JPH05149719A - 性状測定装置 - Google Patents
性状測定装置Info
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- JPH05149719A JPH05149719A JP3316399A JP31639991A JPH05149719A JP H05149719 A JPH05149719 A JP H05149719A JP 3316399 A JP3316399 A JP 3316399A JP 31639991 A JP31639991 A JP 31639991A JP H05149719 A JPH05149719 A JP H05149719A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、光透過性の被測定体に対する微細な
表面形状や厚みを測定しようとするものである。 【構成】直線偏光さた光のうち一成分の偏光の位相を光
学系(Q) の光位相変調素子(22)により変化し、この光位
相変調素子(22)を透過した光をそれぞれ２つの偏光に分
離して光透過性の被測定体(25)に照射する。そして、こ
の被測定体(25)を透過した各光を光学系(Q) において再
び同一光路に重ね合わされて干渉光とする。この干渉光
は撮像装置(29)により撮像され、この撮像装置(29)によ
り得られた各干渉画像データから測定処理手段(33)によ
り被測定体(25)の厚み又は屈折率分布が求められる。
表面形状や厚みを測定しようとするものである。 【構成】直線偏光さた光のうち一成分の偏光の位相を光
学系(Q) の光位相変調素子(22)により変化し、この光位
相変調素子(22)を透過した光をそれぞれ２つの偏光に分
離して光透過性の被測定体(25)に照射する。そして、こ
の被測定体(25)を透過した各光を光学系(Q) において再
び同一光路に重ね合わされて干渉光とする。この干渉光
は撮像装置(29)により撮像され、この撮像装置(29)によ
り得られた各干渉画像データから測定処理手段(33)によ
り被測定体(25)の厚み又は屈折率分布が求められる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光透過性の被測定体の
厚みや屈折率分布を測定する性状測定装置に関する。
厚みや屈折率分布を測定する性状測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】被測定体の表面形状を測定する技術とし
て図６に示す反射型ノマルスキー微分干渉顕微鏡があ
る。この微分干渉顕微鏡は、光を偏光子１を通して偏光
し、この偏光した光をビームスプリッタ２に入射して分
岐し、この分岐した一方の光をノマルスキープリズム３
に伝達される。このノマルスキープリズム３は光を２つ
の偏光に分離するもので、このノマルスキープリズム３
により分岐された２つの光は対物レンズ４を通して被測
定体５に照射される。
て図６に示す反射型ノマルスキー微分干渉顕微鏡があ
る。この微分干渉顕微鏡は、光を偏光子１を通して偏光
し、この偏光した光をビームスプリッタ２に入射して分
岐し、この分岐した一方の光をノマルスキープリズム３
に伝達される。このノマルスキープリズム３は光を２つ
の偏光に分離するもので、このノマルスキープリズム３
により分岐された２つの光は対物レンズ４を通して被測
定体５に照射される。
【０００３】これら分岐された光は被測定体５で反射
し、これら反射光は同一光路を戻ってビームスプリッタ
２に到達し、このビームスプリッタ２を通って検光子６
に伝達される。そして、この検光子６を透過した干渉光
から被測定体５の表面形状の変化が強調された像が得ら
れる。
し、これら反射光は同一光路を戻ってビームスプリッタ
２に到達し、このビームスプリッタ２を通って検光子６
に伝達される。そして、この検光子６を透過した干渉光
から被測定体５の表面形状の変化が強調された像が得ら
れる。
【０００４】ところで、反射型ノマルスキー微分干渉顕
微鏡において反射位相を測定する方式がなされている
が、この場合、図７に示すようにノマルスキープリズム
３を駆動回路７により移動させて位相変調している。一
方、検光子６を透過した各位相変調ごとの各干渉光はカ
メラ８により撮像され、その画像データが画像メモリ９
に記憶される。そして、計算機１０により画像メモリ９
に記憶された各画像データが読み出され、計算機１０は
これら画像データの干渉光から被測定体５の表面形状を
求めている。しかしながら、かかる顕微鏡では被測定体
の表面形状は測定できても透過物体の厚みや屈折率の分
布を測定することは困難となる。
