JPH05159363A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH05159363A JPH05159363A JP3327470A JP32747091A JPH05159363A JP H05159363 A JPH05159363 A JP H05159363A JP 3327470 A JP3327470 A JP 3327470A JP 32747091 A JP32747091 A JP 32747091A JP H05159363 A JPH05159363 A JP H05159363A
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- JP
- Japan
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- alloy
- recording medium
- heat dissipation
- layer
- recording
- Prior art date
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録感度を低下させず、しかも確実に記
録、消去できる光記録媒体を提供すること。 【構成】 基板１上に記録層３、耐熱保護層２、４お
よび反射放熱層５を有する光ディスクであって、反射放
熱層５がＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−Ｍｎ合金およびＡｇ−
Ｔｉ合金のうち、何れかからなる光記録媒体。反射放熱
層の熱伝導率の適当な値は、Ａｇ−Ｎｉ合金の場合9×1
0~2〜3.2W/cm・deg、Ａｇ−Ｍｎ合金の場合4.0×10~2〜
3.2W/cm・deg、Ａｇ−Ｔｉ合金の場合7.0×10~2〜3.2W/
cm・degである。
録、消去できる光記録媒体を提供すること。 【構成】 基板１上に記録層３、耐熱保護層２、４お
よび反射放熱層５を有する光ディスクであって、反射放
熱層５がＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−Ｍｎ合金およびＡｇ−
Ｔｉ合金のうち、何れかからなる光記録媒体。反射放熱
層の熱伝導率の適当な値は、Ａｇ−Ｎｉ合金の場合9×1
0~2〜3.2W/cm・deg、Ａｇ−Ｍｎ合金の場合4.0×10~2〜
3.2W/cm・deg、Ａｇ−Ｔｉ合金の場合7.0×10~2〜3.2W/
cm・degである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は相変化形光記録媒体に関
するもので、光メモリーに応用できるものである。
するもので、光メモリーに応用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】相変化形光記録方式は、一般には物質の
熱による相転移に伴う光学定数の変化を利用するもので
ある。具体的にはカルコゲン系化合物材料にその材料の
エネルギーバンドキャップに対応した光を照射する事に
より光を吸収させ、これが熱に交換されて照射部の温度
が上昇し、そして溶融急冷後非晶質化する。この非晶質
化された部分（ピット）を一般には記録としている。
熱による相転移に伴う光学定数の変化を利用するもので
ある。具体的にはカルコゲン系化合物材料にその材料の
エネルギーバンドキャップに対応した光を照射する事に
より光を吸収させ、これが熱に交換されて照射部の温度
が上昇し、そして溶融急冷後非晶質化する。この非晶質
化された部分（ピット）を一般には記録としている。
【０００３】次に消去の場合は、この非晶質部分に低パ
ワーで光を照射して結晶化させればよい。この様に相変
化形光記録は入射光の強度変調による記録材料の結晶−
非晶質の相変化を利用する事が基本である。そしてこの
記録、消去の感度を向上させるため、金属反射層を設け
入射光を効率的に記録層に吸収させる方法等がある。例
えば反射層としてＡｌ、Ａｇ、Ｒｈ等の金属を用い、記
録層としてカルコゲン系を用いる方法が提案されている
（特公昭61-18262）。しかし、Ａｌ、Ａｇ等の金属は熱
伝導率が大きいため、熱の効率的利用が困難であり、高
感度化はあまり期待できない。そこで、反射層の熱伝導
率を小さくして高感度化を実現させる方法も提案されて
いる（特開昭63-58639）。しかしこの場合も、うまく熱
伝導率を調節しないと熱伝導率が小さくなりすぎて記録
するときの冷却効果が十分でなくなる結果、非晶質化が
困難となる可能性を有する。
ワーで光を照射して結晶化させればよい。この様に相変
化形光記録は入射光の強度変調による記録材料の結晶−
非晶質の相変化を利用する事が基本である。そしてこの
記録、消去の感度を向上させるため、金属反射層を設け
入射光を効率的に記録層に吸収させる方法等がある。例
えば反射層としてＡｌ、Ａｇ、Ｒｈ等の金属を用い、記
