JPH05165244A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPH05165244A JPH05165244A JP3352061A JP35206191A JPH05165244A JP H05165244 A JPH05165244 A JP H05165244A JP 3352061 A JP3352061 A JP 3352061A JP 35206191 A JP35206191 A JP 35206191A JP H05165244 A JPH05165244 A JP H05165244A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photosensitive member
- electrophotographic photosensitive
- resin
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 表面摩擦係数(μ)が1.5〔−〕以下であ
る、電子写真感光体の回転方向に対してカウンター方向
にクリーニングブレードを当接させたクリーニング手段
を有する画像形成装置で使用する電子写真感光体。 【効果】 本発明の電子写真感光体は高感度でありなが
ら、耐摩耗性に優れたものであり、繰り返し使用しても
現像剤のクリーニング不良等の不具合がなく、またクリ
ーニングブラシやクリーニングブレードの摺擦による表
面の傷や摩耗の軽減されたものである。
る、電子写真感光体の回転方向に対してカウンター方向
にクリーニングブレードを当接させたクリーニング手段
を有する画像形成装置で使用する電子写真感光体。 【効果】 本発明の電子写真感光体は高感度でありなが
ら、耐摩耗性に優れたものであり、繰り返し使用しても
現像剤のクリーニング不良等の不具合がなく、またクリ
ーニングブラシやクリーニングブレードの摺擦による表
面の傷や摩耗の軽減されたものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は複写機やプリンター等電
子写真プロセスによって画像形成を行う際に用いられる
電子写真感光体に関する。
子写真プロセスによって画像形成を行う際に用いられる
電子写真感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子写真感光体として低価格、生
産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材料を用
いたものが普及し始めている。有機系の電子写真感光体
には、ポリビニルカルバゾール(PVK)に代表される
光導電性樹脂、PKV−TNF(2,4,7−トリニト
ロフルオレノン)に代表される電荷移動錯体、フタロシ
アニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生
物質と電荷移動物質とを組み合わせて用いる機能分離型
の感光体が注目されている。このような機能分離型の高
感度感光体をカールソン方式の複写機やプリンターい用
いる場合には、感光体表面に帯電させた後、露光によっ
て静電潜像を帯電着色粉(トナー)によって現像し、次
いでその可視像を紙等に転写、定着させる。同時に感光
体は付着トナーの除去や除電、表面の清浄化(クリーニ
ング)が施され、長期にわたって反復使用される。
産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材料を用
いたものが普及し始めている。有機系の電子写真感光体
には、ポリビニルカルバゾール(PVK)に代表される
光導電性樹脂、PKV−TNF(2,4,7−トリニト
ロフルオレノン)に代表される電荷移動錯体、フタロシ
アニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生
物質と電荷移動物質とを組み合わせて用いる機能分離型
の感光体が注目されている。このような機能分離型の高
感度感光体をカールソン方式の複写機やプリンターい用
いる場合には、感光体表面に帯電させた後、露光によっ
て静電潜像を帯電着色粉(トナー)によって現像し、次
いでその可視像を紙等に転写、定着させる。同時に感光
体は付着トナーの除去や除電、表面の清浄化(クリーニ
ング)が施され、長期にわたって反復使用される。
【0003】従って、電子写真感光体としては、帯電性
及び感度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真的特
性は勿論であるが、加えて繰り返し使用での耐擦性、耐
摩耗性等の機械的耐久性や耐湿度性、コロナ放電発光で
の紫外線等に対する耐変質性においても安定しているこ
とが要求される。
及び感度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真的特
性は勿論であるが、加えて繰り返し使用での耐擦性、耐
摩耗性等の機械的耐久性や耐湿度性、コロナ放電発光で
の紫外線等に対する耐変質性においても安定しているこ
とが要求される。
【0004】しかし、支持体上に電荷発生層及び電荷移
動層を順次積層した従来の電子写真感光体は、電荷移動
層が低分子の電荷移動物質を高分子の樹脂バインダーで
結着することにより形成しているので、機械的強度特性
と電子写真的特性とを両立させることが必ずしも十分で
なく、感度の高い組成又は樹脂バインダー種では感光体
の反復使用時にクリーニングブラシ及び又はクリーニン
グブレードの摺擦等によって感光体表面に傷が生じた
り、表面が摩耗したりし、又耐摩耗性の高い組成又は樹
脂バインダー種では感度が低い、残留電位が上昇する等
電子写真的特性が満足できなかった。
動層を順次積層した従来の電子写真感光体は、電荷移動
層が低分子の電荷移動物質を高分子の樹脂バインダーで
結着することにより形成しているので、機械的強度特性
と電子写真的特性とを両立させることが必ずしも十分で
なく、感度の高い組成又は樹脂バインダー種では感光体
の反復使用時にクリーニングブラシ及び又はクリーニン
グブレードの摺擦等によって感光体表面に傷が生じた
り、表面が摩耗したりし、又耐摩耗性の高い組成又は樹
脂バインダー種では感度が低い、残留電位が上昇する等
電子写真的特性が満足できなかった。
【0005】上述の欠点に対して、例えば特開昭59−
7955号公報、61−17945号公報では、最表面
層電荷移動層(CTL−2)に摺擦傷が生じるのを改良
する為に、ジメチルポリシロキサンを有するシリコーン
樹脂とポリカーボネート樹脂を用いて電荷移動物質(C
TM)を溶出させ得る溶媒でスプレー塗工する。特開昭
60−12551号公報では、摩擦による傷の発生及び
CTMの耐コロナ性を改良するためにCTLを多層化し
最深電荷移動層(CTL−1)中のCTM配合量をCT
L−2よりも多くしている。特開昭60−12552号
公報では、電荷発生層(CGL)とCTLとの密着性を
改良するためにCGLとCTLとの間に熱可塑性ポリエ
ステルカーボネート単独層もしくはCGMあるいはCT
Mを添加した熱硬化性ポリエステルカーボネートから成
る中間層を設ける。特開昭60−87331号公報、特
開昭60−143346号公報では、摩擦による傷の発
生及びCTMの耐コロナ性を改良するためにCTLを電
荷移動可能な中間層を介して2層に分けCTL−2のC
TM/RをCTL−1よりも小さくしている。特開昭6
2−272282号公報では、耐摩耗性を改良する為C
TL上にポリカーボネート系樹脂、ポリテトラフルオロ
エチレンに良いCTM(ヒドラゾン系化合物)から成る
保護層を設けている。特開平2−160247号公報で
は、機械的強度及び感光層へのオゾンの侵入を改良する
ためにCTLを多層化しCTL−1のCTM/RをCT
L−2のそれよりも大きくし、かつCTL−2の樹脂バ
インダーが特定のポリカーボネートを用いる。特開平2
−161449号公報では、耐久性向上の為にポリエー
テルイミドを主成分とする保護層を設けている。特開平
2−178672号公報では、繰り返し使用での残留電
位が低くかつ高感度とする為にCTLとCGLとの間に
アミン系化合物を含有させてキャリアの分離及び注入を
促進する中間層を設けた感光体、等が提案された。これ
らの提案は感度及び耐久性の両方を十分に満足しておら
ず、近年ますます高感度を維持しながらの耐久性に対す
る要望が高まっている。
7955号公報、61−17945号公報では、最表面
層電荷移動層(CTL−2)に摺擦傷が生じるのを改良
する為に、ジメチルポリシロキサンを有するシリコーン
樹脂とポリカーボネート樹脂を用いて電荷移動物質(C
TM)を溶出させ得る溶媒でスプレー塗工する。特開昭
60−12551号公報では、摩擦による傷の発生及び