微鏡において反射位相を測定する方式がなされている
が、この場合、図７に示すようにノマルスキープリズム
３を駆動回路７により移動させて位相変調している。一
方、検光子６を透過した各位相変調ごとの各干渉光はカ
メラ８により撮像され、その画像データが画像メモリ９
に記憶される。そして、計算機１０により画像メモリ９
に記憶された各画像データが読み出され、計算機１０は
これら画像データの干渉光から被測定体５の表面形状を
求めている。しかしながら、かかる顕微鏡では被測定体
の表面形状は測定できても透過物体の厚みや屈折率の分
布を測定することは困難となる。
【０００５】一方、図８はマッハツェンダー型干渉計を
用いた厚み測定装置の構成図である。この厚み測定装置
はハーフミラー１０、１１及びミラー１２、１３を配置
してこのうちのミラー１３にピエゾ素子１４を設け、光
源１５から放射された光をハーフミラー１０で２方向に
分岐してその一方の光をミラー１２、ハーフミラー１１
を通して観察面１６に伝達し、これとともにハーフミラ
ー１０からの他方の光をミラー１３、ハーフミラー１１
を通して観察面１６に伝達している。
用いた厚み測定装置の構成図である。この厚み測定装置
はハーフミラー１０、１１及びミラー１２、１３を配置
してこのうちのミラー１３にピエゾ素子１４を設け、光
源１５から放射された光をハーフミラー１０で２方向に
分岐してその一方の光をミラー１２、ハーフミラー１１
を通して観察面１６に伝達し、これとともにハーフミラ
ー１０からの他方の光をミラー１３、ハーフミラー１１
を通して観察面１６に伝達している。
【０００６】この状態に被測定体１７をハーフミラー１
０とミラー１２との間に配置するとともに、ピエゾ素子
１４を駆動させてミラー１３の位置を変位する。これに
より、位相変調された干渉光が観察面１６に現れ、これ
ら干渉光から被測定体１７の厚みが求められる。
０とミラー１２との間に配置するとともに、ピエゾ素子
１４を駆動させてミラー１３の位置を変位する。これに
より、位相変調された干渉光が観察面１６に現れ、これ
ら干渉光から被測定体１７の厚みが求められる。
【０００７】しかしながら、このような装置では干渉計
を形成しなければならず、顕微鏡等により微細な位相分
布を観察できず、被測定体１７の微細形状を測定するこ
とは困難である。
を形成しなければならず、顕微鏡等により微細な位相分
布を観察できず、被測定体１７の微細形状を測定するこ
とは困難である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】以上のように反射型ノ
マルスキー微分干渉顕微鏡やマッハツェンダー型干渉計
では被測定体１７の微細形状を測定することが困難とな
る。そこで本発明は、光透過性の被測定体に対する微細
な厚みや屈折率の分布を測定できる性状測定装置を提供
することを目的とする。
マルスキー微分干渉顕微鏡やマッハツェンダー型干渉計
では被測定体１７の微細形状を測定することが困難とな
る。そこで本発明は、光透過性の被測定体に対する微細
な厚みや屈折率の分布を測定できる性状測定装置を提供
することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、直線偏光した
光のうち一成分の偏光の位相を光位相変調素子により変
化させ、この光位相変調素子を透過した光をそれぞれ２
つの偏光に分離して光透過性の被測定体に光学的分解能
程度に横ずらしさせて照射し、この被測定体を透過した
各光を再び同一光路に重ね合わせて干渉光を得る光学系
と、この光学系により得られた干渉光を受像する撮像装
置と、この撮像装置の撮像により得られた各干渉画像デ
ータから被測定体の性状を求める測定処理手段とを備え
て上記目的を達成しようとする性状測定装置である。
光のうち一成分の偏光の位相を光位相変調素子により変
化させ、この光位相変調素子を透過した光をそれぞれ２
つの偏光に分離して光透過性の被測定体に光学的分解能
程度に横ずらしさせて照射し、この被測定体を透過した
各光を再び同一光路に重ね合わせて干渉光を得る光学系
と、この光学系により得られた干渉光を受像する撮像装
置と、この撮像装置の撮像により得られた各干渉画像デ
ータから被測定体の性状を求める測定処理手段とを備え
て上記目的を達成しようとする性状測定装置である。
【００１０】
【作用】このような手段を備えたことにより、直線偏光
させた光のうち一成分の偏光の位相が光学系の光位相変
調素子により変化され、この光位相変調素子を透過した
光がそれぞれ２つの偏光に分離されて光透過性の被測定
体に照射される。そして、この被測定体を透過した各光
は光学系により再び同一光路に重ね合わされて干渉光と
なる。この干渉光は撮像装置により撮像され、この撮像