録層としてカルコゲン系を用いる方法が提案されている
（特公昭61-18262）。しかし、Ａｌ、Ａｇ等の金属は熱
伝導率が大きいため、熱の効率的利用が困難であり、高
感度化はあまり期待できない。そこで、反射層の熱伝導
率を小さくして高感度化を実現させる方法も提案されて
いる（特開昭63-58639）。しかしこの場合も、うまく熱
伝導率を調節しないと熱伝導率が小さくなりすぎて記録
するときの冷却効果が十分でなくなる結果、非晶質化が
困難となる可能性を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、記録感度を
低下させず、しかも確実に記録、消去できる光記録媒体
を提供しようとするものである。
低下させず、しかも確実に記録、消去できる光記録媒体
を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載されたとおり
の光記録媒体である。
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載されたとおり
の光記録媒体である。
【０００６】すなわち、本発明は相変化形光記録媒体に
おいて、本媒体が記録層、誘電体保護層、反射放熱層か
ら構成され、この反射放熱層がＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−
Ｍｎ合金およびＡｇ−Ｔｉ合金の中から選んだ何れかの
合金からなることを特徴とする。相変化形光記録媒体
は、光の照射により記録層が光を吸収、発熱する事によ
って結晶−非晶質間の相転移を行い、二相間の光学定数
の変化を利用するものである。従って、低エネルギーの
光照射でいかにして情報の記録、並びに消去を行うか
（即ち高感度化）が重要である。このためには記録層に
照射された光をいかに有効に吸収するかにかかってい
る。
おいて、本媒体が記録層、誘電体保護層、反射放熱層か
ら構成され、この反射放熱層がＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−
Ｍｎ合金およびＡｇ−Ｔｉ合金の中から選んだ何れかの
合金からなることを特徴とする。相変化形光記録媒体
は、光の照射により記録層が光を吸収、発熱する事によ
って結晶−非晶質間の相転移を行い、二相間の光学定数
の変化を利用するものである。従って、低エネルギーの
光照射でいかにして情報の記録、並びに消去を行うか
（即ち高感度化）が重要である。このためには記録層に
照射された光をいかに有効に吸収するかにかかってい
る。
【０００７】具体的な方法としては、記録層の層厚を薄
くする事により、熱容量を低下させ情報の記録そして消
去に要する光エネルギーを低くする事と併せて反射放熱
層を設けて記録部を透過した光を反射させ、なるべく照
射された光を有効に利用する事が考えられている。さら
に反射層は一般に金属が利用されているので熱伝導率が
大きいことから急冷効果が期待でき、情報の記録の際の
非晶質化に役立つ効果を有する。しかしながら、Ａｕ、
Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ等熱伝導率の大きな金属を反射層とし
て使用すると記録に際しての記録部の温度が十分に上昇
する前に、即ち、溶融に必要な温度に達する前に熱が拡
散してしまうので、記録感度の低下につながる事にな
る。一方、比較的熱伝導率の小さなＴｉ、Ｍｎ等を利用
すると熱の伝導が低下するので、急冷効果が効率的に行
われなくなるので、記録即ち非晶質化が困難となると同
時に反射率も低下するため、反射層としての役目を失う
事になる。そこでこれらの問題を解消する方法として、
反射率が高く熱伝導の大きな金属と熱伝導率の比較的小
さな金属を合金化する事により、反射率の低下を防止す
ると同時に、熱伝導率も情報の記録、即ち融点まで速や
かに昇温し、そして非晶質化に必要な急冷効果を有する
値に調整する事が可能となり、高感度化が期待できる。
又、合金組成の調整により、ディスクの線速度（低速か
ら高速）に対応した記録媒体を提供する事が可能とな
る。
くする事により、熱容量を低下させ情報の記録そして消
去に要する光エネルギーを低くする事と併せて反射放熱
層を設けて記録部を透過した光を反射させ、なるべく照
射された光を有効に利用する事が考えられている。さら
に反射層は一般に金属が利用されているので熱伝導率が
大きいことから急冷効果が期待でき、情報の記録の際の
非晶質化に役立つ効果を有する。しかしながら、Ａｕ、
Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ等熱伝導率の大きな金属を反射層とし
て使用すると記録に際しての記録部の温度が十分に上昇
する前に、即ち、溶融に必要な温度に達する前に熱が拡
散してしまうので、記録感度の低下につながる事にな
る。一方、比較的熱伝導率の小さなＴｉ、Ｍｎ等を利用
すると熱の伝導が低下するので、急冷効果が効率的に行