CTMの耐コロナ性を改良するためにCTLを多層化し
最深電荷移動層(CTL−1)中のCTM配合量をCT
L−2よりも多くしている。特開昭60−12552号
公報では、電荷発生層(CGL)とCTLとの密着性を
改良するためにCGLとCTLとの間に熱可塑性ポリエ
ステルカーボネート単独層もしくはCGMあるいはCT
Mを添加した熱硬化性ポリエステルカーボネートから成
る中間層を設ける。特開昭60−87331号公報、特
開昭60−143346号公報では、摩擦による傷の発
生及びCTMの耐コロナ性を改良するためにCTLを電
荷移動可能な中間層を介して2層に分けCTL−2のC
TM/RをCTL−1よりも小さくしている。特開昭6
2−272282号公報では、耐摩耗性を改良する為C
TL上にポリカーボネート系樹脂、ポリテトラフルオロ
エチレンに良いCTM(ヒドラゾン系化合物)から成る
保護層を設けている。特開平2−160247号公報で
は、機械的強度及び感光層へのオゾンの侵入を改良する
ためにCTLを多層化しCTL−1のCTM/RをCT
L−2のそれよりも大きくし、かつCTL−2の樹脂バ
インダーが特定のポリカーボネートを用いる。特開平2
−161449号公報では、耐久性向上の為にポリエー
テルイミドを主成分とする保護層を設けている。特開平
2−178672号公報では、繰り返し使用での残留電
位が低くかつ高感度とする為にCTLとCGLとの間に
アミン系化合物を含有させてキャリアの分離及び注入を
促進する中間層を設けた感光体、等が提案された。これ
らの提案は感度及び耐久性の両方を十分に満足しておら
ず、近年ますます高感度を維持しながらの耐久性に対す
る要望が高まっている。
【0006】また、感光体の反復使用時におけるクリー
ニングブラシやクリーニングブレードの摺擦による感光
体表面の傷や摩耗にはこれらクリーニングブレードやク
リーニングブラシの材質、形状、感光体表面への当接条
件等も関与しているが、感光体のクリーニングに関して
は現像剤のクリーニング不良防止に係る報告(例えば特
開昭60−263956号公報の電子写真感光体表面を
粗す、特開平2−101488号公報のクリーニングブ
レードと感光体との間に微粉末を介在させる、特開平2
−162388号公報のクリーニングブレードの端部に
肉薄部を設ける、特開昭57−82842号公報、特開
昭62−272282号公報の感光層、保護層にフッソ
系化合物を含有させる等)が多いのに対して、感光体の
反復使用時におけるクリーニングブラシやクリーニング
ブレードの摺擦による感光体表面の傷や摩耗低減に関す
る報告は少なく(例えば特開平3−20768号公報の
特定の分子量のビスフェニールZ型ポリカーボネートを
有する電子写真感光体を特定の形状、材質のクリーニン
グブレードでクリーニングする等)目的を十分満足する
には至っていない。
ニングブラシやクリーニングブレードの摺擦による感光
体表面の傷や摩耗にはこれらクリーニングブレードやク
リーニングブラシの材質、形状、感光体表面への当接条
件等も関与しているが、感光体のクリーニングに関して
は現像剤のクリーニング不良防止に係る報告(例えば特
開昭60−263956号公報の電子写真感光体表面を
粗す、特開平2−101488号公報のクリーニングブ
レードと感光体との間に微粉末を介在させる、特開平2
−162388号公報のクリーニングブレードの端部に
肉薄部を設ける、特開昭57−82842号公報、特開
昭62−272282号公報の感光層、保護層にフッソ
系化合物を含有させる等)が多いのに対して、感光体の
反復使用時におけるクリーニングブラシやクリーニング
ブレードの摺擦による感光体表面の傷や摩耗低減に関す
る報告は少なく(例えば特開平3−20768号公報の
特定の分子量のビスフェニールZ型ポリカーボネートを
有する電子写真感光体を特定の形状、材質のクリーニン
グブレードでクリーニングする等)目的を十分満足する
には至っていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の実情に鑑みてなされたものであって、第一の目的は繰
り返し使用しても高感度を維持しかつ耐摩耗性が良好な
電子写真感光体を提供することにある。又第二の目的は
繰り返し使用しても現像剤のクリーニング不良等の不具
合を生じること無くクリーニングブラシやクリーニング
ブレードの摺擦による感光体表面の傷や摩耗の軽減され
た電子写真感光体を提供することにある。
の実情に鑑みてなされたものであって、第一の目的は繰
り返し使用しても高感度を維持しかつ耐摩耗性が良好な
電子写真感光体を提供することにある。又第二の目的は
繰り返し使用しても現像剤のクリーニング不良等の不具
合を生じること無くクリーニングブラシやクリーニング
ブレードの摺擦による感光体表面の傷や摩耗の軽減され
た電子写真感光体を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、電子写
真感光体の回転方向に対してカウンター方向にクリーニ
ングブレードを当接させたクリーニング手段を有する画
像形成装置で使用する電子写真感光体において、該電子
写真感光体の表面摩擦係数(μ)が1.5〔−〕以下で
あることを特徴とする電子写真感光体が提供される。
真感光体の回転方向に対してカウンター方向にクリーニ
ングブレードを当接させたクリーニング手段を有する画
像形成装置で使用する電子写真感光体において、該電子
写真感光体の表面摩擦係数(μ)が1.5〔−〕以下で
あることを特徴とする電子写真感光体が提供される。
【0009】一般に、電子写真感光体にその回転方向に
対してトレーニング方向にクリーニングブレードを当接
させてクリーニングする方式であると、現像剤のクリー
ニング不良を防止するために硬度の大きなクリーニング
ブレードが使用される。このため電子写真感光体へのク
リーニングブレードの当接圧を大きくする等の必要性が
生じるため繰り返し使用時の電子写真感光体の摩耗量が
増大する。従って、電子写真感光体に電子写真感光体の
回転方向に対してカウンター方向にクリーニングブレー
ドを当接させてクリーニングする方式の方が耐摩耗性の
点で有利となるわけであるが、本発明者らの検討によれ
ば、電子写真感光体の最表面層の表面摩擦係数が1.5
〔−〕を越えるとクリーニングブレードの反転、ビビリ
等の不都合が生じることが判明した。従って、本発明電
子写真感光体は最表面層の表面摩擦係数を1.5〔−〕
以下、好ましくは1.0〔−〕以下にすることを特徴と
する。また、本発明においては、電子写真感光体へのク
リーニングブレードの当接角は5°〜50°好ましくは
10°〜30°に設定することが望ましい。尚、ここで
いう表面摩擦係数は電子写真感光体上に現像剤の薄層を
設けた後にクリーニングブレードを当接させて測定した
値である。
対してトレーニング方向にクリーニングブレードを当接
させてクリーニングする方式であると、現像剤のクリー
ニング不良を防止するために硬度の大きなクリーニング
ブレードが使用される。このため電子写真感光体へのク
リーニングブレードの当接圧を大きくする等の必要性が
生じるため繰り返し使用時の電子写真感光体の摩耗量が
増大する。従って、電子写真感光体に電子写真感光体の
回転方向に対してカウンター方向にクリーニングブレー
ドを当接させてクリーニングする方式の方が耐摩耗性の
点で有利となるわけであるが、本発明者らの検討によれ
ば、電子写真感光体の最表面層の表面摩擦係数が1.5
〔−〕を越えるとクリーニングブレードの反転、ビビリ
等の不都合が生じることが判明した。従って、本発明電
子写真感光体は最表面層の表面摩擦係数を1.5〔−〕
以下、好ましくは1.0〔−〕以下にすることを特徴と
する。また、本発明においては、電子写真感光体へのク
リーニングブレードの当接角は5°〜50°好ましくは
10°〜30°に設定することが望ましい。尚、ここで
いう表面摩擦係数は電子写真感光体上に現像剤の薄層を
設けた後にクリーニングブレードを当接させて測定した
値である。
【0010】本発明に使用されるクリーニングブレード
の材質はウレタン系樹脂が、反発弾性としては30%〜
70%が好ましく、また硬度は60°〜80°が好まし
い。また、電子写真感光体への当接圧は5〜50g/c
mより好ましくは10〜30g/cmであり、更に形状
は板状で必要に応じて端部に肉薄部を設ける等の処理が
施されているものが好ましい。
の材質はウレタン系樹脂が、反発弾性としては30%〜
70%が好ましく、また硬度は60°〜80°が好まし
い。また、電子写真感光体への当接圧は5〜50g/c
mより好ましくは10〜30g/cmであり、更に形状
は板状で必要に応じて端部に肉薄部を設ける等の処理が
施されているものが好ましい。
【0011】本発明の電子写真感光体は、好ましくは最
表面層にシリコンオイルをバインダー樹脂に対して0.