装置により得られた各干渉画像データから測定処理手段
により被測定体の性状が求められる。
させた光のうち一成分の偏光の位相が光学系の光位相変
調素子により変化され、この光位相変調素子を透過した
光がそれぞれ２つの偏光に分離されて光透過性の被測定
体に照射される。そして、この被測定体を透過した各光
は光学系により再び同一光路に重ね合わされて干渉光と
なる。この干渉光は撮像装置により撮像され、この撮像
装置により得られた各干渉画像データから測定処理手段
により被測定体の性状が求められる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１２】図１は性状測定装置の構成図である。光学
系Ｑの構成について説明すると、干渉フィルタ２０、偏
光子２１及び電気光学（以下、ＥＯと称する）素子２２
が同一光路上に配置され、干渉フィルタ２０を透過した
例えばレーザ光が偏光子２１により直線偏光されてＥＯ
素子２２に入射するようになっている。このＥＯ素子２
２は光学結晶に電場をかけて被屈折量を変化させるもの
で、一方向の偏光が通りにくくなる性質を有している。
このＥＯ素子２２を透過した光はノマルスキープリズム
２３に入射し、このノマルスキープリズム２３により２
つの偏光に分離されるようになっている。そして、これ
ら分離された２つの偏光は照明レンズ２４を通してシア
リング（横ずらし）された２つの照明光として光透過性
の被測定体２５に照射されるようになっている。
系Ｑの構成について説明すると、干渉フィルタ２０、偏
光子２１及び電気光学（以下、ＥＯと称する）素子２２
が同一光路上に配置され、干渉フィルタ２０を透過した
例えばレーザ光が偏光子２１により直線偏光されてＥＯ
素子２２に入射するようになっている。このＥＯ素子２
２は光学結晶に電場をかけて被屈折量を変化させるもの
で、一方向の偏光が通りにくくなる性質を有している。
このＥＯ素子２２を透過した光はノマルスキープリズム
２３に入射し、このノマルスキープリズム２３により２
つの偏光に分離されるようになっている。そして、これ
ら分離された２つの偏光は照明レンズ２４を通してシア
リング（横ずらし）された２つの照明光として光透過性
の被測定体２５に照射されるようになっている。
【００１３】この被測定体２５を介して照明レンズ２４
と対向する位置には対物レンズ２６が配置され、この対
物レンズ２６と同一光路上にノマルスキープリズム２
７、検光子２８、撮像装置２９が配置されている。この
うちノマルスキープリズム２７は対物レンズ２６からの
２つの偏光を同一光路上に重ね合わせて検光子２８に伝
達するものとなっている。又、検光子２８は互いに４５
°づつの角度を有する各偏光を通すもので、この検光子
２８を透過した各偏光により微分干渉光が撮像装置２９
で結像されるようになっている。
と対向する位置には対物レンズ２６が配置され、この対
物レンズ２６と同一光路上にノマルスキープリズム２
７、検光子２８、撮像装置２９が配置されている。この
うちノマルスキープリズム２７は対物レンズ２６からの
２つの偏光を同一光路上に重ね合わせて検光子２８に伝
達するものとなっている。又、検光子２８は互いに４５
°づつの角度を有する各偏光を通すもので、この検光子
２８を透過した各偏光により微分干渉光が撮像装置２９
で結像されるようになっている。
【００１４】一方、測定処理手段３０が設けられてい
る。この測定処理手段３０は撮像装置２９の撮像により
得られた各干渉画像から被測定体２５の性状を求める機
能を有している。具体的には画像メモリ３１、位相同期
回路３２及び演算回路３３を有している。画像メモリ３
１には撮像装置２９の撮像により得られる干渉画像デー
タが記憶されるようになっている。又、位相同期回路３
２は、ＥＯ素子２２の位相変調量を例えば０、π／２、
π、３π／２にそれぞれ変化させ、かつこれら位相変調
量０、π／２、π、３π／２に同期して撮像装置２９の
干渉画像データを画像メモリ３１に記憶させる機能を有
している。演算回路３３は画像メモリ３１に記憶された
各位相変調量の各干渉画像データから干渉位相φを求
め、この干渉位相φから被測定体２５の厚み分布や屈折
率分布などの性状を求める機能を有している。ここで、
演算回路３３の演算内容について説明する。各位相変調
量の各干渉光量Ｉ1 〜Ｉ4 は、
る。この測定処理手段３０は撮像装置２９の撮像により
得られた各干渉画像から被測定体２５の性状を求める機
能を有している。具体的には画像メモリ３１、位相同期
回路３２及び演算回路３３を有している。画像メモリ３
１には撮像装置２９の撮像により得られる干渉画像デー
タが記憶されるようになっている。又、位相同期回路３
２は、ＥＯ素子２２の位相変調量を例えば０、π／２、
π、３π／２にそれぞれ変化させ、かつこれら位相変調
量０、π／２、π、３π／２に同期して撮像装置２９の
干渉画像データを画像メモリ３１に記憶させる機能を有
している。演算回路３３は画像メモリ３１に記憶された
各位相変調量の各干渉画像データから干渉位相φを求
め、この干渉位相φから被測定体２５の厚み分布や屈折
率分布などの性状を求める機能を有している。ここで、
演算回路３３の演算内容について説明する。各位相変調
量の各干渉光量Ｉ1 〜Ｉ4 は、
【００１５】 Ｉ1 ＝Ｉ0 ｛１＋ cos（α＋φ）｝ …(1) Ｉ2 ＝Ｉ0 ［１＋ cos｛α＋φ＋（π／２）｝］ …(2) Ｉ3 ＝Ｉ0 ｛１＋ cos（α＋φ＋π）｝ …(3) Ｉ4 ＝Ｉ0 ［１＋ cos｛α＋φ＋（３π／２）｝］ …(4) となる。
【００１６】これら干渉光量Ｉ1 〜Ｉ4 から干渉位相φ
は φ＝ tan-1｛（Ｉ3 −Ｉ1 ）／（Ｉ2 −Ｉ4 ）｝ …(5) を演算することにより求められる。従って、被測定体２
５の屈折率をｎとすれば、 Δｄ＝（φ／２πｎ）λ …(6) により表される被測定体２５の厚さの微分値が求められ
る。しかるに、この式をシアリング方向に積分すれば、
は φ＝ tan-1｛（Ｉ3 −Ｉ1 ）／（Ｉ2 −Ｉ4 ）｝ …(5) を演算することにより求められる。従って、被測定体２
５の屈折率をｎとすれば、 Δｄ＝（φ／２πｎ）λ …(6) により表される被測定体２５の厚さの微分値が求められ
る。しかるに、この式をシアリング方向に積分すれば、
【００１７】
【数１】 を演算することにより図２に示す被測定体２５の厚みの
分布が求められる。
分布が求められる。
【００１８】又、この結果は図３に示すように被測定体
４０の厚みｄが均一であることが予め知れている場合、
この被測定体４０における屈折率変化ｎ−ｎａ、ｎ−ｎ
ｂの分布を求める機能を有している。すなわち、上記式
(6) に示すように厚みΔｄが均一であれば、屈折率ｎが
異なることが分かる。従って、演算装置３３は厚みΔｄ
に対する屈折率ｎの関係が記憶されており、測定された
干渉位相φから被測定体２５の屈折率ｎの分布を求める
機能を有している。この演算装置３３には表示装置３４
が接続されており、演算装置３３により求められた厚み
分布又は屈折率分布を表示するようになっている。次に
上記の如く構成された装置の作用について説明する。
４０の厚みｄが均一であることが予め知れている場合、
この被測定体４０における屈折率変化ｎ−ｎａ、ｎ−ｎ
ｂの分布を求める機能を有している。すなわち、上記式
(6) に示すように厚みΔｄが均一であれば、屈折率ｎが
異なることが分かる。従って、演算装置３３は厚みΔｄ
に対する屈折率ｎの関係が記憶されており、測定された
干渉位相φから被測定体２５の屈折率ｎの分布を求める
機能を有している。この演算装置３３には表示装置３４
が接続されており、演算装置３３により求められた厚み
分布又は屈折率分布を表示するようになっている。次に
上記の如く構成された装置の作用について説明する。
【００１９】干渉フィルタ２０を透過した光は偏光子２
１により直線偏光されてＥＯ素子２２に入射する。この
ＥＯ素子２２は一方向の偏光の位相を遅らせ、このＥＯ
素子２２を透過した光はノマルスキープリズム２３に入
射する。このノマルスキープリズム２３は入射した光を
２つの偏光に分離して出力し、これにより分離された２
つの偏光は照明レンズ２４を通してシアリング（横ずら
し）された２つの照明光として被測定体２５に照射され
る。
１により直線偏光されてＥＯ素子２２に入射する。この
ＥＯ素子２２は一方向の偏光の位相を遅らせ、このＥＯ
素子２２を透過した光はノマルスキープリズム２３に入
射する。このノマルスキープリズム２３は入射した光を
２つの偏光に分離して出力し、これにより分離された２
つの偏光は照明レンズ２４を通してシアリング（横ずら
し）された２つの照明光として被測定体２５に照射され
る。
【００２０】この被測定体２５を通過した２つの偏光は
対物レンズ２６を通ってノマルスキープリズム２７に入
射する。このノマルスキープリズム２７は入射した２つ
の偏光を同一光路上に重ね合わせて検光子２８に伝達
し、この検光子２８は２つの偏光を通して微分干渉光と
する。そして、この微分干渉光は撮像装置２９で結像さ
れる。
対物レンズ２６を通ってノマルスキープリズム２７に入
射する。このノマルスキープリズム２７は入射した２つ
の偏光を同一光路上に重ね合わせて検光子２８に伝達
し、この検光子２８は２つの偏光を通して微分干渉光と
する。そして、この微分干渉光は撮像装置２９で結像さ
れる。
【００２１】この状態に、位相同期回路３２はＥＯ素子