われなくなるので、記録即ち非晶質化が困難となると同
時に反射率も低下するため、反射層としての役目を失う
事になる。そこでこれらの問題を解消する方法として、
反射率が高く熱伝導の大きな金属と熱伝導率の比較的小
さな金属を合金化する事により、反射率の低下を防止す
ると同時に、熱伝導率も情報の記録、即ち融点まで速や
かに昇温し、そして非晶質化に必要な急冷効果を有する
値に調整する事が可能となり、高感度化が期待できる。
又、合金組成の調整により、ディスクの線速度（低速か
ら高速）に対応した記録媒体を提供する事が可能とな
る。
【０００８】即ち、本発明のＡｇ−Ｎｉ合金は、その組
成比により熱伝導率を幅広く変化させることが可能であ
り（9.0×10~2W/cm・degから3.2W/cm・deg）、ディスク
の線速に対応した高感度な記録媒体を提供することがで
きる。
成比により熱伝導率を幅広く変化させることが可能であ
り（9.0×10~2W/cm・degから3.2W/cm・deg）、ディスク
の線速に対応した高感度な記録媒体を提供することがで
きる。
【０００９】本発明の記録媒体の構成を図１に示す。こ
こで本発明で用いられる基板は通常、ガラス、セラミッ
クスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コスト等
の点で好適である。樹脂の代表例としてはポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン
樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ
エチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、
フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等があげられ
るが、加工性、光学特性等の点でポリカーボネート樹
脂、アクリル系樹脂が好ましい。又、基板の形状として
はディスク状、カード状あるいはシート状であってもよ
い。
こで本発明で用いられる基板は通常、ガラス、セラミッ
クスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コスト等
の点で好適である。樹脂の代表例としてはポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン
樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ
エチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、
フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等があげられ
るが、加工性、光学特性等の点でポリカーボネート樹
脂、アクリル系樹脂が好ましい。又、基板の形状として
はディスク状、カード状あるいはシート状であってもよ
い。
【００１０】耐熱性保護層の材料としては、ＳｉＯ、Ｓ
ｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ
3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2等の金属酸化物、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ
Ｎ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮなどの窒化物、ＺｎＳ、Ｉｎ
2Ｓ3、ＴａＳ4等の硫化物、ＳｉＣ、ＴａＣ、Ｂ4Ｃ、Ｗ
Ｃ、ＴｉＣ、ＺｒＣなどの炭化物やダイヤモンド状カー
ボンあるいはそれらの混合物があげられる。又、必要に
応じて不純物を含んでいてもよい。このような耐熱性保
護層は各種気相成膜法、例えば真空蒸着法、スパッタリ
ング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレー
ティング法、電子ビーム蒸着法等によって形成できる。
ｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ
3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2等の金属酸化物、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ
Ｎ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮなどの窒化物、ＺｎＳ、Ｉｎ
2Ｓ3、ＴａＳ4等の硫化物、ＳｉＣ、ＴａＣ、Ｂ4Ｃ、Ｗ
Ｃ、ＴｉＣ、ＺｒＣなどの炭化物やダイヤモンド状カー
ボンあるいはそれらの混合物があげられる。又、必要に
応じて不純物を含んでいてもよい。このような耐熱性保
護層は各種気相成膜法、例えば真空蒸着法、スパッタリ
