JPH04349242A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPH04349242A JPH04349242A JP3134949A JP13494991A JPH04349242A JP H04349242 A JPH04349242 A JP H04349242A JP 3134949 A JP3134949 A JP 3134949A JP 13494991 A JP13494991 A JP 13494991A JP H04349242 A JPH04349242 A JP H04349242A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- recording medium
- layer
- optical recording
- thermal conductivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は相変化形光記録媒体に関
するもので、光メモリーに応用できるものである。
するもので、光メモリーに応用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】相変化形光記録媒体は光を照射するとそ
れを吸収した記録層の照射部で熱に変換され、そこの温
度が上昇し、記録層が溶融する。そして熱伝導により急
冷されると非晶質の状態になり記録が行われる。
れを吸収した記録層の照射部で熱に変換され、そこの温
度が上昇し、記録層が溶融する。そして熱伝導により急
冷されると非晶質の状態になり記録が行われる。
【０００３】次に光の強度を低めてこの記録部を照射す
ると非晶質化して記録された部分が結晶化することによ
って記録が消去される。
ると非晶質化して記録された部分が結晶化することによ
って記録が消去される。
【０００４】この場合、記録層における情報の記録、消
去に必要なエネルギーを節約するために反射層を設けて
入射光を効率的に記録層に吸収させる方法が提案されて
いる。例えば、反射層としてＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｒｈ等
の金属膜を用い、記録層としてカルコゲン系化合物を用
いるものである（特公昭６１−１８２６２および特開昭
５７−１１１８９参照）。
去に必要なエネルギーを節約するために反射層を設けて
入射光を効率的に記録層に吸収させる方法が提案されて
いる。例えば、反射層としてＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｒｈ等
の金属膜を用い、記録層としてカルコゲン系化合物を用
いるものである（特公昭６１−１８２６２および特開昭
５７−１１１８９参照）。
【０００５】しかし、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ等の金属
は熱伝導率が大きい金属であるために、低エネルギーで
記録層を十分な高温度に加熱することが困難である。そ
の結果として記録感度が低下することになる。一方、反
射層の熱伝導率を小さくして高感度を実現する方法も提
案されている（特開昭６３−５８６３９参照）しかし、
ＴｉやＭｎのように反射層として熱伝導率が小さい金属
を用いると記録層の冷却効果が十分でなくなるので非結
晶化が困難になるという問題があった。
は熱伝導率が大きい金属であるために、低エネルギーで
記録層を十分な高温度に加熱することが困難である。そ
の結果として記録感度が低下することになる。一方、反
射層の熱伝導率を小さくして高感度を実現する方法も提
案されている（特開昭６３−５８６３９参照）しかし、
ＴｉやＭｎのように反射層として熱伝導率が小さい金属
を用いると記録層の冷却効果が十分でなくなるので非結
晶化が困難になるという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、記録感度を
低下させず、しかも確実に記録、消去ができる光記録媒
体を提供しようとするものである。
低下させず、しかも確実に記録、消去ができる光記録媒
体を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載のとおりの光
記録媒体である。
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載のとおりの光
記録媒体である。
【０００８】すなわち、本発明は相変化形光記録媒体に
おいて、基板とその上に設けられた記録層、耐熱保護層
、反射放熱層からなるものであって、この反射放熱層が
Ａｌ−Ｔｉ合金またはＡｌ−Ｍｎ合金からなり、そして
その熱伝導率がＡｌ−Ｔｉ合金の場合は９．０×１０−
３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇの間に、Ａｌ−Ｍｎ合金の