２２の位相変調量を０、π／２、π、３π／２にそれぞ
れ変化させ、かつこれら位相変調量に設定されたときに
同期して干渉画像データを取得する指令を画像メモリ３
１に与える。これにより、画像メモリ３１には各位相変
調量０、π／２、π、３π／２のときの各干渉画像デー
タが画像メモリ３１に記憶される。
２２の位相変調量を０、π／２、π、３π／２にそれぞ
れ変化させ、かつこれら位相変調量に設定されたときに
同期して干渉画像データを取得する指令を画像メモリ３
１に与える。これにより、画像メモリ３１には各位相変
調量０、π／２、π、３π／２のときの各干渉画像デー
タが画像メモリ３１に記憶される。
【００２２】ここで、演算回路３３は画像メモリ３１に
記憶された各干渉画像データから各干渉光量Ｉ1 〜Ｉ4
を読み取って上記式(5) から干渉位相φを求め、この干
渉位相φを用いて上記式(6)(7)を演算することによって
被測定体２５の厚み分布や屈折率分布などの性状を求め
る。
記憶された各干渉画像データから各干渉光量Ｉ1 〜Ｉ4
を読み取って上記式(5) から干渉位相φを求め、この干
渉位相φを用いて上記式(6)(7)を演算することによって
被測定体２５の厚み分布や屈折率分布などの性状を求め
る。
【００２３】このように上記一実施例においては、直線
偏光さた光のうち一成分の偏光の位相をＥＯ素子２２に
より変化させ、このＥＯ素子２２を透過した光をそれぞ
れ２つの偏光に分離して光透過性の被測定体２５に照射
し、この被測定体２５を透過した各光を再び同一光路に
重ね合わされて干渉光とし、この干渉光を撮像装置２９
により撮像して得られた各干渉画像データから被測定体
２５の性状を求めるようにしたので、光透過性の被測定
体２５に対する厚み分布及び屈折率分布の測定ができ、
かつ位相変調量０、π／２、π、３π／２にシフトさせ
るので光の波長の数10分の１以下の分解能で測定でき
る。つまり、この手法は光学系が微分干渉顕微鏡とほぼ
同一構成なので高い分解能、例えば 480ｎｍの波長の
光、開口数0.61（λ／ＮＡ）の対物レンズを用いた場
合、0.33μｍの分解能で測定できる。
偏光さた光のうち一成分の偏光の位相をＥＯ素子２２に
より変化させ、このＥＯ素子２２を透過した光をそれぞ
れ２つの偏光に分離して光透過性の被測定体２５に照射
し、この被測定体２５を透過した各光を再び同一光路に
重ね合わされて干渉光とし、この干渉光を撮像装置２９
により撮像して得られた各干渉画像データから被測定体
２５の性状を求めるようにしたので、光透過性の被測定
体２５に対する厚み分布及び屈折率分布の測定ができ、
かつ位相変調量０、π／２、π、３π／２にシフトさせ
るので光の波長の数10分の１以下の分解能で測定でき
る。つまり、この手法は光学系が微分干渉顕微鏡とほぼ
同一構成なので高い分解能、例えば 480ｎｍの波長の
光、開口数0.61（λ／ＮＡ）の対物レンズを用いた場
合、0.33μｍの分解能で測定できる。
【００２４】又、本装置によれば、図２及び図４に示す
均一な屈折率ｎを有する各被測定体２５、４１に対する
厚み分布を測定でき、そのうえ図３に示す均一な厚みを
有する被測定体４０の屈折率分布を測定できる。
均一な屈折率ｎを有する各被測定体２５、４１に対する
厚み分布を測定でき、そのうえ図３に示す均一な厚みを
有する被測定体４０の屈折率分布を測定できる。
【００２５】なお、本発明は上記一実施例に限定される
ものでなくその要旨を逸脱しない範囲で変形してもよ
い。例えば、位相変調としてＥＯ素子２２を用いている
が、図５に示すようなマッハツェンダー型干渉計を用い
てもよい。これはハーフミラー５０、５１及びミラー５
２、５３を配置し、このうちのミラー５３にピエゾ素子
５４を設けたものとなっている。
ものでなくその要旨を逸脱しない範囲で変形してもよ
い。例えば、位相変調としてＥＯ素子２２を用いている
が、図５に示すようなマッハツェンダー型干渉計を用い
てもよい。これはハーフミラー５０、５１及びミラー５
２、５３を配置し、このうちのミラー５３にピエゾ素子
５４を設けたものとなっている。
【００２６】かかる構成であれば、例えばレーザ光をハ
ーフミラー５０で２方向に分岐してその一方の光をミラ
ー５２、ハーフミラー５１を通してノマルスキープリズ
ム２３に伝達し、これとともにハーフミラー５０からの
他方の光をミラー５３、ハーフミラー５１を通してノマ
ルスキープリズム２３に伝達される。この状態にピエゾ
素子５４を駆動させてミラー５３の位置を変位させるこ
とにより位相変調が行われる。又、位相変調の手段とし
ては光弾性変調素子を用いてもよい。
ーフミラー５０で２方向に分岐してその一方の光をミラ
ー５２、ハーフミラー５１を通してノマルスキープリズ
ム２３に伝達し、これとともにハーフミラー５０からの
他方の光をミラー５３、ハーフミラー５１を通してノマ
ルスキープリズム２３に伝達される。この状態にピエゾ
素子５４を駆動させてミラー５３の位置を変位させるこ
とにより位相変調が行われる。又、位相変調の手段とし
ては光弾性変調素子を用いてもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、光
透過性の被測定体に対する微細な表面形状や厚みを測定
できる性状測定装置を提供できる。
透過性の被測定体に対する微細な表面形状や厚みを測定
できる性状測定装置を提供できる。
【図１】本発明に係わる性状測定装置の一実施例を示す
構成図。
構成図。
【図２】同装置で厚み測定する被測定体を横方向から見
た図。
た図。
【図３】同装置で屈折率を測定する被測定体を横方向か
ら見た図。
ら見た図。
【図４】同装置で厚み測定する被測定体を横方向から見
た図。
た図。
【図５】同装置の位相変調として用いる光学系の構成
図。
図。
【図６】反射型ノマルスキー微分干渉顕微鏡の構成図。
【図７】反射型ノマルスキー微分干渉顕微鏡の構成図。
【図８】マッハツェンダー型干渉計を用いた厚み測定装
置の構成図。
置の構成図。
２０…干渉フィルタ、２１…偏光子、２２…ＥＯ素子、
２３，２７…ノマルスキープリズム、２４…照明レン
ズ、２５…被測定体、２６…対物レンズ、２８…検光
子、２９…撮像装置、３０…測定処理手段、３１…画像
メモリ、３２…位相同期回路、３３…演算回路、３４…
表示装置、Ｑ…光学系。
２３，２７…ノマルスキープリズム、２４…照明レン
ズ、２５…被測定体、２６…対物レンズ、２８…検光
子、２９…撮像装置、３０…測定処理手段、３１…画像
メモリ、３２…位相同期回路、３３…演算回路、３４…
表示装置、Ｑ…光学系。
Claims (2)
- 【請求項１】 直線偏光した光のうち一成分の偏光の位
相を光位相変調素子により変化させ、この光位相変調素
子を透過した光をそれぞれ２つの偏光に分離して光透過
性の被測定体に照射し、この被測定体を透過した各光を
再び同一光路に重ね合わせて干渉光を得る光学系と、こ
の光学系により得られた干渉光を受像する撮像装置と、
この撮像装置の撮像により得られた各干渉画像データか
ら前記被測定体の性状を求める測定処理手段とを具備し
たことを特徴とする性状測定装置。 - 【請求項２】 測定処理手段は、光位相変調素子の位相
変調量をそれぞれ変化させ、かつこの位相変調に同期し
て前記撮像装置を撮像動作させる位相同期手段と、前記
撮像装置の撮像により得られた各位相ごとの各干渉画像
データを記憶する画像メモリと、この画像メモリに記憶
された各干渉画像データから干渉位相を求め、この干渉
位相から前記被測定体の厚み分布や屈折率分布などの性
状を求める演算手段とを有することを特徴とする請求項
(1) 記載の性状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3316399A JPH05149719A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 性状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3316399A JPH05149719A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 性状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05149719A true JPH05149719A (ja) | 1993-06-15 |
Family
ID=18076645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3316399A Pending JPH05149719A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 性状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05149719A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999019686A1 (en) * | 1996-04-08 | 1999-04-22 | Herutsu Kogyo Kabushiki Kaisha | Interferometer |
| US6369375B1 (en) | 1998-09-22 | 2002-04-09 | Olympus Optical Co. Ltd. | Detection apparatus having an object gradient detection |
| WO2003067182A1 (en) * | 2002-02-07 | 2003-08-14 | Nikon Corporation | Shearing interference measuring method and shearing interferometer, production method of projection optical system, projection optical system, and projection exposure system |
| US6741356B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-05-25 | Olympus Corporation | Method for detecting physical amount of object and optical apparatus using the same |
| JP2008292939A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Graduate School For The Creation Of New Photonics Industries | 定量位相顕微鏡 |
| JP2011504231A (ja) * | 2007-11-13 | 2011-02-03 | ザイゴ コーポレーション | 偏光スキャンを利用した干渉計 |
| WO2016152108A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | 日本電気株式会社 | 光測定装置 |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP3316399A patent/JPH05149719A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999019686A1 (en) * | 1996-04-08 | 1999-04-22 | Herutsu Kogyo Kabushiki Kaisha | Interferometer |
| US6369375B1 (en) | 1998-09-22 | 2002-04-09 | Olympus Optical Co. Ltd. | Detection apparatus having an object gradient detection |
| US6741356B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-05-25 | Olympus Corporation | Method for detecting physical amount of object and optical apparatus using the same |
| WO2003067182A1 (en) * | 2002-02-07 | 2003-08-14 | Nikon Corporation | Shearing interference measuring method and shearing interferometer, production method of projection optical system, projection optical system, and projection exposure system |
| JP2008292939A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Graduate School For The Creation Of New Photonics Industries | 定量位相顕微鏡 |
| JP2011504231A (ja) * | 2007-11-13 | 2011-02-03 | ザイゴ コーポレーション | 偏光スキャンを利用した干渉計 |
| WO2016152108A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | 日本電気株式会社 | 光測定装置 |
| US10429244B2 (en) | 2015-03-25 | 2019-10-01 | Nec Corporation | Light measurement device |
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