
感光性ガラスの露光方法Info
- Publication number
- JPH05139788A JPH05139788A JP3303444A JP30344491A JPH05139788A JP H05139788 A JPH05139788 A JP H05139788A JP 3303444 A JP3303444 A JP 3303444A JP 30344491 A JP30344491 A JP 30344491A JP H05139788 A JPH05139788 A JP H05139788A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive glass
- exposing
- glass plate
- exposure
- transmittance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 13
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 17
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/04—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 最適の露光状態を容易に実現し、感光性ガラ
スの加工の歩留りを向上させる。 【構成】 感光性ガラス板10の上方に、感光性ガラスの
感度波長域240 〜340nmをその発振波長に含む高圧水銀
ランプを光源１として配置し、光源からの光１ａを露光
マスク２を介して感光性ガラス板の表面10ａに照射す
る。露光マスク２には露光パターン２ａと遮光部２ｂと
が形成してあり、感光性ガラス板10を挾んで露光パター
ン２ａの１つと対向する位置に、透過率を測定する手段
であるフォトセンサ３が配設してある。光源１から光１
ａを照射して感光性ガラス板10を露光しながら、感光性
ガラス板10を透過した光をフォトセンサ３で受け、フォ
トセンサ３の出力変化によって透過率を測定していく。
所望の透過率になった時が所望の露光状態であるので、
そこで露光を停止する。この露光により最適の露光状態
の露光部11が安定して形成される。
スの加工の歩留りを向上させる。 【構成】 感光性ガラス板10の上方に、感光性ガラスの
感度波長域240 〜340nmをその発振波長に含む高圧水銀
ランプを光源１として配置し、光源からの光１ａを露光
マスク２を介して感光性ガラス板の表面10ａに照射す
る。露光マスク２には露光パターン２ａと遮光部２ｂと
が形成してあり、感光性ガラス板10を挾んで露光パター
ン２ａの１つと対向する位置に、透過率を測定する手段
であるフォトセンサ３が配設してある。光源１から光１
ａを照射して感光性ガラス板10を露光しながら、感光性
ガラス板10を透過した光をフォトセンサ３で受け、フォ
トセンサ３の出力変化によって透過率を測定していく。
所望の透過率になった時が所望の露光状態であるので、
そこで露光を停止する。この露光により最適の露光状態
の露光部11が安定して形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性ガラスの露光方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、感光性ガラスにエッチングにより
加工を施し、インクジェットプリンタヘッドなど微細な
形状を形成する方法がある。この方法は、紫外線ランプ
の照射により感光性ガラスの所望の部分を露光し（露光
工程）、感光性ガラスを５００〜７００℃に加熱して露
光部を結晶化させ（熱現像工程）、結晶化した露光部を
エッチング液（フッ化水素酸溶液）により溶解させて除
去する（エッチング工程）方法である。なお、紫外線ラ
ンプとしては、高圧水銀ランプなどが用いられている。
加工を施し、インクジェットプリンタヘッドなど微細な
形状を形成する方法がある。この方法は、紫外線ランプ
の照射により感光性ガラスの所望の部分を露光し（露光
工程）、感光性ガラスを５００〜７００℃に加熱して露
光部を結晶化させ（熱現像工程）、結晶化した露光部を
エッチング液（フッ化水素酸溶液）により溶解させて除
去する（エッチング工程）方法である。なお、紫外線ラ
ンプとしては、高圧水銀ランプなどが用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法では、感光
性ガラス板を露光し熱現像して形成した結晶部をエッチ
ングして、溝などを加工する時のエッチング深さの制御
は、エッチング時間やエッチング液の温度や濃度などエ