ング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレー
ティング法、電子ビーム蒸着法等によって形成できる。
【００１１】耐熱性保護層の膜厚としては２００〜５０
００Å、好適には５００〜３０００Åとするのがよい。
２００Åより薄くなると耐熱性保護層としての機能を果
たさなくなり、逆に５０００Åよりも厚くなると、感度
の低下をきたしたり、界面剥離を生じやすくなる。又、
必要に応じて保護層を多層化することもできる。
００Å、好適には５００〜３０００Åとするのがよい。
２００Åより薄くなると耐熱性保護層としての機能を果
たさなくなり、逆に５０００Åよりも厚くなると、感度
の低下をきたしたり、界面剥離を生じやすくなる。又、
必要に応じて保護層を多層化することもできる。
【００１２】一方、反射放熱層は真空蒸着法、スパッタ
法で形成し、その膜厚は放熱層材料の熱容量、屈折率に
もよるが、３００〜２０００Å、好ましくは５０〜１０
００Åとするのがよい。又、記録材料は我々が発見した
カルコパイライト型構造を有するＡｇＩｎＴｅ2にＳｂ
を添加した系を用いた。膜の形成はスパッタ法で行うの
がよい。この時の膜厚は１００〜２０００Å、好ましく
は２００〜１０００Åが好適である。
法で形成し、その膜厚は放熱層材料の熱容量、屈折率に
もよるが、３００〜２０００Å、好ましくは５０〜１０
００Åとするのがよい。又、記録材料は我々が発見した
カルコパイライト型構造を有するＡｇＩｎＴｅ2にＳｂ
を添加した系を用いた。膜の形成はスパッタ法で行うの
がよい。この時の膜厚は１００〜２０００Å、好ましく
は２００〜１０００Åが好適である。
【００１３】記録、再生及び消去に用いる電磁波として
はレーザー光、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外
線、マイクロ波等、数種のものが採用可能であるが、ド
ライブに取付ける際、小型でコンパクトな半導体レーザ
ーのビ−ムが最適である。
はレーザー光、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外
線、マイクロ波等、数種のものが採用可能であるが、ド
ライブに取付ける際、小型でコンパクトな半導体レーザ
ーのビ−ムが最適である。
【００１４】
【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
する。ただし、この実施例は本発明をなんら制限するも
のではない。
する。ただし、この実施例は本発明をなんら制限するも
のではない。
【００１５】実施例１ ピッチ１．６μｍ、深さ７００Åの溝付き、厚さ１．２
ｍｍ、直径８６ｍｍφのポリカーボネート基板上にｒｆ
スパッタリング法により耐熱保護層、記録層、耐熱保護
層、反射層を順次積層し、評価用光ディスクを作製し
た。又、反射層を作製するさい熱伝導率測定用に２０ｍ
ｍ×２０ｍｍ×１ｍｍのカバーグラスを取りつけた。
ｍｍ、直径８６ｍｍφのポリカーボネート基板上にｒｆ
スパッタリング法により耐熱保護層、記録層、耐熱保護
層、反射層を順次積層し、評価用光ディスクを作製し
た。又、反射層を作製するさい熱伝導率測定用に２０ｍ
ｍ×２０ｍｍ×１ｍｍのカバーグラスを取りつけた。
【００１６】各層に用いた材料と膜厚を下記表１−(1)
に示す。
に示す。
【００１７】光ディスクの評価は８３０ｎｍの半導体レ
ーザー光をＮＡ＝０．５のレンズを通して媒体面で１μ
mφのスポット径にしぼり込み基板側から照射すること
により行った。
ーザー光をＮＡ＝０．５のレンズを通して媒体面で１μ
mφのスポット径にしぼり込み基板側から照射すること
により行った。
【００１８】成膜後の記録膜は非晶質であったが、測定
に際し最初に媒体面で４〜１０ｍＷのＤＣ光でディスク
全面を十分に結晶化させ、それを初期（未記録）状態と
した。
に際し最初に媒体面で４〜１０ｍＷのＤＣ光でディスク
全面を十分に結晶化させ、それを初期（未記録）状態と
した。
【００１９】ディスクの線速度は５ｍ／ｓ、７ｍ／ｓ、
９ｍ／ｓ、１１ｍ／ｓ、１５ｍ／ｓとした。記録の書き
込み条件は、各々の線速度に対して、２．６ＭＨｚ、
３．７ＭＨｚ、４．８ＭＨｚ、５．８ＭＨｚ、７．９Ｍ
Ｈｚとし、レーザーパワー（Ｐｗ）を７〜１７ｍＷまで
変化させた。
９ｍ／ｓ、１１ｍ／ｓ、１５ｍ／ｓとした。記録の書き
込み条件は、各々の線速度に対して、２．６ＭＨｚ、
３．７ＭＨｚ、４．８ＭＨｚ、５．８ＭＨｚ、７．９Ｍ
Ｈｚとし、レーザーパワー（Ｐｗ）を７〜１７ｍＷまで
変化させた。
【００２０】読み取りパワー（ＰR）は１．０ｍＷとし
た。Ｃ／Ｎ（キャリア対ノイズ比）値が飽和もしくは最
大となったときのレーザーパワー（ＰW）と最適消去パ
ワー（ＰE）、並びに得られたＣ／Ｎ値及び消去比を表
１−(1)(2)(3)(4)(5)に示す。又、消去はＤＣ光であ
る。
た。Ｃ／Ｎ（キャリア対ノイズ比）値が飽和もしくは最
大となったときのレーザーパワー（ＰW）と最適消去パ
ワー（ＰE）、並びに得られたＣ／Ｎ値及び消去比を表
１−(1)(2)(3)(4)(5)に示す。又、消去はＤＣ光であ
る。
【００２１】又、反射層の熱伝導率の測定は膜厚が薄い
場合は非常に困難なため、４端子法により膜の電気伝導
率を測定し、ヴィーデマン・フランツの法則から計算に
より求めた。これは反射層が金属材料から作製されてい
るため、ヴィーデマン・フランツ則が成立すると判断し
たからである。
場合は非常に困難なため、４端子法により膜の電気伝導
率を測定し、ヴィーデマン・フランツの法則から計算に
より求めた。これは反射層が金属材料から作製されてい
るため、ヴィーデマン・フランツ則が成立すると判断し
たからである。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】
【表３】
【００２５】
【表４】
【００２６】
【表５】
【００２７】以上、表１−(1)〜(5)から明らかなよう
に、Ａｇ−Ｎｉ合金はその組成比を調整して熱伝導率を
制御する事によりディスク特性を低下させる事なくディ
スクの線速に対応した反射放熱層を提供する事が可能と
なる。又、オーバーライトモードにおける繰り返し特性
においても本反射放熱層を用いた記録媒体は104回以上
の耐久性を有する事が確認された。又、80℃、85％雰囲
気 500時間後も酸化の傾向は全く認められなかった。
に、Ａｇ−Ｎｉ合金はその組成比を調整して熱伝導率を
制御する事によりディスク特性を低下させる事なくディ
スクの線速に対応した反射放熱層を提供する事が可能と
なる。又、オーバーライトモードにおける繰り返し特性
においても本反射放熱層を用いた記録媒体は104回以上
の耐久性を有する事が確認された。又、80℃、85％雰囲
気 500時間後も酸化の傾向は全く認められなかった。
【００２８】実施例２ 反射放熱層の材料をＡｇ−Ｍｎ合金に替えた以外は実施
例１と同じ条件で評価用光ディスクを作製し、同じ条件
で試験をした。
例１と同じ条件で評価用光ディスクを作製し、同じ条件
で試験をした。
【００２９】その結果を下記表２−(1)(2)(3)(4)(5)に
示す。
示す。
【００３０】
【表６】
【００３１】
【表７】
【００３２】
【表８】
【００３３】
【表９】
【００３４】
【表１０】
【００３５】以上、表２−(1)〜(5)から明らかなよう
に、Ａｇ−Ｍｎ合金は前記Ａｇ−Ｎｉ合金と同じくその
組成比を調整して熱伝導率を制御する事によりディスク
特性を低下させる事なくディスクの線速に対応した反射
放熱層を提供する事が可能となる。又、オーバーライト
モードにおける繰り返し特性においても本反射放熱層を
用いた記録媒体は104回以上の耐久性を有する事が確認
された。又、80℃、85％雰囲気500時間後も酸化の傾向
は全く認められなかった。
に、Ａｇ−Ｍｎ合金は前記Ａｇ−Ｎｉ合金と同じくその
組成比を調整して熱伝導率を制御する事によりディスク
特性を低下させる事なくディスクの線速に対応した反射
放熱層を提供する事が可能となる。又、オーバーライト
モードにおける繰り返し特性においても本反射放熱層を
用いた記録媒体は104回以上の耐久性を有する事が確認
された。又、80℃、85％雰囲気500時間後も酸化の傾向
は全く認められなかった。
【００３６】実施例３ 反射放熱層の材料をＡｇ−Ｔｉ合金に替えた以外は実施
例１と同じ条件で評価用光ディスクを作製し、同じ条件
で試験をした。
例１と同じ条件で評価用光ディスクを作製し、同じ条件
で試験をした。
【００３７】その結果を下記表３−(1)(2)(3)(4)(5)に
示す。
示す。
【００３８】
【表１１】
【００３９】
【表１２】
【００４０】
【表１３】
【００４１】
【表１４】
【００４２】
【表１５】
【００４３】以上、表３−(1)〜(5)から明らかなよう
に、Ａｇ−Ｔｉ合金は前記Ａｇ−Ｎｉ合金およびＡｇ−
Ｍｎ合金と同じくその組成比を調整して熱伝導率を制御
する事によりディスク特性を低下させる事なくディスク
の線速に対応した反射放熱層を提供する事が可能とな
る。又、オーバーライトモードにおける繰り返し特性に
おいても本反射放熱層を用いた記録媒体は104回以上の
耐久性を有する事が確認された。又、80℃、85％雰囲気
500時間後も酸化の傾向は全く認められなかった。
に、Ａｇ−Ｔｉ合金は前記Ａｇ−Ｎｉ合金およびＡｇ−
Ｍｎ合金と同じくその組成比を調整して熱伝導率を制御
する事によりディスク特性を低下させる事なくディスク
の線速に対応した反射放熱層を提供する事が可能とな
る。又、オーバーライトモードにおける繰り返し特性に
おいても本反射放熱層を用いた記録媒体は104回以上の
耐久性を有する事が確認された。又、80℃、85％雰囲気
500時間後も酸化の傾向は全く認められなかった。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体はＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−Ｍｎ合金およびＡｇ−Ｔｉ
合金の中の何れかからなる反射放熱層を設ける事によっ
てディスクの線速に対応した高感度な記録媒体を提供す
る事ができる。
体はＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−Ｍｎ合金およびＡｇ−Ｔｉ
合金の中の何れかからなる反射放熱層を設ける事によっ
てディスクの線速に対応した高感度な記録媒体を提供す
る事ができる。
【図１】本発明の光記録媒体の構成例を示す断面の模式
図である。
図である。
１ 基板 ２と４ 耐熱保護層 ３ 記録層 ５ 反射放熱層 ６ 保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩崎 博子 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコ−内
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に、記録層、耐熱保護層および反
射放熱層を有し、記録層に電磁波が照射されるとその記
録材料の光学定数が変化して光情報の記録、再生および
消去が可能になる相変化型光記録媒体において、その反
射放熱層がＡｇ−Ｎｉ合金、Ａｇ−Ｍｎ合金およびＡｇ
−Ｔｉ合金のうちの何れかからなることを特徴とする光
記録媒体。 - 【請求項２】 Ａｇ−Ｎｉ合金からなる反射放熱層の熱
伝導率が、9.0×10~2〜3.2W／cm・degの間にあることを
特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 Ａｇ−Ｍｎ合金からなる反射放熱層の熱
伝導率が4.0×10~2〜3.2W／cm・degの間にあることを特
徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 Ａｇ−Ｔｉ合金からなる反射放熱層の熱
伝導率が7.0×10~2〜3.2W／cm・degの間にあることを特
徴とする請求項１記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3327470A JPH05159363A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3327470A JPH05159363A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05159363A true JPH05159363A (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=18199520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3327470A Pending JPH05159363A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05159363A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7033730B2 (en) * | 2002-06-28 | 2006-04-25 | Williams Advanced Materials, Inc. | Silver-reactive metal alloys for optical data storage and recordable storage media containing same |
| EP1956597A1 (en) * | 2000-07-21 | 2008-08-13 | Target Technology Company, LLC. | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP3327470A patent/JPH05159363A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1956597A1 (en) * | 2000-07-21 | 2008-08-13 | Target Technology Company, LLC. | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7033730B2 (en) * | 2002-06-28 | 2006-04-25 | Williams Advanced Materials, Inc. | Silver-reactive metal alloys for optical data storage and recordable storage media containing same |
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