05〜5%(重量比)、好ましくは0.1〜2%(重量
比)含有させる。このような構成によると最表面層の表
面摩擦係数の小さい(1.5〔−〕以下)電子写真感光
体が容易に得られる。シリコンオイルは電荷移動物質や
バインダー樹脂との相溶性からバインダー樹脂に対して
5%(重量比)を越えて含有させると塗工液が白濁す
る。また、バインダー樹脂に対して0.05%(重量
比)未満であると表面摩擦係数低減効果を得ることがで
きる。
表面層にシリコンオイルをバインダー樹脂に対して0.
05〜5%(重量比)、好ましくは0.1〜2%(重量
比)含有させる。このような構成によると最表面層の表
面摩擦係数の小さい(1.5〔−〕以下)電子写真感光
体が容易に得られる。シリコンオイルは電荷移動物質や
バインダー樹脂との相溶性からバインダー樹脂に対して
5%(重量比)を越えて含有させると塗工液が白濁す
る。また、バインダー樹脂に対して0.05%(重量
比)未満であると表面摩擦係数低減効果を得ることがで
きる。
【0012】本発明で用いられるシリコンオイルとして
は例えば下記一般式で示されるものが挙げられる。 式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は
それぞれメチル、エチルなどのアルキル基、フェニル、
ナフチルなどのアリール基またはメトキシ、エトキシな
どのアルコキシ基を示し、他の置換基やハロゲン原子な
どで置換されていてもよい。nは正の整数である。これ
らの具体例としては、例えばジメチルシリコンオイル、
メチル−フェニルシリコンオイル、ジメチルジフェニル
共重合シリコンオイル等がある。また、本発明において
は、最表面層にシリコンオイルとフッ素界面活性剤を共
に含有させることもできる。フッ素系界面活性剤はそれ
単独ではあまり表面摩擦係数低減効果がなくシリコンオ
イル以上に電荷移動物質やバインダー樹脂との相溶性が
悪いためごく微量しか添加できない。しかし両者を併用
すると大きな表面摩擦係数低減効果を得ることができ
る。
は例えば下記一般式で示されるものが挙げられる。 式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は
それぞれメチル、エチルなどのアルキル基、フェニル、
ナフチルなどのアリール基またはメトキシ、エトキシな
どのアルコキシ基を示し、他の置換基やハロゲン原子な
どで置換されていてもよい。nは正の整数である。これ
らの具体例としては、例えばジメチルシリコンオイル、
メチル−フェニルシリコンオイル、ジメチルジフェニル
共重合シリコンオイル等がある。また、本発明において
は、最表面層にシリコンオイルとフッ素界面活性剤を共
に含有させることもできる。フッ素系界面活性剤はそれ
単独ではあまり表面摩擦係数低減効果がなくシリコンオ
イル以上に電荷移動物質やバインダー樹脂との相溶性が
悪いためごく微量しか添加できない。しかし両者を併用
すると大きな表面摩擦係数低減効果を得ることができ
る。
【0013】本発明に用いられるフッソ系界面活性剤は
炭素数2〜10パーフルオロアルキル基を主鎖あるいは
側鎖に有する分子量1000から10000のオリゴマ
ーが好ましい。市販品としてはモディパー(日本油
脂)、サーフロン(旭硝子)、ディフェンサ(大日本イ
ンキ化学)等が上市されている。又添加量はバインダー
樹脂に対して0.05〜2%(重量比)、好ましくは
0.1〜1%が良い。バインダー樹脂に対して2%(重
量比)を越えて含有させると電荷移動物質やバインダー
樹脂との相溶性から塗工液が白濁する。又バインダー樹
脂に対して0.05%(重量比)未満であると表面摩擦
係数低減効果を得ることができない。
炭素数2〜10パーフルオロアルキル基を主鎖あるいは
側鎖に有する分子量1000から10000のオリゴマ
ーが好ましい。市販品としてはモディパー(日本油
脂)、サーフロン(旭硝子)、ディフェンサ(大日本イ
ンキ化学)等が上市されている。又添加量はバインダー
樹脂に対して0.05〜2%(重量比)、好ましくは
0.1〜1%が良い。バインダー樹脂に対して2%(重
量比)を越えて含有させると電荷移動物質やバインダー
樹脂との相溶性から塗工液が白濁する。又バインダー樹
脂に対して0.05%(重量比)未満であると表面摩擦
係数低減効果を得ることができない。
【0014】誘電性支持体としては、体積抵抗が1010
Ωcm以下の誘導性を示すもの、例えば、アルミニウ
ム、チタン、ニッケル、クロム、ニクロム、ハステロ
イ、パラジウム、マグネシウム、亜鉛、銅、金、白金な
どの金属及び合金、酸化錫、酸化インジウム、酸化アン
チモンなどの金属酸化物を、蒸着又はスパッタリング又
は樹脂バインダー中に分散して塗工することにより、フ
ィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙などに被覆
したもの、前記の金属または金属酸化物又は誘電性カー
ボンをフィルム状若しくは円筒状のプラスチック中に分
散含有させたもの或はアルミニウム、アルミニウム合
金、鉄、ニッケル、ニッケル合金、ステンレス合金、チ
タン合金等の板およびそれらをD.I.,I.I.,押
し出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上
げ、研磨等で表面処理した管等を使用することができ
る。
Ωcm以下の誘導性を示すもの、例えば、アルミニウ
ム、チタン、ニッケル、クロム、ニクロム、ハステロ
イ、パラジウム、マグネシウム、亜鉛、銅、金、白金な
どの金属及び合金、酸化錫、酸化インジウム、酸化アン
チモンなどの金属酸化物を、蒸着又はスパッタリング又
は樹脂バインダー中に分散して塗工することにより、フ
ィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙などに被覆
したもの、前記の金属または金属酸化物又は誘電性カー
ボンをフィルム状若しくは円筒状のプラスチック中に分
散含有させたもの或はアルミニウム、アルミニウム合
金、鉄、ニッケル、ニッケル合金、ステンレス合金、チ
タン合金等の板およびそれらをD.I.,I.I.,押
し出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上
げ、研磨等で表面処理した管等を使用することができ
る。
【0015】電荷発生層は、電荷発生材料のみか、電荷
発生材料を分散ないし相溶した樹脂層よりなる。
発生材料を分散ないし相溶した樹脂層よりなる。
【0016】電荷発生材料としては、例えば、シーアイ
ピグメントブルー25〔カラーインデックス(CI)21
180〕、シーアイピグメントレッド41(CI 21
200)、シーアイアシッドレッド52(CI 4510
0)、シーアイベーシックレッド3(CI 4521
0)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニ
ン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔料、
カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95
033号公報に記載)、スチルスチルベン骨格を有する
アゾ顔料(特開昭53−138229号公報に記載)、ト
リフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−
132547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記
載)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭5
4−12742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、
ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
7733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に
記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾール
骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767
号公報、同57−195768号公報に記載)等、さら
に、シーアイピグメントブルー16(CI 7410
0)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン5(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI
73030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレット
B(バイオレット社製)、インダスレンスカーレットR
(バイエル社製)等のペリレン系顔料等の有機顔料を使
用することができる。これら電荷発生材料の中でも特に
アゾ顔料が好適であり、更にアゾ顔料の中でも以下に示
すジスアゾ顔料あるいはトリスアゾ顔料が最も好まし
い。アゾ顔料の具体例を以下に示す。なお、表におい
て、A1,A2,A3は同一でも異なっていてもよい。
ピグメントブルー25〔カラーインデックス(CI)21
180〕、シーアイピグメントレッド41(CI 21
200)、シーアイアシッドレッド52(CI 4510
0)、シーアイベーシックレッド3(CI 4521
0)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニ
ン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔料、
カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95
033号公報に記載)、スチルスチルベン骨格を有する
アゾ顔料(特開昭53−138229号公報に記載)、ト
リフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−
132547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記
載)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭5
4−12742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、
ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
7733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に
記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾール
骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767
号公報、同57−195768号公報に記載)等、さら
に、シーアイピグメントブルー16(CI 7410
0)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン5(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI
73030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレット
B(バイオレット社製)、インダスレンスカーレットR
(バイエル社製)等のペリレン系顔料等の有機顔料を使
用することができる。これら電荷発生材料の中でも特に
アゾ顔料が好適であり、更にアゾ顔料の中でも以下に示
すジスアゾ顔料あるいはトリスアゾ顔料が最も好まし
い。アゾ顔料の具体例を以下に示す。なお、表におい
て、A1,A2,A3は同一でも異なっていてもよい。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【表3】
【0020】
【表4】
【0021】
【表5】
【0022】
【表6】
【0023】
【表7】
【0024】
【表8】
【0025】
【表9】
【0026】
【表10】
【0027】
【表11】
【0028】
【表12】
【0029】
【表13】
【0030】
【表14】
【0031】
【表15】 電荷発生層の膜厚は、0.05〜2μm程度が適当であ
り、好ましくは、0.1〜1μmである。電荷発生層は
適当な溶剤に樹脂バインダーと共に電荷発生材を分散な
いし相溶し、これを基体上にもしくは下引相上に塗布・
乾燥することによって形成される。このような樹脂バイ
ンダーとしては、ポリスレチレン、スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−アクリルニトリル共重合体、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ
アリレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アクレート、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、
エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアセタール、ポリビニルホルマール、フェノキシ樹
脂、ポリビニルピリジン、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、アクリル樹脂、シリコン樹脂、ニトリルゴム、クロ
ロプレンゴム、ブタジエンゴム、エポキシ樹脂、メラミ
ン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂
等の、熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。これ
らのバインダー材料は単独または混合して用いられる。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メ
チレン、ジクロルエタン、モノクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、エチルアルコール、メチルアルコール、ブ
チルアルコール、イソプロピルアルコール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、シクロヘキサン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブなどがあり、これら溶剤も単独又
は混合して用いることができる。
り、好ましくは、0.1〜1μmである。電荷発生層は
適当な溶剤に樹脂バインダーと共に電荷発生材を分散な
いし相溶し、これを基体上にもしくは下引相上に塗布・
乾燥することによって形成される。このような樹脂バイ
ンダーとしては、ポリスレチレン、スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−アクリルニトリル共重合体、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ
アリレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アクレート、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、
エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアセタール、ポリビニルホルマール、フェノキシ樹
脂、ポリビニルピリジン、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、アクリル樹脂、シリコン樹脂、ニトリルゴム、クロ
ロプレンゴム、ブタジエンゴム、エポキシ樹脂、メラミ
ン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂
等の、熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。これ
らのバインダー材料は単独または混合して用いられる。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メ
チレン、ジクロルエタン、モノクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、エチルアルコール、メチルアルコール、ブ
チルアルコール、イソプロピルアルコール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、シクロヘキサン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブなどがあり、これら溶剤も単独又
は混合して用いることができる。
【0032】本発明で用いる電子移動物質としては、ポ
リ−N−アルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カ
ルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレ
ン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニ
ルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導
体、および下式で示される化合物がある。 (1)(特開昭55−154955号、特開昭1569
54号公報に記載)
リ−N−アルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カ
ルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレ
ン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニ
ルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導
体、および下式で示される化合物がある。 (1)(特開昭55−154955号、特開昭1569
54号公報に記載)
【化1】 〔式中、R1はメチル基、エチル基、2−ヒドロキシエ
チル基又は2−クロルエチル基を表わし、R2はメチル
基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、R
3は水素、塩素、臭素、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数1〜4のアルコキシル基、ジアルキルアミノ基又は
ニトロ基を表わす。〕 (2)(特開昭55−52063号公報に記載)
チル基又は2−クロルエチル基を表わし、R2はメチル
基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、R
3は水素、塩素、臭素、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数1〜4のアルコキシル基、ジアルキルアミノ基又は
ニトロ基を表わす。〕 (2)(特開昭55−52063号公報に記載)
【化2】 〔式中、Arはナフタレン類、アントラセン類、スチリ
ル基及びそれらの置換体あるいはピリジン類、フラン
類、チオフェン類を表わし、Rはアルキル基又はベンジ
ル基を表わす。〕 (3)(特開昭56−81850号公報に記載)
ル基及びそれらの置換体あるいはピリジン類、フラン
類、チオフェン類を表わし、Rはアルキル基又はベンジ
ル基を表わす。〕 (3)(特開昭56−81850号公報に記載)
【化3】 〔式中、R1はアルキル基、ベンジル基、フェニル基、
ナフチル基を表わし、R2は水素、炭素数1〜3のアル
キル基、炭素数1〜3のアルコキル基、ジアルキルアミ
ノ基、ジアラルキルアミノ基またはジアリールアミノ基
を表わし、nは1〜4の整数を表わし、nが2以上のと
きはR2は同じでも異なっていてもよい。R3は水素また
はメトキシ基を表わす。〕 (4)(特公昭51−10983号公報に記載)
ナフチル基を表わし、R2は水素、炭素数1〜3のアル
キル基、炭素数1〜3のアルコキル基、ジアルキルアミ
ノ基、ジアラルキルアミノ基またはジアリールアミノ基
を表わし、nは1〜4の整数を表わし、nが2以上のと
きはR2は同じでも異なっていてもよい。R3は水素また
はメトキシ基を表わす。〕 (4)(特公昭51−10983号公報に記載)
【化4】 〔式中、R1は炭素数1〜11のアルキル基、置換もし
くは無置換のフェニル基又は複素環基を表わし、R2、
R3はそれぞれ同一でも異なっていてもよく水素、炭素
数1ー4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、クロル
アルキル基、置換又は無置換のアラルキル基を表わし、
また、R2とR3は互いに結合し窒素を含む複素環を形成
していてもよい。R4は同一でも異なっていてもよく水
素、炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基又はハロ
ゲンを表わす。〕 (5)(特開昭51−94829号公報に記載)
くは無置換のフェニル基又は複素環基を表わし、R2、
R3はそれぞれ同一でも異なっていてもよく水素、炭素
数1ー4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、クロル
アルキル基、置換又は無置換のアラルキル基を表わし、
また、R2とR3は互いに結合し窒素を含む複素環を形成
していてもよい。R4は同一でも異なっていてもよく水
素、炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基又はハロ
ゲンを表わす。〕 (5)(特開昭51−94829号公報に記載)
【化5】 〔式中、Rは水素またはハロゲン原子を表わし、Arは
置換または無置換のフェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基あるいはカルバゾリル基を表わす。〕 (6)(特開昭52−128373号公報に記載)
置換または無置換のフェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基あるいはカルバゾリル基を表わす。〕 (6)(特開昭52−128373号公報に記載)
【化6】 〔式中、R1は水素、ハロゲン、シアノ基、炭素数1〜
4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキル基を表
わし、Arは