ッチング条件で行っていた。そして結晶部をエッチング
するときのエッチング速度は、エッチング条件だけでな
く、熱現像によって形成された結晶の状態で左右され
る。そしてこの結晶部の結晶の状態は、露光状態と熱現
像によって決定する。
性ガラス板を露光し熱現像して形成した結晶部をエッチ
ングして、溝などを加工する時のエッチング深さの制御
は、エッチング時間やエッチング液の温度や濃度などエ
ッチング条件で行っていた。そして結晶部をエッチング
するときのエッチング速度は、エッチング条件だけでな
く、熱現像によって形成された結晶の状態で左右され
る。そしてこの結晶部の結晶の状態は、露光状態と熱現
像によって決定する。
【０００４】特に露光は、感光性ガラスのロットによる
露光感度の変動や、光源の発光強度や、発光波長変動に
よる影響を受け、適切な露光状態であったかどうかは、
熱現像後の結晶の状態を見て初めて判るのが現状であっ
た。しかも、結晶部を目で見て、その色や濃度や板厚を
貫通しているか否か等から判断しているが、この目によ
る判断によって最適の露光状態を判断することは不可能
であり、露光状態を判断しながら露光できないから、こ
のために感光性ガラスの加工の歩留りを悪くしていた。
露光感度の変動や、光源の発光強度や、発光波長変動に
よる影響を受け、適切な露光状態であったかどうかは、
熱現像後の結晶の状態を見て初めて判るのが現状であっ
た。しかも、結晶部を目で見て、その色や濃度や板厚を
貫通しているか否か等から判断しているが、この目によ
る判断によって最適の露光状態を判断することは不可能
であり、露光状態を判断しながら露光できないから、こ
のために感光性ガラスの加工の歩留りを悪くしていた。
【０００５】そこで本発明の目的は、感光性ガラスの露
光に際して、熱現像を待たないで、しかも目に頼らない
で最適の露光状態を容易に実現し、感光性ガラスの加工
の歩留りを向上させることにある。
光に際して、熱現像を待たないで、しかも目に頼らない
で最適の露光状態を容易に実現し、感光性ガラスの加工
の歩留りを向上させることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の感光性ガラスの加工方法は、感光性ガラス
の感度波長域を含む発振波長を持つ光源で感光性ガラス
板を露光し、上記の露光は、露光した光が感光性ガラス
板を透過する透過率を測定しながら行い、所定の露光状
態に対応する透過率が得られた時に露光を停止すること
を特徴としている。
に、本発明の感光性ガラスの加工方法は、感光性ガラス
の感度波長域を含む発振波長を持つ光源で感光性ガラス
板を露光し、上記の露光は、露光した光が感光性ガラス
板を透過する透過率を測定しながら行い、所定の露光状
態に対応する透過率が得られた時に露光を停止すること
を特徴としている。
【０００７】上記の光源は、レーザー、特にＸｅＣｌエ
キシマレーザーが望ましい。
キシマレーザーが望ましい。
【０００８】本発明者は、感光性ガラスを、感光性ガラ
スの感度波長域を含む発振波長を持つ光源で露光する
と、その透過分光特性が変化すること、及び所定の透過
率では所定の露光状態が得られることを発見した。
スの感度波長域を含む発振波長を持つ光源で露光する
と、その透過分光特性が変化すること、及び所定の透過
率では所定の露光状態が得られることを発見した。
【０００９】図４に示す実験データでは、露光装置とし
て、キャノン製マスクアライナである「キャノンＰＬ
Ａ」（製品名）を用い、出力２５０ｗの高圧水銀灯で露
光を行った。露光する感光性ガラスとして、板厚ｔ＝
１．６mmのものを用いた。感光性ガラスの感度波長域３
００〜３２０nmを含むように、光源の発振波長を２００
nmから７００nmまで変化させ、露光時間を５分，１０
分，３０分，１時間，２時間，３時間，４時間，６時間
としてそれぞれ透過率（％）を測定した。このデータか
ら発振波長が２４０〜３４０nmの波長域で透過率の変化
が大きいことが判る。また２時間から３時間の露光時間
で、透過率約２５〜２０％となった時が、極めてエッチ
ングされやすい結晶部が形成でき、具体的にはエッチン
グ速度１０〜１９μm ／min の結晶部が形成でき、最適
の露光状態であることが判った。
て、キャノン製マスクアライナである「キャノンＰＬ
Ａ」（製品名）を用い、出力２５０ｗの高圧水銀灯で露
光を行った。露光する感光性ガラスとして、板厚ｔ＝
１．６mmのものを用いた。感光性ガラスの感度波長域３
００〜３２０nmを含むように、光源の発振波長を２００
nmから７００nmまで変化させ、露光時間を５分，１０
分，３０分，１時間，２時間，３時間，４時間，６時間
としてそれぞれ透過率（％）を測定した。このデータか
ら発振波長が２４０〜３４０nmの波長域で透過率の変化