場合は７．３×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇの間
にあることを特徴とするものである。
おいて、基板とその上に設けられた記録層、耐熱保護層
、反射放熱層からなるものであって、この反射放熱層が
Ａｌ−Ｔｉ合金またはＡｌ−Ｍｎ合金からなり、そして
その熱伝導率がＡｌ−Ｔｉ合金の場合は９．０×１０−
３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇの間に、Ａｌ−Ｍｎ合金の
場合は７．３×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇの間
にあることを特徴とするものである。
【０００９】相変化形光記録媒体は光の照射により記録
層が光を吸収、発熱することによって結晶−非晶質の相
転移を行い、２相間の光学定数の変化を利用するもので
ある。したがって、どのようにして低エネルギーの光照
射で情報の記録、消去を行うか（高感度化）が重要であ
る。
層が光を吸収、発熱することによって結晶−非晶質の相
転移を行い、２相間の光学定数の変化を利用するもので
ある。したがって、どのようにして低エネルギーの光照
射で情報の記録、消去を行うか（高感度化）が重要であ
る。
【００１０】このためには、記録層に照射された光を有
効に吸収する手段が重要である。その方法の一つとして
、記録層の厚さを薄くして熱容量を小さくし、情報の記
録、消去に要する光エネルギーを小さくすると同時に反
射放熱層を設けて記録部を透過した光を反射させ、照射
された光エネルギーをできるだけ有効に利用することが
考えられている。更に、反射層には一般に金属が利用さ
れているので熱伝導率が比較的大きく急冷効果が期待で
き、これは情報の記録の際の記録層の非晶質化に大いに
有効である。
効に吸収する手段が重要である。その方法の一つとして
、記録層の厚さを薄くして熱容量を小さくし、情報の記
録、消去に要する光エネルギーを小さくすると同時に反
射放熱層を設けて記録部を透過した光を反射させ、照射
された光エネルギーをできるだけ有効に利用することが
考えられている。更に、反射層には一般に金属が利用さ
れているので熱伝導率が比較的大きく急冷効果が期待で
き、これは情報の記録の際の記録層の非晶質化に大いに
有効である。
【００１１】しかし、すでに説明したように熱伝導率が
大きい金属を反射層に用いると光が照射された記録層が
所定の温度に上昇する以前に熱が放散してしまうので記
録感度が低下する。一方熱伝導率が小さい金属を使用す
ると熱の放散が起こり難くなって急冷効果が不十分にな
り、記録層の非晶質化が困難になると同時に反射率も低
下するので反射層としての効果もなくなることになる。
大きい金属を反射層に用いると光が照射された記録層が
所定の温度に上昇する以前に熱が放散してしまうので記
録感度が低下する。一方熱伝導率が小さい金属を使用す
ると熱の放散が起こり難くなって急冷効果が不十分にな
り、記録層の非晶質化が困難になると同時に反射率も低
下するので反射層としての効果もなくなることになる。
【００１２】これらの問題を解決するために、反射率が
大きく、熱伝導率が大きい金属と熱伝導率が比較的小さ
い金属とを合金化することにより反射率の低下を防止す
ると同時に熱伝導率も情報の記録・消去に必要な値、す
なわち、記録層を形成している材料の融点まで速やかに
昇温し、その次に非晶質化に必要な急冷効果を奏するよ
うな値となることが可能になり、記録媒体の高感度化が
期待できる。
大きく、熱伝導率が大きい金属と熱伝導率が比較的小さ
い金属とを合金化することにより反射率の低下を防止す
ると同時に熱伝導率も情報の記録・消去に必要な値、す
なわち、記録層を形成している材料の融点まで速やかに
昇温し、その次に非晶質化に必要な急冷効果を奏するよ
うな値となることが可能になり、記録媒体の高感度化が
期待できる。
【００１３】更に合金組成を調整することによって、記
録媒体であるディスクの線速度が低速から高速の領域ま
で対応することが可能になる。すなわち、本発明の記録
媒体の反射放熱層の材料としてＡｌ−Ｔｉ合金、Ａｌ−
Ｍｎ合金、Ｃｕ−Ｎｉ合金、Ｃｕ−Ｔｉ合金を用いる場
合はその組成によって熱伝導率が変化する同時に反射率
も変化する。
録媒体であるディスクの線速度が低速から高速の領域ま
で対応することが可能になる。すなわち、本発明の記録
媒体の反射放熱層の材料としてＡｌ−Ｔｉ合金、Ａｌ−
Ｍｎ合金、Ｃｕ−Ｎｉ合金、Ｃｕ−Ｔｉ合金を用いる場
合はその組成によって熱伝導率が変化する同時に反射率
も変化する。
【００１４】例えばＡｌ−Ｔｉ合金の場合には、その熱
伝導率を９．０×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇの
間に調整することによってディスクの線速に対応した高
感度化を実現でき、かつ、熱伝導率がこの範囲であると
反射率も６５〜８５％の値になり、反射層としての作用