4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキル基を表
わし、Arは
【化6−(1)】 を表わし、R2は炭素数1〜4のアルキル基を表わし、
R3は水素、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数1〜4のアルコキシ基またはジアルキルアミノ基を
表わし、nは1または2であって、nが2のときはR3
は同一でも異なってもよく、R4および水素、炭素数1
〜4の置換または無置換のアルキル基あるいは置換また
は無置換のベンジル基を表わす。〕 (7)(特開昭56−29245号公報に記載)
R3は水素、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数1〜4のアルコキシ基またはジアルキルアミノ基を
表わし、nは1または2であって、nが2のときはR3
は同一でも異なってもよく、R4および水素、炭素数1
〜4の置換または無置換のアルキル基あるいは置換また
は無置換のベンジル基を表わす。〕 (7)(特開昭56−29245号公報に記載)
【化7】 〔式中、Rはカルバゾリル基、ピリジン基、チエニル
基、インドリル基、フリル基或いは置換もしくは非置換
のフェニル基、スチリル基、ナフチル基またはアントリ
ル基であって、これらの置換基がジアルキルアミノ基、
アルキル基、アルコキシ基、カルボキシ基又はそのエス
テル、ハロゲン原子、シアノ基、アラルキルアミノ基、
N−アルキル−N−アラルキルアミノ基、アミノ基、ニ
トロ基およびアセチルアミノ基からなる群から選ばれた
基を表わす。〕 (8)(特開昭58−58552号公報に記載)
基、インドリル基、フリル基或いは置換もしくは非置換
のフェニル基、スチリル基、ナフチル基またはアントリ
ル基であって、これらの置換基がジアルキルアミノ基、
アルキル基、アルコキシ基、カルボキシ基又はそのエス
テル、ハロゲン原子、シアノ基、アラルキルアミノ基、
N−アルキル−N−アラルキルアミノ基、アミノ基、ニ
トロ基およびアセチルアミノ基からなる群から選ばれた
基を表わす。〕 (8)(特開昭58−58552号公報に記載)
【化8】 〔式中、R1は低級アルキル基またはベンジル基を表わ
し、R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級ア
ルキル基またはベンジル基で置換されたアミノ基を表わ
し、nは1または2の整数を表わす。〕 (9)(特開昭57−73075号公報に記載)
し、R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級ア
ルキル基またはベンジル基で置換されたアミノ基を表わ
し、nは1または2の整数を表わす。〕 (9)(特開昭57−73075号公報に記載)
【化9】 〔式中、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基ま
たはハロゲン原子を表わし、R2およびR3はアルキル
基、置換または無置換のアラルキル基あるいは置換また
は無置換アリール基を表わし、R4は水素原子または置
換もしくは無置換のフェニル基を表わし、また、Arは
置換もしくは無置換のフェニル基またはナフチル基を表
わす。〕 (10)(特開昭58−198043号公報に記載)
たはハロゲン原子を表わし、R2およびR3はアルキル
基、置換または無置換のアラルキル基あるいは置換また
は無置換アリール基を表わし、R4は水素原子または置
換もしくは無置換のフェニル基を表わし、また、Arは
置換もしくは無置換のフェニル基またはナフチル基を表
わす。〕 (10)(特開昭58−198043号公報に記載)
【化10】 〔式中、nは0または1の整数、R1は水素原子、アル
キル基または置換もしくは無置換のフェニル基を示し、
Ar1は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、R5
は置換アルキル基を含むアルキル基、あるいは置換もし
くは無置換のアリール基を表わし、Aは
キル基または置換もしくは無置換のフェニル基を示し、
Ar1は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、R5
は置換アルキル基を含むアルキル基、あるいは置換もし
くは無置換のアリール基を表わし、Aは
【化10−(1)】 9−アントリル基または置換もしくは無置換のN−アル
キルカルバゾリル基を表わし、ここでR4は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子または 基、置換または無置換のアリール基を示し、R5および
R6は環を形成してもよい)を表わし、mは0,1,2
または3の整数であって、mが2以上のときはR2は同
一でも異なってもよい。〕 (11)(特開昭49−105537号公報に記載)
キルカルバゾリル基を表わし、ここでR4は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子または 基、置換または無置換のアリール基を示し、R5および
R6は環を形成してもよい)を表わし、mは0,1,2
または3の整数であって、mが2以上のときはR2は同
一でも異なってもよい。〕 (11)(特開昭49−105537号公報に記載)
【化11】 〔式中、R1、R2およびR3R3は水素、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ジアルキルアミノ基またはハロ
ゲン原子を表わし、nは0または1を表わす。〕 (12)(特開昭52−139066号公報に記載)
基、低級アルコキシ基、ジアルキルアミノ基またはハロ
ゲン原子を表わし、nは0または1を表わす。〕 (12)(特開昭52−139066号公報に記載)
【化12】 〔式中、R1およびR2は置換アルキル基を含むアルキル
基、または置換もしくは未置換のアリール基を表し、A
は置換アミノ基、または置換もしくは未置換のアリール
基またはアリル基を表す。〕
基、または置換もしくは未置換のアリール基を表し、A
は置換アミノ基、または置換もしくは未置換のアリール
基またはアリル基を表す。〕
【化13】 〔式中、Xは水素原子、低級アルキル基、またはハロゲ
ン原子を表し、Rは置換アルキル基を含むアルキル基、
または置換もしくは未置換のアリール基を表わし、Aは
置換アミノ基または置換もしくは未置換のアリール基を
表す。〕化1で表せられる化合物には、例えば、9−エ
チルカルバゾール−3−アルデヒド−1−メチル−1−
フェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−ア
ルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、9
−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−1,1−ジフ
ェニルヒドラゾンなどがある。化2で表せられる化合物
には、例えば、4−ジエチルアミノスチリル−β−アル
デヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、4−メ
トキシナフタレン−1−アルデヒド−1−べンジル−1
−フェニルヒドラゾンなどがある。化3で表せられる化
合物には、例えば、4−メトキシベンズアルデヒド−1
−メチル−1−フェニルヒドラゾン、2,4−ジメトキ
シベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒド
ラゾン、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1
−ジフェニルヒドラゾン、4−メトキシベンズアルデヒ
ド−1−ベンジル−1−(4−メトキシ)フェニルヒド
ラゾン、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−1−
ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジベンジルア
ミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン
などがある。化4で表せられる化合物には、例えば、
1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパ
ン、トリス(4−ジエチルアミノフェニル)メタン、
1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパ
ン、2,2’−ジメチル−4,4’−ビス(ジエチルア
ミノ)−トリフェニルメタンなどがある。化5で表せら
れる化合物には、例えば、9−(4−ジエチルアミノス
チリル)アントラセン、9−ブロム−10−(4−ジエ
チルアミノスチリル)アントラセンなどがある。化6で
表せられる化合物には、例えば、9−(4−ジメチルア
ミノベンジリデン)フルオレン、3−(9−フルオレニ
リデン)−9−エチルカルバゾールなどがある。化7で
表せられる化合物には、例えば、1,2−ビス(4−ジ
エチルアミノスチリル)べンゼンがある。化8で表せら
れる化合物には、例えば、3−スチリル−9−エチルカ
ルバゾール、3−(4−メトキシスチリル)−9−エチ
ルカルバゾールなどがある。化9で表せられる化合物に
は、例えば、4−ジフェニルアミノスチルベン、4−ジ
ベンジルアミノスチルベン、4−ジトリルアミノスチル
ベン、1−(4−ジフェニルアミノスチリル)ナフタレ
ン、1−(4−ジエチルアミノスチリル)ナフタレンな
どがある。化10で表せられる化合物には、例えば、
4’−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、
4’−N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ−α
−フェニルスチルベンなどがある。化11で表せられる
化合物には、例えば、1−フェニル−3−(4−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−フェニル−3−(4−ジメチルア
ミノスチリル)−5−(4−ジメチルアミノフェニル)
ピラゾリンなどがある。化12で表せられる化合物に
は、例えば、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−N,N−ジ
フェニルアミノ−5−(4−ジエチルアミノフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−ジメチル
アミノフェニル)−5(4−ジメチルアミノフェニル)
1.3,4−オキサジアゾールなどがある。化13で表
せられる化合物には、例えば、2−N,N−ジフェニル
アミノ−5−(N−エチルカルバゾール−3−イル)−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−ジエチルア
ミノフェニル)−5−(N−エチルカルバゾール−3−
イル)−1,3,4−オキサジアゾールなどがある。電
子供与性化合物のさらに他の例を、以下に列挙する。 (14)(特公昭58−32372号公報に記載)
ン原子を表し、Rは置換アルキル基を含むアルキル基、
または置換もしくは未置換のアリール基を表わし、Aは
置換アミノ基または置換もしくは未置換のアリール基を
表す。〕化1で表せられる化合物には、例えば、9−エ
チルカルバゾール−3−アルデヒド−1−メチル−1−
フェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−ア
ルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、9
−エチルカルバゾール−3−アルデヒド−1,1−ジフ
ェニルヒドラゾンなどがある。化2で表せられる化合物
には、例えば、4−ジエチルアミノスチリル−β−アル
デヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、4−メ
トキシナフタレン−1−アルデヒド−1−べンジル−1
−フェニルヒドラゾンなどがある。化3で表せられる化
合物には、例えば、4−メトキシベンズアルデヒド−1
−メチル−1−フェニルヒドラゾン、2,4−ジメトキ
シベンズアルデヒド−1−ベンジル−1−フェニルヒド
ラゾン、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1
−ジフェニルヒドラゾン、4−メトキシベンズアルデヒ
ド−1−ベンジル−1−(4−メトキシ)フェニルヒド
ラゾン、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−1−
ベンジル−1−フェニルヒドラゾン、4−ジベンジルア
ミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン
などがある。化4で表せられる化合物には、例えば、
1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパ
ン、トリス(4−ジエチルアミノフェニル)メタン、
1,1−ビス(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパ
ン、2,2’−ジメチル−4,4’−ビス(ジエチルア
ミノ)−トリフェニルメタンなどがある。化5で表せら
れる化合物には、例えば、9−(4−ジエチルアミノス
チリル)アントラセン、9−ブロム−10−(4−ジエ
チルアミノスチリル)アントラセンなどがある。化6で
表せられる化合物には、例えば、9−(4−ジメチルア
ミノベンジリデン)フルオレン、3−(9−フルオレニ
リデン)−9−エチルカルバゾールなどがある。化7で
表せられる化合物には、例えば、1,2−ビス(4−ジ
エチルアミノスチリル)べンゼンがある。化8で表せら
れる化合物には、例えば、3−スチリル−9−エチルカ
ルバゾール、3−(4−メトキシスチリル)−9−エチ
ルカルバゾールなどがある。化9で表せられる化合物に
は、例えば、4−ジフェニルアミノスチルベン、4−ジ
ベンジルアミノスチルベン、4−ジトリルアミノスチル
ベン、1−(4−ジフェニルアミノスチリル)ナフタレ
ン、1−(4−ジエチルアミノスチリル)ナフタレンな
どがある。化10で表せられる化合物には、例えば、
4’−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、
4’−N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ−α
−フェニルスチルベンなどがある。化11で表せられる
化合物には、例えば、1−フェニル−3−(4−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−フェニル−3−(4−ジメチルア
ミノスチリル)−5−(4−ジメチルアミノフェニル)
ピラゾリンなどがある。化12で表せられる化合物に
は、例えば、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−N,N−ジ
フェニルアミノ−5−(4−ジエチルアミノフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−ジメチル
アミノフェニル)−5(4−ジメチルアミノフェニル)
1.3,4−オキサジアゾールなどがある。化13で表
せられる化合物には、例えば、2−N,N−ジフェニル
アミノ−5−(N−エチルカルバゾール−3−イル)−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−ジエチルア
ミノフェニル)−5−(N−エチルカルバゾール−3−
イル)−1,3,4−オキサジアゾールなどがある。電
子供与性化合物のさらに他の例を、以下に列挙する。 (14)(特公昭58−32372号公報に記載)
【化14】 〔式中、R1は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ま
たはハロゲン原子を表し、nは0〜4の整数を表わし、
R2,R3は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子
を表す。〕 (15)(特願平1−280763に記載)
たはハロゲン原子を表し、nは0〜4の整数を表わし、
R2,R3は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲン原子
を表す。〕 (15)(特願平1−280763に記載)
【化15】 〔式中、R1,R3およびR4は水素原子、アミノ基、ア
ルコキシ基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、メ
チレンジオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル基、
ハロゲン原子、または置換もしくは未置換のアリール基
を、R2は水素原子、アルコキシ基、置換もしくは未置
換のアルキル基、またはハロゲンを表わす。ただし、R
1,R2,R3およびR4はすべて水素原子である場合は除
く。また、k,l,mおよびnは1,2,3または4の
整数であり、各々が2,3または4の整数のときは、前
記R1,R2,R3およびR4は同じでも異なっていてもよ
い。〕 (16)(特願平1−77839号に記載)
ルコキシ基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、メ
チレンジオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル基、
ハロゲン原子、または置換もしくは未置換のアリール基
を、R2は水素原子、アルコキシ基、置換もしくは未置
換のアルキル基、またはハロゲンを表わす。ただし、R
1,R2,R3およびR4はすべて水素原子である場合は除
く。また、k,l,mおよびnは1,2,3または4の
整数であり、各々が2,3または4の整数のときは、前
記R1,R2,R3およびR4は同じでも異なっていてもよ
い。〕 (16)(特願平1−77839号に記載)
【化16】 〔式中、Arは炭素数18個以下の縮合多環式炭化水素
基を表わし、またR1およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、アルコキシ基、
置換もしくは未置換のフェニル基を表わし、それぞれ同
じでも異なっていてもよい。〕
基を表わし、またR1およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、アルコキシ基、
置換もしくは未置換のフェニル基を表わし、それぞれ同
じでも異なっていてもよい。〕
【0033】(17)(特願昭62−98394号に記
載)
載)
【化17】A−CH=CH−Ar−CH=CH−A 〔式中、Arは置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基
を表し、Aは、 水素基を表し、R1およびR2は置換もしくは未置換のア
ルキル基、または置換もしくは未置換のアルキル基、ア
リール基である)を表す。〕
を表し、Aは、 水素基を表し、R1およびR2は置換もしくは未置換のア
ルキル基、または置換もしくは未置換のアルキル基、ア
リール基である)を表す。〕
【0034】(18)(特願平2−94812号に記
載)
載)
【化18】 〔式中、Arは芳香族炭化水素基、水素原子、置換もし
くは未置換のアルキル基、アリール基を表す。nは0ま
たは1、mは1または2であって、n=0、m=1の場
合、ArとRは共同で環を形成してもよい。〕
くは未置換のアルキル基、アリール基を表す。nは0ま
たは1、mは1または2であって、n=0、m=1の場
合、ArとRは共同で環を形成してもよい。〕
【0035】化14で表せられるベンジジン化合物に
は、例えば、N,N’−ジフェニル−ビス(3−メチル
フェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジ
アミン、3,3’−ジメチル−N,N,N’,N’−テ
トラキス(4−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェ
ニル]−4,4’−ジアミンなどがある。化15で表せ
られるビフェニルアミン化合物には、例えば、4’−メ
トキシ−N,N−ジフェニル−[1,1’−ビフェニ
ル]−4−アミン、4’−メチル−N,N−ビス(4−
メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4−ア
ミン、4’−メトキシ−N,N−ビス(4−メチルフェ
ニル)−[1,1’−ビフェニル]−4−アミンなどが
ある。化16で表せられるトリアノールアミン化合物に
は、例えば、1−N,N−ジフェニルアミノピレン、1
−N,N−ビス(p−トリルアミノ)ピレンなどがあ
る。化17で表せられるジオレフィン芳香族化合物に
は、例えば、1,4−ビス(4−N,N−ジフェニルア
ミノ)スチリルベンゼン、1,4−ビス[4−N,N−
ビス(p−トリル)アミノ]スチリルベンゼンなどがあ
る。化18で表せられるスチルピレン化合物には、例え
ば、1−(4−N,N−ジフェニルアミノ)スチリルピ
レン、1−[4−N,N−ビス(p−トリル)アミノ]
スチルピレンなどがある。
は、例えば、N,N’−ジフェニル−ビス(3−メチル
フェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジ
アミン、3,3’−ジメチル−N,N,N’,N’−テ
トラキス(4−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェ
ニル]−4,4’−ジアミンなどがある。化15で表せ
られるビフェニルアミン化合物には、例えば、4’−メ
トキシ−N,N−ジフェニル−[1,1’−ビフェニ
ル]−4−アミン、4’−メチル−N,N−ビス(4−
メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4−ア
ミン、4’−メトキシ−N,N−ビス(4−メチルフェ
ニル)−[1,1’−ビフェニル]−4−アミンなどが
ある。化16で表せられるトリアノールアミン化合物に
は、例えば、1−N,N−ジフェニルアミノピレン、1
−N,N−ビス(p−トリルアミノ)ピレンなどがあ
る。化17で表せられるジオレフィン芳香族化合物に
は、例えば、1,4−ビス(4−N,N−ジフェニルア
ミノ)スチリルベンゼン、1,4−ビス[4−N,N−
ビス(p−トリル)アミノ]スチリルベンゼンなどがあ
る。化18で表せられるスチルピレン化合物には、例え
ば、1−(4−N,N−ジフェニルアミノ)スチリルピ
レン、1−[4−N,N−ビス(p−トリル)アミノ]