が大きいことが判る。また２時間から３時間の露光時間
で、透過率約２５〜２０％となった時が、極めてエッチ
ングされやすい結晶部が形成でき、具体的にはエッチン
グ速度１０〜１９μm ／min の結晶部が形成でき、最適
の露光状態であることが判った。
【００１０】このことから、上記の波長域での透過率を
測定すれば、露光状態が判明することが明らかとなっ
た。
測定すれば、露光状態が判明することが明らかとなっ
た。
【００１１】光源としては、高圧水銀ランプの他にも、
ＸｅＣｌエキシマレーザーやＫｒＦエキシマレーザーが
使用できる。
ＸｅＣｌエキシマレーザーやＫｒＦエキシマレーザーが
使用できる。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照し、インクジェットプリン
タヘッドのインク流路を形成する本発明の実施例につい
て説明する。図１に示すように、露光工程では、板厚１
mmの感光性ガラス板１０の表面１０ａを研磨し、上方に
光源１を配置して、光源からの光１ａを露光マスク２を
介して感光性ガラス板の表面１０ａに照射する。露光マ
スク２には感光性ガラス板１０の表面に形成されるイン
ク流路となる溝などの形状の露光パターン２ａ…と、そ
の他の部分に遮光部２ｂ…とが形成してある。感光性ガ
ラス板１０を挾んで露光パターン２ａの１つと対向する
位置に、透過率を測定する手段であるフォトセンサ３が
配設してある。
タヘッドのインク流路を形成する本発明の実施例につい
て説明する。図１に示すように、露光工程では、板厚１
mmの感光性ガラス板１０の表面１０ａを研磨し、上方に
光源１を配置して、光源からの光１ａを露光マスク２を
介して感光性ガラス板の表面１０ａに照射する。露光マ
スク２には感光性ガラス板１０の表面に形成されるイン
ク流路となる溝などの形状の露光パターン２ａ…と、そ
の他の部分に遮光部２ｂ…とが形成してある。感光性ガ
ラス板１０を挾んで露光パターン２ａの１つと対向する
位置に、透過率を測定する手段であるフォトセンサ３が
配設してある。
【００１３】使用される光源１としては、感光性ガラス
の感度波長域２４０〜３４０nmをその発振波長に含む高
圧水銀ランプを使用し、２４０〜３４０nmの発振波長域
を用いる。またフォトセンサ３としては、感光性ガラス
の透過分光特性が変化する範囲の透過率を測定できるも
のであれば良く、ＧａＰ，ＧａＡｓＰなどのフォトダイ
オード等が好適である。
の感度波長域２４０〜３４０nmをその発振波長に含む高
圧水銀ランプを使用し、２４０〜３４０nmの発振波長域
を用いる。またフォトセンサ３としては、感光性ガラス
の透過分光特性が変化する範囲の透過率を測定できるも
のであれば良く、ＧａＰ，ＧａＡｓＰなどのフォトダイ
オード等が好適である。
【００１４】光源１からの光１ａを照射して感光性ガラ
ス板１０を露光しながら、感光性ガラス板１０を透過し
た光をフォトセンサ３で受け、フォトセンサ３の出力変
化によって透過率を測定してゆく。最適の露光状態とし
て、この例ではエッチング速度約１０μm ／min の結晶
部を得るために、約２時間露光して透過率が約２５％に
なった時に露光を停止した。この露光により露光部１１
…が形成される。
ス板１０を露光しながら、感光性ガラス板１０を透過し
た光をフォトセンサ３で受け、フォトセンサ３の出力変
化によって透過率を測定してゆく。最適の露光状態とし
て、この例ではエッチング速度約１０μm ／min の結晶
部を得るために、約２時間露光して透過率が約２５％に
なった時に露光を停止した。この露光により露光部１１
…が形成される。
【００１５】図２に示すように、感光性ガラス板１０を
５００〜７００℃程度の高温に加熱し、露光部１１…を
結晶化する熱現像を行って、結晶部１１ａ…を形成す
る。
５００〜７００℃程度の高温に加熱し、露光部１１…を
結晶化する熱現像を行って、結晶部１１ａ…を形成す
る。
【００１６】次に図３に示すように、この感光性ガラス
板１０にフッ化水素酸（ＨＦ）６％溶液を２５℃の液温
に保ったエッチング液を用いて、シャワー圧力３kgｆ／
cm2で１０分間エッチングを行ったところ、感光性ガラ
ス板１０の両面に、エッチング深さが１００μm の溝部
１２…が形成できた。即ち、上記の露光，現像により形
成された結晶部１１ａは、エッチング速度が約１０μm
／min であり、最適の露光状態であった。この溝部１２
をインク流路としてインクジェットプリンタヘッドを構
成する。
板１０にフッ化水素酸（ＨＦ）６％溶液を２５℃の液温
に保ったエッチング液を用いて、シャワー圧力３kgｆ／
cm2で１０分間エッチングを行ったところ、感光性ガラ
ス板１０の両面に、エッチング深さが１００μm の溝部