も十分になる。
伝導率を９．０×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇの
間に調整することによってディスクの線速に対応した高
感度化を実現でき、かつ、熱伝導率がこの範囲であると
反射率も６５〜８５％の値になり、反射層としての作用
も十分になる。
【００１５】Ａｌ−Ｍｎ合金の場合は、その熱伝導率を
７．３×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇにすること
によって反射率が６０〜８５％の値になり、反射放熱層
として十分な作用をする。
７．３×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇにすること
によって反射率が６０〜８５％の値になり、反射放熱層
として十分な作用をする。
【００１６】Ｃｕ−Ｎｉ合金もその組成比により熱伝導
率を幅広く、例えば３×１０−２〜１．０ｗ／ｃｍ・ｄ
ｅｇの間に変化させることができ、ディスクの線速に対
応した高感度化を実現させることができる。
率を幅広く、例えば３×１０−２〜１．０ｗ／ｃｍ・ｄ
ｅｇの間に変化させることができ、ディスクの線速に対
応した高感度化を実現させることができる。
【００１７】Ｃｕ−Ｔｉ合金もその組成比により、熱伝
導率を９．０×１０−３〜１．０ｗ／ｄｅｇ・ｃｍの間
に変化させることができ、同じくディスクの線速に対応
した高感度化を実現させることができる。
導率を９．０×１０−３〜１．０ｗ／ｄｅｇ・ｃｍの間
に変化させることができ、同じくディスクの線速に対応
した高感度化を実現させることができる。
【００１８】本発明の記録媒体の構成を図１に示す。こ
こで本発明で用いられる基板は通常、ガラス、セラミッ
クスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コスト等
の点で好適である。樹脂の代表例としてはポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン
樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ
エチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、
フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等があげられ
るが、加工性、光学特性等の点でポリカーボネート樹脂
、アクリル系樹脂が好ましい。又、基板の形状としては
ディスク状、カード状あるいはシート状であってもよい
。
こで本発明で用いられる基板は通常、ガラス、セラミッ
クスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コスト等
の点で好適である。樹脂の代表例としてはポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン
樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ
エチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、
フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等があげられ
るが、加工性、光学特性等の点でポリカーボネート樹脂
、アクリル系樹脂が好ましい。又、基板の形状としては
ディスク状、カード状あるいはシート状であってもよい
。
【００１９】耐熱性保護層の材料としては、ＳｉＯ、Ｓ
ｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｉ
ｎ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２等の金属酸化物、Ｓｉ３Ｎ
４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮなどの窒化物、Ｚｎ
Ｓ、Ｉｎ２Ｓ３、ＴａＳ４等の硫化物、ＳｉＣ、ＴａＣ
、Ｂ４Ｃ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣなどの炭化物やダイヤ
モンド状カーボンあるいはそれらの混合物があげられる
。又、必要に応じて不純物を含んでいてもよい。このよ
うな耐熱性保護層は各種気相成長法、例えば真空蒸着法
、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、
イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法等によって
形成できる。
ｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｉ
ｎ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２等の金属酸化物、Ｓｉ３Ｎ
４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮなどの窒化物、Ｚｎ
Ｓ、Ｉｎ２Ｓ３、ＴａＳ４等の硫化物、ＳｉＣ、ＴａＣ
、Ｂ４Ｃ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣなどの炭化物やダイヤ
モンド状カーボンあるいはそれらの混合物があげられる
。又、必要に応じて不純物を含んでいてもよい。このよ
うな耐熱性保護層は各種気相成長法、例えば真空蒸着法
、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、
イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法等によって
形成できる。
【００２０】耐熱性保護層の膜厚としては２００〜５０
００Å、好適には５００〜３０００Åとするのがよい。 ２００Åより薄くなると耐熱性保護層としての機能を果
たさなくなり、逆に５０００Åよりも厚くなると、感度
の低下をきたしたり、界面剥離を生じやすくなる。又、
必要に応じて保護層を多層化することもできる。
００Å、好適には５００〜３０００Åとするのがよい。 ２００Åより薄くなると耐熱性保護層としての機能を果
たさなくなり、逆に５０００Åよりも厚くなると、感度
の低下をきたしたり、界面剥離を生じやすくなる。又、
必要に応じて保護層を多層化することもできる。
【００２１】又、記録材料は我々が発見したカルコパイ
ライト型構造を有するＡｇＩｎＴｅ２にＳｂを添加した
系を用いた。膜の形成はスパッタ法で行うのがよい。記
録層の膜厚としては１００〜２０００Å、好適には５０
０〜１５００Åとするのがよい。
ライト型構造を有するＡｇＩｎＴｅ２にＳｂを添加した
系を用いた。膜の形成はスパッタ法で行うのがよい。記
録層の膜厚としては１００〜２０００Å、好適には５０
０〜１５００Åとするのがよい。
【００２２】反射放熱層は真空蒸着法又はスパッタ法で
形成し、その膜厚は放熱層材料の熱容量、屈折率等にも
よるが３００〜２０００Å、好ましくは５００〜１００
０Åとするのがよい。
形成し、その膜厚は放熱層材料の熱容量、屈折率等にも
よるが３００〜２０００Å、好ましくは５００〜１００
０Åとするのがよい。
【００２３】記録、再生及び消去に用いる電磁波として
はレーザー光、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外
線、マイクロ波等、数種のものが採用可能であるが、ド
ライブに取付ける際、小型でコンパクトな半導体レーザ
ーが最適である。
はレーザー光、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外
線、マイクロ波等、数種のものが採用可能であるが、ド
ライブに取付ける際、小型でコンパクトな半導体レーザ
ーが最適である。
【００２４】
【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
する。ただし、この実施例は本発明をなんら制限するも
のではない。
する。ただし、この実施例は本発明をなんら制限するも
のではない。
【００２５】実施例Ｉ
ピッチ１．６μｍ、深さ７００Åの溝付き、厚さ１．２
ｍｍ、直径８６ｍｍφのポリカーボネート基板上にｒｆ
スパッタリング法により耐熱保護層、記録層、耐熱保護
層、反射層を順次積層し、評価用光ディスクを作製した
。又、反射層を作製するさい熱伝導率測定用に２０ｍｍ
×２０ｍｍ×１ｍｍのカバーグラスを取りつけた。
ｍｍ、直径８６ｍｍφのポリカーボネート基板上にｒｆ
スパッタリング法により耐熱保護層、記録層、耐熱保護
層、反射層を順次積層し、評価用光ディスクを作製した
。又、反射層を作製するさい熱伝導率測定用に２０ｍｍ
×２０ｍｍ×１ｍｍのカバーグラスを取りつけた。
【００２６】各層に用いた材料と膜厚を下記表Ｉ−１に
示す。
示す。
【００２７】光ディスクの評価は８３０ｎｍの半導体レ
ーザー光をＮＡ＝０．５ のレンズを通して媒体面で１
μｍφのスポット径にしぼり込み基板側から照射するこ
とにより行った。
ーザー光をＮＡ＝０．５ のレンズを通して媒体面で１
μｍφのスポット径にしぼり込み基板側から照射するこ
とにより行った。
【００２８】成膜後の記録膜は非晶質であったが、測定
に際し最初に媒体面で１０ｍＷのＤＣ光でディスク全面
を十分に結晶化させ、それを初期（未記録）状態とした
。
に際し最初に媒体面で１０ｍＷのＤＣ光でディスク全面
を十分に結晶化させ、それを初期（未記録）状態とした
。
【００２９】ディスクの線速度は５ｍ／ｓ、７ｍ／ｓ、
９ｍ／ｓ、１１ｍ／ｓとした。記録の書き込み条件は、
各々の線速度に対して、周波数は２．６ＭＨｚ（線速５
ｍ／ｓｅｃ）、３．７ＭＨｚ（線速７ｍ／ｓｅｃ）、４
．８ＭＨｚ（線速９ｍ／ｓｅｃ）、５．８ＭＨｚ（線速
１１ｍ／ｓｅｃ）とし、レーザーパワー（Ｐｗ）を７〜
１４ｍＷまで変化させた。
９ｍ／ｓ、１１ｍ／ｓとした。記録の書き込み条件は、
各々の線速度に対して、周波数は２．６ＭＨｚ（線速５
ｍ／ｓｅｃ）、３．７ＭＨｚ（線速７ｍ／ｓｅｃ）、４
．８ＭＨｚ（線速９ｍ／ｓｅｃ）、５．８ＭＨｚ（線速
１１ｍ／ｓｅｃ）とし、レーザーパワー（Ｐｗ）を７〜
１４ｍＷまで変化させた。
【００３０】読み取りパワー（ＰＲ）は１．０ｍＷとし
た。Ｃ／Ｎ（キャリア対ノイズ比）値が飽和もしくは最
大となったときのレーザーパワー（ＰＷ）と最適消去パ
ワー（ＰＥ）、並びに得られたＣ／Ｎ値及び消去比を表
Ｉ−１、２、３、４に示す。
た。Ｃ／Ｎ（キャリア対ノイズ比）値が飽和もしくは最
大となったときのレーザーパワー（ＰＷ）と最適消去パ
ワー（ＰＥ）、並びに得られたＣ／Ｎ値及び消去比を表
Ｉ−１、２、３、４に示す。
【００３１】又、反射層の熱伝導率の測定は膜厚が薄い
と困難なため。電気抵抗率を測定してヴィーデマン・フ
ランツの法則から計算により求めた。これは反射層が金
属材料から作製されていることからウィルドマン・フラ
ンツ即が成立すると考えたからである。
と困難なため。電気抵抗率を測定してヴィーデマン・フ
ランツの法則から計算により求めた。これは反射層が金
属材料から作製されていることからウィルドマン・フラ
ンツ即が成立すると考えたからである。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
以上表Ｉ−１、表Ｉ−２、表Ｉ−３、表Ｉ−４からわか
る様にＡｌ−Ｔｉ合金はその組成比を調整して熱伝導率
を制御することによって、ディスク特性を低下させるこ
となくディスクの線速に対応した反射放熱層を提供する
ことが可能となる。
る様にＡｌ−Ｔｉ合金はその組成比を調整して熱伝導率
を制御することによって、ディスク特性を低下させるこ
となくディスクの線速に対応した反射放熱層を提供する
ことが可能となる。
【００３６】又、線速１１ｍ／ｓｅｃ以上の場合におい
ても熱伝導率を〜１．２×１０−１以下に制御するよう
にＡｌ−Ｔｉ合金の組成比を調整すればディスク特性を
十分に満足することはいうまでもない。
ても熱伝導率を〜１．２×１０−１以下に制御するよう
にＡｌ−Ｔｉ合金の組成比を調整すればディスク特性を
十分に満足することはいうまでもない。
【００３７】実施例ＩＩ
反射放熱層の合金としてＡｌ−Ｔｉに替えてＡｌ−Ｍｎ
を用いた以外は実施例Ｉと同じ条件で評価用光ディスク
を作製し、同じ条件でこれを評価した。その結果を下記
表ＩＩ−１乃至表ＩＩ−４に示す。
を用いた以外は実施例Ｉと同じ条件で評価用光ディスク
を作製し、同じ条件でこれを評価した。その結果を下記
表ＩＩ−１乃至表ＩＩ−４に示す。
【００３８】
【表５】
【００３９】
【表６】
【００４０】
【表７】
【００４１】
【表８】
以上表ＩＩ−１、表ＩＩ−２、表ＩＩ−３、表ＩＩ−４
からわかる様にＡｌ−Ｍｎ合金はその組成比を調整して
熱伝導率を制御することによって、ディスク特性を低下
させることなくディスクの線速に対応した反射放熱層を
提供することが可能となる。
からわかる様にＡｌ−Ｍｎ合金はその組成比を調整して
熱伝導率を制御することによって、ディスク特性を低下
させることなくディスクの線速に対応した反射放熱層を
提供することが可能となる。
【００４２】又、線速１１ｍ／ｓｅｃ以上の場合におい
ても熱伝導率を７．３×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄ
ｅｇの間で制御すればディスク特性を十分に満足するこ
とはいうまでもない。
ても熱伝導率を７．３×１０−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄ
ｅｇの間で制御すればディスク特性を十分に満足するこ
とはいうまでもない。
【００４３】実施例ＩＩＩ
反射放熱層の合金としてＡｌ−Ｔｉに替えてＣｕ−Ｎｉ
を用いた以外は、実施例Ｉと同じ条件で評価用光ディス
クを作製し、大体同じ条件でこれを評価した。すなわち
、記録媒体を初期化（未記録状態）する時の光は４〜１
０ｍＷＤＣ光で行い、かつ、ディスクへ書込むときのエ
ネルギーは７〜１７ｍＷ、記録の消去はＤＣ光で行った
以外は実施例Ｉと同じ条件で行った。
を用いた以外は、実施例Ｉと同じ条件で評価用光ディス
クを作製し、大体同じ条件でこれを評価した。すなわち
、記録媒体を初期化（未記録状態）する時の光は４〜１
０ｍＷＤＣ光で行い、かつ、ディスクへ書込むときのエ
ネルギーは７〜１７ｍＷ、記録の消去はＤＣ光で行った
以外は実施例Ｉと同じ条件で行った。
【００４４】
【表９】
【００４５】
【表１０】
【００４６】
【表１１】
【００４７】
【表１２】
以上表ＩＩＩ−１〜４からわかる様にＣｕ−Ｎｉ合金は
その組成比を調整して、熱伝導率を調整することにより
ディスク特性を低下させることなく、ディスクの線速に
対応した反射放熱層を提供することが可能となる。また
オーバーライトモードにおける繰り返し特性においても
Ｃｕ−Ｎｉ系反射放熱層は１０５以上の耐久性を有する
ことが確認された。
その組成比を調整して、熱伝導率を調整することにより
ディスク特性を低下させることなく、ディスクの線速に
対応した反射放熱層を提供することが可能となる。また
オーバーライトモードにおける繰り返し特性においても
Ｃｕ−Ｎｉ系反射放熱層は１０５以上の耐久性を有する
ことが確認された。
【００４８】実施例ＩＶ
反射放熱層の合金をＣｕ−Ｔｉに替えた以外は実施例Ｉ
ＩＩと同じ条件で評価用光ディスクを作製し、同じ条件
でこれを評価した。
ＩＩと同じ条件で評価用光ディスクを作製し、同じ条件
でこれを評価した。
【００４９】
【表１３】
【００５０】
【表１４】
【００５１】
【表１５】
【００５２】
【表１６】
【００５３】
【表１７】
以上表ＩＶ１〜５からわかる様にＣｕ−Ｔｉ合金はその
組成比を調整して熱伝導率を制御することによりディス
ク特性を低下させることなく、デイスクの線速に対応し
た反射放熱層を提供することが可能となる。またオーバ
ーライトモードにおける繰り返し特性においてもＣｕ−
Ｔｉ系反射放熱層は１０５回以上の耐久性を有すること
が確認された。
組成比を調整して熱伝導率を制御することによりディス
ク特性を低下させることなく、デイスクの線速に対応し
た反射放熱層を提供することが可能となる。またオーバ
ーライトモードにおける繰り返し特性においてもＣｕ−
Ｔｉ系反射放熱層は１０５回以上の耐久性を有すること
が確認された。
【００５４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体は、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｍｎ合金、Ｃｕ−Ｎｉ合金、
Ｃｕ−Ｔｉ合金の何れかからなる反射放熱層を設けるこ
とによってディスクの線速に対応して、その特性を低下
することなく使用することができる。更に記録層の耐食
性も良好である。
体は、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｍｎ合金、Ｃｕ−Ｎｉ合金、
Ｃｕ−Ｔｉ合金の何れかからなる反射放熱層を設けるこ
とによってディスクの線速に対応して、その特性を低下
することなく使用することができる。更に記録層の耐食
性も良好である。
【図１】本発明の光記録媒体の構成例を示す断面の模式
図である。
図である。
１ 基板
２と４ 耐熱保護層
３ 記録層
５ 反射放熱層
６ 保護層
Claims (5)
- 【請求項１】 基板上に設けられた記録層に光を照射
することによりその記録材料の光学定数を変化させ、そ
の変化によって情報の記録、再生および消去が可能な相
変化形光記録媒体において、この光記録媒体が記録層の
外に、更に耐熱保護層及び反射放熱層を有し、この反射
放熱層がＡｌ−Ｔｉ合金、Ａｌ−Ｍｎ合金、Ｃｕ−Ｎｉ
合金、Ｃｕ−Ｔｉ合金からなる群のうちの何れかからな
ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 反射放熱層が、熱伝導率９．０×１０
−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇのＡｌ−Ｔｉ合金からな
ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 反射放熱層が、熱伝導率７．３×１０
−３〜１．４ｗ／ｃｍ・ｄｅｇのＡｌ−Ｍｎ合金からな
ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 反射放熱層が、熱伝導率２．０×１０
−２〜１．０ｗ／ｃｍ・ｄｅｇのＣｕ−Ｎｉ合金からな
ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項５】 反射放熱層が、熱伝導率９．０×１０
−３〜１．０ｗ／ｃｍ・ｄｅｇのＣｕ−Ｔｉ合金からな
ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3134949A JPH04349242A (ja) | 1991-03-20 | 1991-06-06 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8043591 | 1991-03-20 | ||
| JP3-80435 | 1991-03-20 | ||
| JP3134949A JPH04349242A (ja) | 1991-03-20 | 1991-06-06 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04349242A true JPH04349242A (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=26421450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3134949A Pending JPH04349242A (ja) | 1991-03-20 | 1991-06-06 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04349242A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110051584A1 (en) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | Moser Baer India Limited | Optical recording mediums |
-
1991
- 1991-06-06 JP JP3134949A patent/JPH04349242A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110051584A1 (en) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | Moser Baer India Limited | Optical recording mediums |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3292890B2 (ja) | 光反射放熱用材料を用いた相変化形光記録媒体 | |
| EP1260973B1 (en) | Optical recording medium and recording method | |
| JP2003034081A (ja) | 相変化型光情報記録媒体 | |
| JP4018340B2 (ja) | 書換可能型光学情報媒体 | |
| TW200405323A (en) | Optical recording medium, process for manufacturing the same, sputtering target for manufacturing the same, and optical recording process using the same | |
| JPH04232779A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP3693125B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3639218B2 (ja) | 相変化光記録媒体 | |
| JP2908826B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2003317315A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0737251A (ja) | 光情報記録方法 | |
| JPH04349242A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2868849B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP3927410B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JP3999003B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JP3532427B2 (ja) | 相変化光記録媒体 | |
| JPH04267192A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH05159363A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2002260274A (ja) | 相変化型光記録媒体 | |
| JP3176582B2 (ja) | 情報の記録及び消去方法 | |
| JP2954731B2 (ja) | 情報記録媒体及びそれを用いる情報記録方法 | |
| US20050195729A1 (en) | Optical recording medium, method and apparatus for optical recording and reproducing using the same | |
| JP2986897B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2947938B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3990137B2 (ja) | 光記録媒体 |