スチルピレンなどがある。
【0036】特に負電荷、すなわち電子を輸送する物質
を電子写真感光体に用いることもある。電子輸送物質と
しては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシ
ノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−
トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テト
ラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラ
ニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサン
トン、2,6,8−トリニトロ−インデノ4H−インデ
ノ[1,2−b]チオフェン−4−オン、1,3,7−
トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド
などがある。
を電子写真感光体に用いることもある。電子輸送物質と
しては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシ
ノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−
トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テト
ラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラ
ニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサン
トン、2,6,8−トリニトロ−インデノ4H−インデ
ノ[1,2−b]チオフェン−4−オン、1,3,7−
トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド
などがある。
【0037】以上の電荷移動物質を、相溶ないし分散せ
る電荷移動層の樹脂バインダーとしては、ポリカーボネ
ート、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリエステ
ル、ポリスチレン、スチレン−アクリルニトリル共重合
体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マ
イレン酸共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、フェノキシ樹相、酢酸セルロース、エチルセルロー
ス、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、シ
リコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂等の、熱可塑または
熱硬化性樹脂が挙げられる。これらは、単独で用いても
混合して用いてもよい。
る電荷移動層の樹脂バインダーとしては、ポリカーボネ
ート、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリエステ
ル、ポリスチレン、スチレン−アクリルニトリル共重合
体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マ
イレン酸共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、フェノキシ樹相、酢酸セルロース、エチルセルロー
ス、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、シ
リコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂等の、熱可塑または
熱硬化性樹脂が挙げられる。これらは、単独で用いても
混合して用いてもよい。
【0038】この時の溶剤としては、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、シクロヘキサン、トルエン、モノクロ
ルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチレン等が使用で
きる。溶剤もまた、単独で用いても、2種以上を混合し
て用いてもよい。
ン、ジオキサン、シクロヘキサン、トルエン、モノクロ
ルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチレン等が使用で
きる。溶剤もまた、単独で用いても、2種以上を混合し
て用いてもよい。
【0039】また、必要により可塑剤やレべリング剤を
添加してもよい。可塑剤としては、例えばハロゲン化パ
ラフィン、ジメチルナフタレン、ジブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等や
ポリエステル等の重合体及び共重合体などがあげられ
る。レベリング剤としてはシリコンオイルやパーフルオ
ロ基含有オリゴマーまたはポリマー等があげられる。
添加してもよい。可塑剤としては、例えばハロゲン化パ
ラフィン、ジメチルナフタレン、ジブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等や
ポリエステル等の重合体及び共重合体などがあげられ
る。レベリング剤としてはシリコンオイルやパーフルオ
ロ基含有オリゴマーまたはポリマー等があげられる。
【0040】更に、本発明においては、支持体と前記感
光層の間に、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルアセタール、ポリアクリル酸、ポリヒドロキシメ
タクリレート、エポキシ樹脂等の中間層あるいは前記樹
脂と白色顔料たとえば酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグ
ネシウム、硫酸バリウム、リトポンからなる白色顔料層
を設けることもできる。中間層または白色顔料層の膜厚
は0.05〜10μmが適当であり、好ましくは0.2
〜5μmの膜厚とする。
光層の間に、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルアセタール、ポリアクリル酸、ポリヒドロキシメ
タクリレート、エポキシ樹脂等の中間層あるいは前記樹
脂と白色顔料たとえば酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグ
ネシウム、硫酸バリウム、リトポンからなる白色顔料層
を設けることもできる。中間層または白色顔料層の膜厚
は0.05〜10μmが適当であり、好ましくは0.2
〜5μmの膜厚とする。
【0041】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。 実施例1 80mmφのアルミニウムシリンダー上にポリアミド
(CM8000,東レ社製)を約0.2μmの下引き層
として形成し、その上に下記アゾ顔料のシクロヘキサノ
ン分散液を浸漬塗工及び加熱乾燥して約0.1μmの電
荷発生層を形成した。
(CM8000,東レ社製)を約0.2μmの下引き層
として形成し、その上に下記アゾ顔料のシクロヘキサノ
ン分散液を浸漬塗工及び加熱乾燥して約0.1μmの電
荷発生層を形成した。
【化19】 次に下記構造式化20で示される電荷移動物質(D)と
下記構造式化21で示され粘度平均分子量5万であるバ
インダー樹脂(R)とをD/R=5/10(重量比)、
固形分濃度15%(溶媒:塩化メチレン溶液)となるよ
うに調製した後シリコンオイル(KF−50,信越シリ
コーン社製)を0.1%(対R比)加えた電荷移動層用
塗布液(溶媒:塩化メチレン溶液)を電荷発生層上に浸
漬塗工及び加熱乾燥して約22μmの電荷移動層を形成
して電子写真感光体を作成した。
下記構造式化21で示され粘度平均分子量5万であるバ
インダー樹脂(R)とをD/R=5/10(重量比)、
固形分濃度15%(溶媒:塩化メチレン溶液)となるよ
うに調製した後シリコンオイル(KF−50,信越シリ
コーン社製)を0.1%(対R比)加えた電荷移動層用
塗布液(溶媒:塩化メチレン溶液)を電荷発生層上に浸
漬塗工及び加熱乾燥して約22μmの電荷移動層を形成
して電子写真感光体を作成した。
【化20】
【化21】
【0042】次に上記電子写真感光体を通常のカールソ
ンプロセスによる下記仕様の複写機に搭載して10万枚
の複写テストを行ない画像評価及び複写テスト前後の感
光層膜厚を渦電流式膜厚計で測定した。 (複写機仕様) クリーニングブレードについて 材質:ポリウレタン系樹脂 反発弾性:50% 硬度:70° 当接角:20° クリーニングブラシについて 材質:アクリル系樹脂 コピースピード:40枚/分 又上記仕様の複写機から帯電器、現像器、転写器、クリ
ーニングブラシを取り除きトルクメーターを取付けた改
造機に複写テスト前の電子写真感光体を装着した後電子
写真感光体上に現像剤の薄層を設け露光、通紙無しにク
リーニングブレードのみ当接させて電子写真感光体を回
転させ検知したトルクより表面摩擦係数を求めた。
ンプロセスによる下記仕様の複写機に搭載して10万枚
の複写テストを行ない画像評価及び複写テスト前後の感
光層膜厚を渦電流式膜厚計で測定した。 (複写機仕様) クリーニングブレードについて 材質:ポリウレタン系樹脂 反発弾性:50% 硬度:70° 当接角:20° クリーニングブラシについて 材質:アクリル系樹脂 コピースピード:40枚/分 又上記仕様の複写機から帯電器、現像器、転写器、クリ
ーニングブラシを取り除きトルクメーターを取付けた改
造機に複写テスト前の電子写真感光体を装着した後電子
写真感光体上に現像剤の薄層を設け露光、通紙無しにク
リーニングブレードのみ当接させて電子写真感光体を回
転させ検知したトルクより表面摩擦係数を求めた。
【0043】実施例2 シリコンオイルの添加量を2%に変えた以外は実施例1
と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0044】実施例3 シリコンオイルの添加量を0.05%に変えた以外は実
施例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
施例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0045】実施例4 シリコンオイルの添加量を5%に変えた以外は実施例1
と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0046】実施例5 フッソ系界面活性剤(デイフェンサMCF300、大日
本インキ社製)を0.1%(対R比)加えた以外は実施
例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
本インキ社製)を0.1%(対R比)加えた以外は実施
例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0047】実施例6 フッソ系界面活性剤の添加量を1%に変えた以外は実施
例5と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
例5と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0048】実施例7 フッソ系界面活性剤の添加量を0.05%に変えた以外
は実施例5と同様にしてサンプル作成、評価を行なっ
た。
は実施例5と同様にしてサンプル作成、評価を行なっ
た。
【0049】実施例8 フッソ系界面活性剤の添加量を2%に変えた以外は実施
例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0050】実施例9 フッソ系界面活性剤をデイフェンサMCF300(大日
本インキ社製)に変えた以外は実施例5と同様にしてサ
ンプル作成、評価を行なった。
本インキ社製)に変えた以外は実施例5と同様にしてサ
ンプル作成、評価を行なった。
【0051】実施例10 フッソ系界面活性剤をモディパーFT1329(日本油
脂社製)に変えた以外は実施例5と同様にしてサンプル
作成、評価を行なった。
脂社製)に変えた以外は実施例5と同様にしてサンプル
作成、評価を行なった。
【0052】比較例1 シリコンオイルの添加量を0.01%に変えた以外は実
施例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
施例1と同様にしてサンプル作成、評価を行なった。
【0053】比較例2 シリコンオイルの添加量を10%に変えた以外は実施例
1と同様にしてサンプルを作成しようとしたが、塗工液
が白濁したためサンプルが作成できなかった。
1と同様にしてサンプルを作成しようとしたが、塗工液
が白濁したためサンプルが作成できなかった。
【0054】比較例3 シリコンオイルの添加無しにフッソ界面活性剤を0.1
%加えた以外実施例1と同様にしてサンプル作成、評価
を行なった。
%加えた以外実施例1と同様にしてサンプル作成、評価
を行なった。
【0055】比較例4 フッソ系界面活性剤の添加量を5%に変えた以外は実施
例1と同様にしてサンプルを作成しようとしたが、塗工
液が白濁したためサンプルが作成できなかった。
例1と同様にしてサンプルを作成しようとしたが、塗工
液が白濁したためサンプルが作成できなかった。
【0056】結果を表16に示す。
【表16】 比較例1と比較例3はクリーニングブレードにヒビリが
発生しクリーニング不良が生じた為複写テストを行えな
かった。
発生しクリーニング不良が生じた為複写テストを行えな
かった。
【0057】実施例11 80mmφのアルミニウムシリンダー上に下記中間層用
塗工液を浸漬塗工及び加熱乾燥して約30μmの中間層
を設けた。 (中間層用塗工液) アルキド樹脂(ベッコライトM−6401、大日本インキ社製) 3重量部 メラミン樹脂(スーパーベッカミンG−821、大日本インキ社製)2重量部 TiO2(CR−EL、石原産業社製) 30重量部 メチルエチルケトン 15重量部 から成る液を24時間分散した後メチルエチルケトン/
イソプロピルアルコール=11/9重量部で稀釈して中
間層用塗工液とした。次に、この上に下記アゾ顔料のシ
クロヘキサノン分散液を浸漬塗工及び加熱乾燥して約
0.1μmの電荷発生層を形成した。
塗工液を浸漬塗工及び加熱乾燥して約30μmの中間層
を設けた。 (中間層用塗工液) アルキド樹脂(ベッコライトM−6401、大日本インキ社製) 3重量部 メラミン樹脂(スーパーベッカミンG−821、大日本インキ社製)2重量部 TiO2(CR−EL、石原産業社製) 30重量部 メチルエチルケトン 15重量部 から成る液を24時間分散した後メチルエチルケトン/
イソプロピルアルコール=11/9重量部で稀釈して中
間層用塗工液とした。次に、この上に下記アゾ顔料のシ
クロヘキサノン分散液を浸漬塗工及び加熱乾燥して約
0.1μmの電荷発生層を形成した。
【化22】
【0058】次に下記式構造式化23で示される電荷移
動物質(D)と下記構造式化24で示され粘度平均分子
量5万であるバインダー樹脂(R)とD/R=5/10
(重量比)、固形分濃度15%(溶媒:塩化メチレン溶
液)となるように調整した後シリコンオイル(KF−5
0、信越シリコーン社製)を1.0%(対R比)、フッ
ソ系界面活性剤(モディパーFT1329,日本油脂社
製)を0.1%(対R比)を加えた電荷移動層用塗布液
(溶媒:塩化メチレン溶液)を電荷発生層上に浸漬塗工
及び加熱乾燥して約30μmの電荷移動層を形成して電
子写真感光体を作成した。
動物質(D)と下記構造式化24で示され粘度平均分子
量5万であるバインダー樹脂(R)とD/R=5/10
(重量比)、固形分濃度15%(溶媒:塩化メチレン溶
液)となるように調整した後シリコンオイル(KF−5
0、信越シリコーン社製)を1.0%(対R比)、フッ
ソ系界面活性剤(モディパーFT1329,日本油脂社
製)を0.1%(対R比)を加えた電荷移動層用塗布液
(溶媒:塩化メチレン溶液)を電荷発生層上に浸漬塗工
及び加熱乾燥して約30μmの電荷移動層を形成して電
子写真感光体を作成した。
【化23】
【化24】
【0059】次に上記電子写真感光体を通常のカールソ
ンプロセスによる下記仕様の複写機に搭載して10万枚
の複写テストを行い画像評価及び複写テスト前後の感光
層膜厚を渦電流式膜厚計で測定した。 (複写機仕様) クリーニングブレードについて 材質:ポリウレタン系樹脂 反発弾性:55% 硬度:65° 当接角:15° 当接圧:17g/cm クリーニングブラシについて 材質:ポリエステル系樹脂 コピースピード:60枚/分
ンプロセスによる下記仕様の複写機に搭載して10万枚
の複写テストを行い画像評価及び複写テスト前後の感光
層膜厚を渦電流式膜厚計で測定した。 (複写機仕様) クリーニングブレードについて 材質:ポリウレタン系樹脂 反発弾性:55% 硬度:65° 当接角:15° 当接圧:17g/cm クリーニングブラシについて 材質:ポリエステル系樹脂 コピースピード:60枚/分
【0060】実施例12 フッソ系界面活性剤をディフェンサMCF312(大日
本インキ社製)に変えた以外は実施例11と同様にして
サンプルを作成、同様の評価を行った。
本インキ社製)に変えた以外は実施例11と同様にして
サンプルを作成、同様の評価を行った。
【0061】実施例13 クリーニングブレードの当接角を10°に変えた以外は
実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を
行った。
実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を
行った。
【0062】実施例14 クリーニングブレードの当接角を30°に変えた以外は
実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を
行った。
実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を
行った。
【0063】比較例5 クリーニングブレードの当接角を3°に変えた以外は実
施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を行
った。
施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を行
った。
【0064】比較例6 クリーニングブレードの当接角を60°に変えた以外は
実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を
行った。
実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価を
行った。
【0065】比較例7 クリーニングブレードの当接角を110°に変えた以外
は実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価
を行った。複写テスト結果を表17に示す。
は実施例11と同様にしてサンプルを作成、同様の評価
を行った。複写テスト結果を表17に示す。
【0066】
【表17】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体はその表面摩擦
係数(μ)を1.5〔−〕以下としたことから、高感度
でありながら、耐摩耗性に優れたものであり、繰り返し
使用しても現像剤のクリーニング不良等の不具合がな
く、またクリーニングブラシやクリーニングブレードの
摺擦による表面の傷や摩耗の軽減されたものである。
係数(μ)を1.5〔−〕以下としたことから、高感度
でありながら、耐摩耗性に優れたものであり、繰り返し
使用しても現像剤のクリーニング不良等の不具合がな
く、またクリーニングブラシやクリーニングブレードの
摺擦による表面の傷や摩耗の軽減されたものである。
フロントページの続き (72)発明者 岸 弘行 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 井上 智博 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 河崎 佳明 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内
Claims (4)
- 【請求項1】 電子写真感光体の回転方向に対してカウ
ンター方向にクリーニングブレードを当接させたクリー
ニング手段を有する画像形成装置で使用する電子写真感
光体において、該電子写真感光体の表面摩擦係数(μ)
が1.5〔−〕以下であることを特徴とする電子写真感
光体。 - 【請求項2】 最表面層にシリコンオイルがバインダー
樹脂に対して0.05〜5%(重量比)含有されている
ことを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。 - 【請求項3】 最表面層にシリコンオイルとフッソ系界
面活性剤が共に含有されていることを特徴とする請求項
1記載の電子写真感光体。 - 【請求項4】 シリコンオイルがバインダー樹脂に対し
て0.05〜5%(重量比)、フッソ系界面活性剤がバ
インダー樹脂に対して0.05〜2%(重量比)含有さ
れていることを特徴とする請求項3記載の電子写真感光
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3352061A JPH05165244A (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3352061A JPH05165244A (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05165244A true JPH05165244A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18421522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3352061A Pending JPH05165244A (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05165244A (ja) |
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1991
- 1991-12-13 JP JP3352061A patent/JPH05165244A/ja active Pending
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