１２…が形成できた。即ち、上記の露光，現像により形
成された結晶部１１ａは、エッチング速度が約１０μm
／min であり、最適の露光状態であった。この溝部１２
をインク流路としてインクジェットプリンタヘッドを構
成する。
【００１７】上記実施例においては、光源として高圧水
銀ランプを用いているが、その他にもＸｅＦ（発振波長
３５１nm），ＸｅＣｌ（発振波長３０８nm），ＫｒＦ
（発振波長２４８nm），ＡｒＦ（発振波長１９３nm）エ
キシマレーザーまたはＮ2 レーザー（発振波長３３７n
m）を用いてもよく、またＮｄ +とＹＡＧ（イットリウ
ム・アルミニウム・ガーネット）とを混合したレーザ
ー，色素レーザー，Ｋｒイオンレーザー，Ａｒイオンレ
ーザーまたは銅蒸気レーザーの基本発振波長光を非線形
光学素子などにより紫外域に変換したレーザーを用いて
もよく、またエキシマランプを用いてもよい。
銀ランプを用いているが、その他にもＸｅＦ（発振波長
３５１nm），ＸｅＣｌ（発振波長３０８nm），ＫｒＦ
（発振波長２４８nm），ＡｒＦ（発振波長１９３nm）エ
キシマレーザーまたはＮ2 レーザー（発振波長３３７n
m）を用いてもよく、またＮｄ +とＹＡＧ（イットリウ
ム・アルミニウム・ガーネット）とを混合したレーザ
ー，色素レーザー，Ｋｒイオンレーザー，Ａｒイオンレ
ーザーまたは銅蒸気レーザーの基本発振波長光を非線形
光学素子などにより紫外域に変換したレーザーを用いて
もよく、またエキシマランプを用いてもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明では、感
光性ガラスの感度波長域を含む発振波長を持つ光源で感
光性ガラスを露光し、露光した光が感光性ガラスを透過
する透過率を測定しながら露光を行い、所望の透過率が
得られた時に露光を停止するので、常に最適の露光状態
を実現でき、その後の熱現像，エッチングにより溝が形
成された際には、常に均一な形状となり、歩留りが向上
する。したがってインクジェットプリンタヘッドのイン
ク流路やマイクロマシーン等の微細加工の応用分野にお
いて極めて有効である。
光性ガラスの感度波長域を含む発振波長を持つ光源で感
光性ガラスを露光し、露光した光が感光性ガラスを透過
する透過率を測定しながら露光を行い、所望の透過率が
得られた時に露光を停止するので、常に最適の露光状態
を実現でき、その後の熱現像，エッチングにより溝が形
成された際には、常に均一な形状となり、歩留りが向上
する。したがってインクジェットプリンタヘッドのイン
ク流路やマイクロマシーン等の微細加工の応用分野にお
いて極めて有効である。
【図１】本発明の露光工程を示す正面図である。
【図２】同上の熱現像工程後の感光性ガラスの正面図で
ある。
ある。
【図３】同上のエッチング工程後の感光性ガラスの正面
図である。
図である。
【図４】感光性ガラスの露光による透過分光特性の変化
を示す特性図である。
を示す特性図である。
１ 光源 ３ 透過率を測定する手段 １０ 感光性ガラス板
Claims (3)
- 【請求項１】 感光性ガラスの感度波長域を含む発振波
長を持つ光源で感光性ガラス板を露光し、 上記露光は、露光した光が上記感光性ガラス板を透過す
る透過率を測定しながら行い、所定の露光状態に対応す
る透過率が得られた時に露光を停止することを特徴とす
る感光性ガラスの露光方法。 - 【請求項２】 請求項１において、上記光源は、レーザ
ーであることを特徴とする感光性ガラスの露光方法。 - 【請求項３】 請求項２において上記レーザーはＸｅｃ
ｌエキシマレーザーであることを特徴とする感光性ガラ
スの露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3303444A JP2873413B2 (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 感光性ガラスの露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3303444A JP2873413B2 (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 感光性ガラスの露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05139788A true JPH05139788A (ja) | 1993-06-08 |
| JP2873413B2 JP2873413B2 (ja) | 1999-03-24 |
Family
ID=17921071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3303444A Expired - Fee Related JP2873413B2 (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 感光性ガラスの露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2873413B2 (ja) |
-
1991
- 1991-11-19 JP JP3303444A patent/JP2873413B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2873413B2 (ja) | 1999-03-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5314522A (en) | Method of processing photosensitive glass with a pulsed laser to form grooves | |
| JPH05139787A (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP5371992B2 (ja) | レーザーエッチングを用いたガラスクリシェの製造方法及びそのためのレーザー照射装置 | |
| JPH08195357A (ja) | レーザー照射装置 | |
| JP2002028799A (ja) | レーザによる微細加工方法 | |
| JPH02204051A (ja) | インキジェットプリントヘッドのためエッチングによって作られた加工部を有する基板の製造方法 | |
| JP4849890B2 (ja) | 貫通孔を有するガラス部品およびその製造方法 | |
| KR101165084B1 (ko) | 레이저빔을 이용한 감광성 유리 기판의 미세패턴 형성방법 | |
| JP2873412B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| US4390391A (en) | Method of exposure of chemically machineable light-sensitive glass | |
| US6008467A (en) | Laser processing method to an optical waveguide | |
| JP2873413B2 (ja) | 感光性ガラスの露光方法 | |
| JP3395140B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
| GB2155650A (en) | Controlled exposure | |
| JP2544266B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP3143832B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP2787039B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP3041551B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| KR100441522B1 (ko) | 미소형상 형성용 전사필름 및 그 장치 | |
| JPH03232731A (ja) | 化学切削性感光性ガラス製品の分割法 | |
| JP2889892B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| US20040021843A1 (en) | Method for producing an optical element from a quartz substrate | |
| JPS59182529A (ja) | 半導体層のパタ−ン形成方法 | |
| JPH0651328A (ja) | 液晶ガラスのレーザマーキング方法 | |
| JP3154005B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090114 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090114 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100114 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |