JPH0627709A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 長期使用においても地肌汚れや黒スジ等異常
画像のない、耐摩耗性の向上した電子写真感光体を提供
する。 【構成】 導電性支持体上に、感光層（電荷発生層及び
電荷輸送層）、中間層、保護層を順次積層した電子写真
感光体において、前記保護層が下記構造式（１）（化
１）で表わされるポリアリールスルホン樹脂に導電性微
粒子を分散してなることを特徴とする電子写真感光体。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、耐摩耗性に優れた電子
写真感光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真方式に於いて使用される
感光体としては、導電性支持体上にセレンないしセレン
合金を主体とする光導電層を設けたもの、酸化亜鉛、硫
酸カドミウムなどの無機系光導電材料をバインダー中に
分散させたもの、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールとトリ
ニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電
材料を用いたもの、及び非晶質シリコン系材料を用いた
もの等が一般に知られている。

【０００３】ところで、一般に「電子写真方式」とは、
光導電性の感光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によ
って帯電させ、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選
択的に散逸せしめて静電潜像を得、この潜像部を染料、
顔料などの着色材と高分子物質などの結合剤とから構成
される検電微粒子（トナー）で現像し可視化して画像を
形成する様にした画像形成法の一つである。この様な電
子写真法に於いて感光体に要求される基本的な特性とし
ては （１）暗所で適当な電位に帯電できること。 （２）暗所において電荷の逸散が少ないこと。 （３）光照射によって速やかに電荷を逸散できること。 などが挙げられる。

【０００４】上記の各感光体はこれらの基本的な特性以
外に実使用上それぞれ優れた特徴及び欠点を有してい
る。例えば、セレンヌはセレン合金（Ｓｅ−Ｔｅ，Ｓｅ
−Ａｓ，Ｓｅ−Ｔｅ−Ａｓ系など）を主体とする感光体
は最も古くから一般的に使用されてきたものであり、優
れた光感度を有する一方、電子写真プロセスにおける機
械的負荷（現像、クリーニング、ペーパージャム等）に
起因する表面のキズで画像品質が影響（白スジ、黒スジ
等）を受けやすいという欠点を有している。また非晶質
シリコン系の感光体は非常に高い表面硬度を有し、光感
度も比較的高いが、製造コストが高く、実使用上では電
子写真プロセスの帯電チャージャー等から発生されるオ
ゾン等により表面が化学的に劣化し画像流れといった異
常画像が発生しやすいという問題を有している。

【０００５】更に近年では製造コストが安い、環境汚染
が少ない、比較的自由な感光体設計ができる等の理由に
より、有機系感光体の発展が著しい。一般に、有機系感
光体とは電荷発生材料及び電荷輸送材料を結着樹脂の中
へ分散あるいは溶解して導電性支持体上に塗布したもの
であり、ひとつの層で電荷保持、電荷発生、電荷輸送の
機能を有する単層型と、電荷発生の機能を有する電荷発
生層（ＣＧＬ）、帯電電荷の保持とＣＧＬから注入され
た電荷の輸送機能を有する電荷輸送層（ＣＴＬ）、更に
は必要に応じて支持体からの電荷の注入を阻止する、あ
るいは支持体での光の反射を防止する等の機能を有した
層などを積層した構成の機能分離型とが知られている。

【０００６】これらの有機系感光体は前述のように優れ
た特徴を有しているが、有機材料であるがゆえに表面硬
度が低く、複写プロセスでの実使用時に現像剤、転写
紙、クリーニング部材等から受ける機械的な負荷によっ
て、摩耗や傷が発生しやすいという本質的な欠点も有し
ている。この感光層の摩耗は、帯電電位の減少をひきお
こし、また局部的な傷はコピー上でスジ状の異常画像を
発生させる原因になり、いずれも感光体寿命を左右する
重要な問題である。

【０００７】この様な欠点を解消する為に有機系やＳｅ
系の感光層の表面に保護層を設けて、複写機内外で受け
る機械的負荷に対する耐久性を改善する方法が提案され
ている。たとえば、感光層の表面に有機フィルムを設け
る方法（特公昭３８−０１５４４６）、無機酸化物を設
ける方法（特公昭４３−０１４５１７）、接着層を設け
た後、絶縁層を積層する方法（特公昭４３−０２７５９
１）、或いはプラズマＣＶＤ法・光ＣＶＤ法等によって
ａ−Ｓｉ層、ｓ−Ｓｉ：Ｎ：Ｈ層、ａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｈ層
等を積層する方法（特開昭５７−１７９８５９、特開昭
５９−０５８４３７）などが開示されている。これらの
方法は有機系やＳｅ系の感光体の機械的耐久性の向上に
対して一応の効果を有することが認められている。しか
し、有機フィルムの積層をおこなう場合に有機系感光体
に影響を及ぼさない溶剤を使用しなければならないた
め、材料の選択自由度が小さく、またシリコン系の保護
層では前述の様にＯ₃等による化学的な劣化をしやすい
という本質的な問題を有しており、実使用上、まだ解決
しなければならない問題点が多い。

【０００８】この様な背景のなか、感光体の保護層材料
として炭素又は炭素を主成分として成る高硬度薄膜の応
用が近年活発している。たとえば、感光層上に無定形炭
素又は硬質炭素から成る保護層を設けたもの（特開昭６
０−２４９１５５）、最表面にダイヤモンド状カーボン
保護層を設けたもの（特開昭６１−２５５３５２）、感
光層上に炭素を主成分とする高硬度絶縁層を形成したも
の（特開昭６１−２６４３５５）あるいは有機感光層上
に窒素原子、酸素原子、ハロゲン原子、アルカリ金属原
子等の原子を少なくとも含むプラズマ有機重合膜から成
る保護層を設けたもの（特開昭６３−９７９６１〜
４）、有機感光層上にカルコゲン原子、III属原子、IＶ
属原子、Ｖ属原子等の原子を少なくとも含むグロー放電
により生成された非晶質炭化水素膜から成る保護層を設
けたもの（特開昭６３−２２０１６６〜９）などを挙げ
ることができる。

【０００９】これらの提案はいずれも感光層の表面にイ
オンプロセス（スパッタリング、プラズマＣＶＤ、グロ
ー放電分解法、光ＣＶＤ法等）により作製した炭素又は
炭素を主成分とする高硬度の薄膜（ｉ−カーボン膜ある
いはダイヤモンド状炭素膜という総称で呼ばれるものに
属する。）を形成したものである。これらの方法におい
ては保護層は溶媒を用いない製膜プロセスにより得られ
るため、有機系感光体に及ぼす影響が小さい。またこの
保護層は高い硬度を有し、更に膜そのものはＯ₃等の酸
化雰囲気に強い特徴を有しているため、有機系あるいは
Ｓｅ系感光体の耐久性を向上させる上で優れた効果が認
められてきている。ところが、この様な材料を用いて
も、電子写真プロセス中で長期的に繰返し使用された場
合、高湿下あるいは急激な湿度上昇の環境下でコピーあ
るいはプリント画像が流れる、いわゆる「画像ボケ」等
と呼ばれる異常画像が発生するという問題がまだあるこ
とが明らかになってきている。

【００１０】画像ボケの推定発生メカニズムとしては、
大きく分けて 帯電等の目的で用いられるコロナ放電に繰返しさらさ
れることにより、コロナ放電により発生するオゾン等で
感光体表面が化学的に劣化（酸化等）し、親水性に変化
する。 コロナ放電によるオゾンや各種イオンが空気中の水
分、炭酸ガス等の不純物と反応し、窒素化合物、カルボ
キシル基、アルデヒド基等を含む親水性の化合物を形成
され、これらが感光体表面に付着、堆積することにより
親水性に変化する。 上記の２通りが考えられており、いずれにしても親水性
になった感光体表面に水分が吸着して表面の２次元方向
の抵抗が下がることによって異常画像が発生する。

【００１１】前述のシリコン系の感光体はが支配的な
原因と考えられているが、炭素又は炭素を主成分とする
高硬度保護層を有する感光体の場合は表面の微細な凹凸
（ピッチ１００〜５０００Å、深さ５０〜２５００Å程
度の軸方向、周方向に指向性のないランダムな形成の凹
凸）の凹み部分にの親水性物質が付着、堆積していく
ことにより発生すると考えられている。

【００１２】また、機械的強度の向上及び感光層へのオ
ゾンの浸入防止のために、電荷輸送層を多層化し、上部
電荷輸送層の電荷輸送物質／バインダー樹脂（重量比）
を下部電荷輸送層のそれよりも小さくし、かつ、上部電
荷輸送層を構成するバインダー樹脂が特定のポリカーボ
ネートから成る電子写真感光体も知られている（特開平
２−１６０２４７号公報）。しかし、この電子写真感光
体は、上部電荷輸送層の電荷輸送物質／バインダー樹脂
（重量比）が小さいため感度が損なわれ、また上部電荷
輸送層形成のために電荷輸送層形成用塗布液を塗工する
際に、下部電荷輸送層を溶解し、下部電荷輸送層中の電
荷輸送物質が上部電荷輸送層に溶出し、実際には上部電
荷輸送層の電荷輸送物質／バインダー樹脂（重量比）が
大きくなり、耐久性向上が充分でない。

【００１３】更に、耐久性向上のため、ポリエーテルイ
ミドを主成分とする保護層を設けた電子写真感光体が知
られている（特開平２−１６１４４９号）。しかしこの
電子写真感光体は、残留電位が上昇するという欠点があ
る。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
を解決し、電荷輸送層または電荷発生層が摩耗すること
による地肌汚れや黒スジ等の異常画像のない良好な画像
が形成できる電子写真感光体を提供することを目的とす
る。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、導電性
支持体上に、必要に応じて下引き層を設け、この上に電
荷発生層、電荷輸送層、中間層、保護層或いは電荷輸送
層、電荷発生層、中間層、保護層の順に各層を積層して
なる電子写真感光体において、前記保護層が下記構造式
（１）（化１）で表わされるポリアリールサルホン樹脂
に導電性微粒子を分散してなることを特徴とする電子写
真感光体が提供され、

【化１】 特に前記保護層において、導電性微粒子の含有量がバイ
ンダー樹脂に対して５０〜７０重量％であることを特徴
とする前記電子写真感光体が提供され、また前記中間層
がポリアミド、或いは下記一般式（２）（化２）で表わ
される単量体を重合して得られる単独又は共重合体から
なることを特徴とする電子写真感光体が提供される。

【化２】

【００１６】以下、本発明の電子写真感光体の各構成に
ついて詳細に説明する。本発明の電子写真感光体は、導
電性支持体上に、必要に応じて下引き層を設け、この上
に電荷発生層、電荷輸送層、中間層、保護層、或いは電
荷輸送層、電荷発生層、中間層、保護層の順に各層を積
層した、所謂機能分離型電子写真感光体であり、前記の
如く、特に該保護層を特定の材料で構成したものであ
る。即ち、該保護層は、導電性微粒子を分散した下記構
造式（１）（化１）で表わされるポリアリールサルホン
樹脂で構成される。

【化１】 導電性微粒子としては酸化スズ、酸化チタン、酸化イン
ジウム、酸化アンチモンなどの金属酸化物が好ましい。
これら導電性微粒子の含有量はポリアリールサルホン樹
脂に対して５０重量％以上７０重量％以下が好ましく、
より好ましくは５５重量％以上６５重量％以下が良い。
７０重量％を越えると表面抵抗が低下し、画像流れが生
じ、５０重量％未満だと残留電位が大きく、地肌汚れが
生じる。ポリアリールサルホン樹脂は、耐熱性に優れ、
機械的強度が高く、耐磨耗性も優れている樹脂である。
更にポリアリールサルホン樹脂は金属酸化物粒子の分散
性においても優れているため、分散塗布液による塗膜状
も良好なものとなる。本発明において用いるポリアリー
ルサルホン樹脂の重合度ｎは２０〜４００が好適であ
る。保護層の膜厚は１μｍ以上１０μｍ以下が好まし
く、より好ましくは２μｍ以上５μｍ以下が良い。１０
μｍを越えるを、残留電位が大きく地肌汚れが生じる。
１μｍ未満では機械的強度に乏しく、繰り返し使用によ
って傷がつきやすく、黒スジ等の異常画像が発生する。

【００１７】感光層と保護層との間に設ける中間層はポ
リアミド又は一般式（２）（化２）で表わされる単量体
を重合して得られる単独重合体又は共重合体から構成さ
れる。

【化２】 該中間層を設けたことにより保護層塗布の際、電荷発生
層や電荷輸送層が侵されるのを防ぐことができ、電荷発
生層や電荷輸送層を侵すことなく中間層を設けることが
できる。ポリアミドの具体的な例としてはナイロン６、
ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイ
ロン１１、ナイロン１２、ナイロンＭＸＤ６、ナイロン
４６、メトキシメチル化ポリアミド等が挙げられ、これ
らを単独もしくは２種以上を共重合あるいは混合して用
いることができる。

【００１８】前記一般式（２）（化２）で表わされる単
量体の具体例を以下の表１に示す。

【表１−（１）】

【表１−（２）】

【００１９】中間層の膜厚は０．０５μｍ以上０．５μ
ｍ以下が好ましく、より好ましくは０．１μｍ以上０．
４μｍ以下が良い。０．５μｍを越えると残留電位が大
きく地肌汚れが生じる。また０．０５μｍ未満だと保護
層を塗布する際電荷発生層や電荷輸送層が侵されるのを
防ぐバリヤー層としての機能が弱まり、点欠陥等の異常
画像が発生する。

【００２０】次いで、本発明の電子写真感光体の他の構
成について説明する。導電性支持体としては、体積抵抗
が１０¹⁰Ωｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アル
ミニウム、チタン、ニッケル、クロム、ニクロム、ハス
テロイ、パラジウム、マグネシウム、亜鉛、銅、金、白
金などの金属、及び合金、酸化錫、酸化インジウム、酸
化アンチモンなどの金属酸化物を、蒸着又はスパッタリ
ング又はバインダー樹脂中に分散して塗工することによ
り、フィルム上もしくは円筒状のプラスチック、紙など
に被覆したもの、前記の金属又は金属酸化物又は導電性
カーボンをフィルム状もしくは円筒状のプラスチック中
に分散含有させたもの或はアルミニウム、アルミニウム
合金、鉄、ニッケル合金、ステンレス合金、チタン合金
等の板、及びそれらをＤ．Ｉ．，Ｉ．Ｉ．，押出し、引
き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で
表面処理した管等を使用することができる。

【００２１】電荷発生層は、電荷発生物質のみか、電荷
発生物質を分散ないし相溶した樹脂層よりなる。電荷発
生物質としては、例えば、シーアイピグメントブルー２
５〔カラーインデックス(ＣＩ)２１１８０〕、シーアイ
ピグメントレッド４１(ＣＩ ２１２００)、シーアイア
シッドレッド５２(ＣＩ ４５１００)、シーアイベーシ
ックレッド３(ＣＩ ４５２１０)、さらに、ポリフィリ
ン骨格を有するフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩
顔料、スクアリック塩顔料、アンスアンサンスロン系顔
料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭５３−
９５０３３号公報に記載)、スチルベン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭５３−１３８２２９号公報に記載)、トリ
フェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭５３−１
３２５４７号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を
有するアゾ顔料(特開昭５４−２１７２８号公報に記
載)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭５
４−１２７４２号公報に記載)、フルオレノン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭５４−２２８３４号公報に記載)、
ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１
７７３３号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭５４−２１２９号公報に
記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭５４−１７７３４号公報に記載)、カルバゾール
骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭５７−１９５７６７
号公報、同５７−１９５７６８号公報に記載)等、さら
に、シーアイピグメントブルー１６（ＣＩ ７４１０
０)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン５（ＣＩ ７３４１０)、シーアイバットダイ(ＣＩ
７３０３０)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレット
Ｂ(バイオレット社製)、インダスレンスカーレットＲ
（バイエル社製）等のペリレン系顔料等の有機顔料を使
用することができる。

【００２２】これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料
が好適であり、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスア
ゾ顔料あるいはトリスアゾ顔料が最も好ましい。アゾ顔
料の具体例を表１に示す。なお、式中、Ａ₁、Ａ₂及びＡ
₃は同一でも異なっていてもよい。

【００２３】

【表２−（１）】

【００２４】

【表２−（２）】

【００２５】

【表２−（３）】

【００２６】

【表２−（４）】

【００２７】

【表２−（５）】

【００２８】

【表２−（６）】

【００２９】

【表２−（７）】

【００３０】

【表２−（８）】

【００３１】

【表２−（９）】

【００３２】

【表２−（１０）】

【００３３】

【表２−（１１）】

【００３４】

【表２−（１２）】

【００３５】

【表２−（１３）】

【００３６】

【表２−（１４）】

【００３７】

【表２−（１５）】

【００３８】

【表２−（１６）】

【００３９】

【表２−（１７）】

【００４０】

【表２−（１８）】

【００４１】

【表２−（１９）】

【００４２】

【表２−（２０）】

【００４３】

【表２−（２１）】

【００４４】

【表２−（２２）】

【００４５】

【表２−（２３）】

【００４６】

【表２−（２４）】

【００４７】

【表２−（２５）】

【００４８】

【表２−（２６）】

【００４９】

【表２−（２７）】

【００５０】

【表２−（２８）】

【００５１】

【表２−（２９）】

【００５２】

【表２−（３０）】

【００５３】

【表２−（３１）】

【００５４】

【表２−（３２）】

【００５５】

【表２−（３３）】

【００５６】

【表２−（３４）】

【００５７】

【表２−（３５）】

【００５８】

【表２−３６】

【００５９】

【表２−（３７）】

【００６０】

【表２−（３８）】

【００６１】

【表２−（３９）】

【００６２】

【表２−（４０）】

【００６３】

【表２−（４１）】

【００６４】

【表２−（４２）】

【００６５】

【表２−（４３）】

【００６６】

【表２−（４４）】

【００６７】

【表２−（４５）】

【００６８】

【表２−（４６）】

【００６９】

【表２−（４７）】

【００７０】

【表２−（４８）】

【００７１】

【表２−（４９）】

【００７２】電荷発生層の膜厚は、０．０５〜２μｍ程
度が適当であり、好ましくは０．１〜１μｍである。電
荷発生層は溶剤にバインダー樹脂と共に、電荷発生物質
を分散ないし相溶し、これを支持体上にもしくは下引き
層上に或いは電荷輸送層上に、塗布・乾燥することによ
って形成される。このようなバインダー樹脂としては、
ポリスチレン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレ
ン−アクリルニトリル共重合体、スチレン−無水マレイ
ン酸共重合体、ポリエステル、ポリアリレート、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、ポリ
カーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、
ポリビニルホルマール、フェノキシ樹脂、ポリビニルピ
リジン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹
脂、シリコン樹脂、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、
ブタジエンゴム、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタ
ン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂等の、熱可塑性
または熱硬化性樹脂が挙げられる。これらのバインダー
樹脂は単独または混合して用いられる。電荷発生物質と
バインダー材料の使用割合は、重量比で１００：０〜１
００：５０が好ましい。

【００７３】溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、塩化メチレン、ジクロルベンゼン、モノクロルベ
ンゼン、ジクロルベンゼン、エチルアルコール、メチル
アルコール、ブチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブなどがあり、これら溶
剤も単独または混合して用いることができる。

【００７４】また、電荷輸送層は、電荷輸送物質および
バインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これ
を支持体上にもしくは下引き層上或いは電荷発生層上
に、塗布・乾燥することによって形成できる。また、必
要により可塑剤やレベリング剤、耐摩耗性強化材料等を
添加することもできる。

【００７５】電荷輸送物質には正孔輸送物質と電子輸送
物質がある。正孔輸送物質としては、例えばポリ−Ｎ−
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、イミダ
ゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、及び以下の
一般式で示される化合物がある。

【００７６】（１）（特開昭５５−１５４９５５号、特
開昭１５６９５４号公報に記載）

【化３】 〔式中、Ｒ¹はメチル基、エチル基、２−ヒドロキシエ
チル基又は２−クロルエチル基を表わし、Ｒ²はメチル
基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基を表わし、Ｒ
³は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシル基、ジアルキル
アミノ基又はニトロ基を表わす。〕

【００７７】（２）（特開昭５５−５２０６３号公報に
記載）

【化４】 〔式中、Ａｒはナフタレン環、アントラセン環、スチリ
ル環及びそれらの置換体あるいはピリジン環、フラン
環、チオフェン環を表わし、Ｒはアルキル基又はベンジ
ル基を表わす。〕

【００７８】（３）（特開昭５６−８１８５０号公報に
記載）

【化５】 〔式中、Ｒ¹はアルキル基、ベンジル基、フェニル基又
はナフチル基を表わし、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜３
のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、ジアル
キルアミノ基、ジアラルキルアミノ基又はジアリールア
ミノ基を表わし、ｎは１〜４の整数を表わし、ｎが２以
上のときはＲ²は同じでも異なっていてもよい。Ｒ³は水
素原子又はメトキシル基を表わす。〕

【００７９】（４）（特公昭５１−１０９８３号公報に
記載）

【化６】 〔式中、Ｒ¹は炭素数１〜１１のアルキル基、置換若し
くは無置換のフェニル基又は複素環基を表わし、Ｒ²、
Ｒ³はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、クロルアルキル基又は置換若しくは無置換のアラル
キル基を表わし、また、Ｒ²とＲ³は互いに結合し窒素を
含む複素環を形成していてもよい。Ｒ⁴は同一でも異な
っていてもよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル
基、アルコキシル基又はハロゲン原子を表わす。〕

【００８０】（５）（特開昭５１−９４８２９号公報に
記載）

【化７】 〔式中、Ｒは水素原子又はハロゲン原子を表わし、Ａｒ
は置換若しくは無置換のフェニル基、ナフチル基、アン
トリル基又はカルバゾリル基を表わす。〕

【００８１】（６）（特開昭５２−１２８３７３号公報
に記載）

【化８】 〔式中、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭
素数１〜４のアルコキシル基又は炭素数１〜４のアルキ
ル基を表わし、Ａｒは

【化９】 を表わし、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル基を表わし、
Ｒ³は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキ
ル基、炭素数１〜４のアルコキシル基又はジアルキルア
ミノ基を表わし、ｎは１又は２であって、ｎが２のとき
はＲ³は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁴及びＲ⁵は水
素原子、炭素数１〜４の置換若しくは無置換のアルキル
基又は置換若しくは無置換のベンジル基を表わす。〕

【００８２】（７）（特開昭５６−２９２４５号公報に
記載）

【化１０】 〔式中、Ｒはカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル
基、インドリル基、フリル基あるいはそれぞれ置換若し
くは無置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基であって、これらの置換基がジアルキルア
ミノ基、アルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基
又はそのエステル、ハロゲン原子、シアノ基、アラルキ
ルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アラルキルアミノ基、
アミノ基、ニトロ基及びアセチルアミノ基からなる群か
ら選ばれた基を表わす。〕

【００８３】（８）（特開昭５８−５８５５２号公報に
記載）

【化１１】 〔式中、Ｒ¹は低級アルキル基、置換若しくは無置換の
フェニル基、又はベンジル基を表わし、Ｒ²は水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級アルキル基又はベ
ンジル基で置換されたアミノ基を表わし、ｎは１又は２
の整数を表わす。〕

【００８４】（９）（特開昭５７−７３０７５号公報に
記載）

【化１２】 〔式中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基、アルコキシル基
又はハロゲン原子を表わし、Ｒ²及びＲ³はアルキル基、
置換若しくは無置換のアラルキル基あるいは置換若しく
は無置換アリール基を表わし、Ｒ⁴は水素原子、低級ア
ルキル基又は置換若しくは無置換のフェニル基を表わ
し、また、Ａｒは置換若しくは無置換のフェニル基又は
ナフチル基を表わす。〕

【００８５】（１０）（特開昭５８−１９８０４３号公
報に記載）

【化１３】 〔式中、ｎは０又は１の整数、Ｒ¹は水素原子、置換若
しくは無置換のアルキル基又は置換若しくは無置換のフ
ェニル基を表わし、Ａｒ¹は置換若しくは無置換のアリ
ール基を表わし、Ｒ⁵は置換アルキル基を含むアルキル
基、あるいは置換若しくは無置換のアリール基を表わ
し、Ａは

【化１４】 ９−アントリル基又は置換若しくは無置換のカルバゾリ
ル基を表わし、ここでＲ²は水素原子、アルキル基、ア
ルコキシル基、ハロゲン原子又は は無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のア
リール基を示し、Ｒ³及びＲ⁴は同じでも異なっていても
よく、Ｒ⁴は環を形成してもよい、）を表わし、ｍは
０，１，２又は３の整数であって、ｍが２以上のときは
Ｒ²は同一でも異なってもよい。また、ｎが０のとき、
ＡとＲ¹は共同で環を形成してもよい。〕

【００８６】（１１）（特開昭４９−１０５５３７号公
報に記載）

【化１５】 〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシル基、ジアルキルアミノ基又はハロ
ゲン原子を表わし、ｎは０又は１を表わす。〕

【００８７】（１２）（特開昭５２−１３９０６６号公
報に記載）

【化１６】 〔式中、Ｒ¹及びＲ²は置換アルキル基を含むアルキル
基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ａは
置換アミノ基、置換若しくは無置換のアリール基又はア
リル基を表わす。〕

【００８８】（１３）（特開昭５２−１３９０６５号公
報に記載）

【化１７】 〔式中、Ｘは水素原子、低級アルキル基又はハロゲン原
子を表し、Ｒは置換アルキル基を含むアルキル基、又は
置換若しくは無置換のアリール基を表わし、Ａは置換ア
ミノ基又は置換若しくは無置換のアリール基、又はアリ
ル基を表わす。〕

【００８９】（１４）（特公昭５８−３２３７２号公報
に記載）

【化１８】 〔式中、Ｒ¹は低級アルキル基、低級アルコキシル基又
はハロゲン原子を表わし、ｎは０〜４の整数を表わし、
Ｒ²，Ｒ³は同じでも異なっていてもよく、水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシル基又はハロゲン原子を
表わす。〕

【００９０】（１５）（特開平２−１７８６６９公報に
記載）

【化１９】 〔式中、Ｒ¹，Ｒ³及びＲ⁴は水素原子、アミノ基、アル
コキシル基、チオアルコキシル基、アリールオキシ基、
メチレンジオキシ基、置換若しくは無置換のアルキル
基、ハロゲン原子又は置換若しくは無置換のアリール基
を、Ｒ²は水素原子、アルコキシル基、置換若しくは無
置換のアルキル基又はハロゲン原子を表わす。但し、Ｒ
¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ⁴はすべて水素原子である場合は除
く。また、ｋ，ｌ，ｍ及びｎは１，２，３又は４の整数
であり、各々が２，３又は４の整数のときは、前記
Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ⁴は同じでも異なっていてもよ
い。〕

【００９１】（１６）（特願平１−７７８３９号に記
載）

【化２０】 〔式中、Ａｒは炭素数１８個以下の縮合多環式炭化水素
基を表わし、またＲ¹及びＲ²は水素原子、ハロゲン原
子、置換若しくは無置換のアルキル基、アルコキシル
基、置換若しくは無置換のフェニル基を表わし、それぞ
れ同じでも異なっていてもよい。〕

【００９２】（１７）（特願昭６２−９８３９４号に記
載）

【化２１】Ａ−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ−ＣＨ＝ＣＨ−Ａ 〔式中、Ａｒは置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基
を表わし、Ａは、 水素基を表わし、Ｒ¹及びＲ²は置換若しくは無置換のア
ルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基であ
る、）を表わす。〕

【００９３】（１８）（特願平２−９４８１２号に記
載）

【化２２】 〔式中、Ａｒは芳香族炭化水素基を、Ｒは水素原子、置
換若しくは無置換のアルキル基又はアリール基を、それ
ぞれ表わす。ｎは０又は１、ｍは１又は２であって、ｎ
＝０、ｍ＝１の場合、ＡｒとＲは共同で環を形成しても
よい。〕

【００９４】一般式化３で表わされる化合物には、例え
ば、９−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−１−メ
チル−１−フェニルヒドラゾン、９−エチルカルバゾー
ル−３−アルデヒド−１−ベンジル−１−フェニルヒド
ラゾン、９−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−
１，１−ジフェニルヒドラゾンなどがある。また、一般
式化４で表わされる化合物には、例えば、４−ジエチル
アミノスチリル−β−アルデヒド−１−メチル−１−フ
ェニルヒドラゾン、４−メトキシナフタレン−１−アル
デヒド−１−べンジル−１−フェニルヒドラゾンなどが
ある。

【００９５】一般式化５で表せられる化合物には、例え
ば、４−メトキシベンズアルデヒド−１−メチル−１−
フェニルヒドラゾン、２，４−ジメトキシベンズアルデ
ヒド−１−ベンジル−１−フェニルヒドラゾン、４−ジ
エチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒ
ドラゾン、４−メトキシベンズアルデヒド−１−ベンジ
ル−１−（４−メトキシ）フェニルヒドラゾン、４−ジ
フェニルアミノベンズアルデヒド−１−ベンジル−１−
フェニルヒドラゾン、４−ジベンジルアミノベンズアル
デヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾンなどがある。ま
た、一般式化６で表わされる化合物には、例えば、１，
１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、
トリス（４−ジエチルアミノフェニル）メタン、１，１
−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、
２，２’−ジメチル−４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）−トリフェニルメタンなどがある。

【００９６】一般式化７で表わされる化合物には、例え
ば、９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセ
ン、９−ブロム−１０−（４−ジエチルアミノスチリ
ル）アントラセンなどがある。また、一般式化８で表せ
られる化合物には、例えば、９−（４−ジメチルアミノ
ベンジリデン）フルオレン、３−（９−フルオレニリデ
ン）−９−エチルカルバゾールなどがある。また、一般
式化１０で表わされる化合物には、例えば、１，２−ビ
ス（４−ジエチルアミノスチリル）べンゼン、１，２−
ビス（２，４−ジメトキシスチリル）ベンゼンなどがあ
る。

【００９７】一般式化１１で表わされる化合物には、例
えば、３−スチリル−９−エチルカルバゾール、３−
（４−メトキシスチリル）−９−エチルカルバゾールな
どがある。また、一般式化１２で表せられる化合物に
は、例えば、４−ジフェニルアミノスチルベン、４−ジ
ベンジルアミノスチルベン、４−ジトリルアミノスチル
ベン、１−（４−ジフェニルアミノスチリル）ナフタレ
ン、１−（４−ジエチルアミノスチリル）ナフタレンな
どがある。

【００９８】一般式化１３で表わされる化合物には、例
えば、４’−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベ
ン、４’−ビス（４−メチルフェニル）アミノ−α−フ
ェニルスチルベンなどがある。また、一般式化１５で表
わされる化合物には、例えば、１−フェニル−３−（４
−ジエチルアミノスチリル）−５−（４−ジエチルアミ
ノフェニル）ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ジ
メチルアミノスチリル）−５−（４−ジメチルアミノフ
ェニル）ピラゾリンなどがある。

【００９９】一般式化１６で表わされる化合物には、例
えば、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−
１，３，４−オキサジアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジフェニ
ルアミノ−５−（４−ジエチルアミノフェニル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２−（４−ジメチルアミノ
フェニル）−５−（４−ジエチルアミノフェニル）１，
３，４−オキサジアゾールなどがある。また、一般式化
１７で表わされる化合物には、例えば、２−Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアミノ−５−（Ｎ−エチルカルバゾール−３−
イル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（４−ジ
エチルアミノフェニル）−５−（Ｎ−エチルカルバゾー
ル−３−イル）−１，３，４−オキサジアゾールなどが
ある。

【０１００】一般式化１８で表わされるベンジジン化合
物には、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］
−４，４’−ジアミン、３，３’−ジメチル−Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）−
［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどが
ある。また、一般式化１９で表わされるビフェニルアミ
ン化合物には、例えば、４’−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジフ
ェニル−［１，１’−ビフェニル］−４−アミン、４’
−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−
［１，１’−ビフェニル］−４−アミン、４’−メトキ
シ−Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−［１，１’
−ビフェニル］−４−アミンなどがある。

【０１０１】一般式化２０で表わされるトリアリールア
ミン化合物には、例えば、１−ジフェニルアミノピレ
ン、１−ジ（ｐ−トリルアミノ）ピレンなどがある。ま
た、一般式化２１で表せられるジオレフィン芳香族化合
物には、例えば、１，４−ビス（４−ジフェニルアミ
ノ）スチリルベンゼン、１，４−ビス［４−ジ（ｐ−ト
リル）アミノ］スチリルベンゼンなどがある。また、一
般式化２２で表わされるスチリルピレン化合物には、例
えば、１−（４−ジフェニルアミノ）スチリルピレン、
１−［４−ジ（ｐ−トリル）アミノ］スチリルピレンな
どがある。

【０１０２】特に負電荷、すなわち電子を輸送する物質
を電子写真感光体に用いることもある。電子輸送物質と
しては、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラ
シアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４−
７−トリニトロ−９−フルオレン、２，４，５，７−テ
トラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テト
ラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサ
ントン、２，６，８−トリニトロ−インデノ４Ｈ−イン
デノ（１，２−ｂ）チオフェン−４−オン、１，３，７
−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイ
ドなどがある。以上の電荷輸送物質を相溶ないし分散さ
せる電荷輸送層のバインダー樹脂としては、ポリカーボ
ネート、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリエス
テル、ポリスチレン、スチレン−アクリルニトリル共重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水
マレイン酸共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリ
デン、フェノキシ樹脂、酢酸セルロース、エチルセルロ
ース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、
シリコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂等の熱可塑または
熱硬化性樹脂が挙げられる。これらは単独で用いても混
合で用いてもよい。

【０１０３】この時の溶剤としては、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、シクロヘキサン、トルエン、モノクロ
ルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチレン等が使用で
きる。溶剤もまた、単独で用いても、２種以上を混合し
て用いてもよい。

【０１０４】また、必要により可塑剤やレベリング剤を
添加してもよい。可塑剤としては、例えばハロゲン化パ
ラフィン、ジメチルナフタレン、ジブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等や
ポリエステル等の重合体及び共重合体などがあげられ
る。

【０１０５】レベリング剤としてはシリコンオイルやパ
ーフルオロ基含有オリゴマーまたはポリマー等があげら
れる。

【０１０６】電荷輸送層の膜厚は５〜１００μｍ、好ま
しくは１０〜５０μｍがよい。

【０１０７】更に本発明においては、支持体と前記感光
層の間に、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアセタール、ポリアクリル酸、ポリヒドロキシメタ
クリレート、エポキシ樹脂等の下引き層あるいは前記樹
脂と白色顔料例えば酸化亜鉛、酸化マグネシウム、硫酸
バリウム、リトポンからなる白色顔料層を設けることも
できる。下引き層または白色顔料層の膜厚は０．０５〜
１０μｍが適当であり、好ましくは０．２〜５μｍの膜
厚とする。

【０１０８】以下、本発明を実施例に基づいて説明す
る。 実施例１ ８０ｍｍφのアルミニウムシリンダー上に下記下引き層
用塗工液を浸漬塗工及び加熱乾燥して、約３μｍの下引
き層を得た。 〔下引き層用塗工液〕 アルキド樹脂（ベッコライト Ｍ−６４０１、 大日本インキ社製） ３重量部 メラミン樹脂（スーパーベッカミン Ｇ−８２１、 大日本インキ社製） ２重量部 ＴｉＯ₂（ＣＲ−ＥＬ、石原産業社製） ３０重量部 メチルエチルケトン １５重量部 から成る液を２４時間分散した後、メチルエチルケトン
／イソプロピルアルコール＝１１／９（重量）で希釈し
て下引き層用塗工液とした。この上に下記化２３で表わ
されるアゾ顔料のシクロヘキサノン分散液を浸漬塗工及
び加熱乾燥して、約０．１μｍの電荷発生層を形成し
た。

【化２３】 次に下記構造式（化２４）で示される電荷輸送物質（Ｄ
¹）と下記構造式（化２５）で示され、粘度平均分子量
４万であるバインダー樹脂（Ｒ¹）とをＤ¹／Ｒ¹＝８／
１０（重量比）、固形分濃度１８％（溶媒：塩化メチレ
ン）となる様に調整した後、シリコンオイル（ＫＦ−５
０、信越シリコーン社製）を０．０２％（対Ｒ¹比）加
えた電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗工及
び、加熱乾燥して、約２５μｍの電荷輸送層を形成し
た。

【化２４】

【化２５】 この上にメトキシメチル化ポリアミド（トレジンＦ３
０、帝国化学社製）５重量部、四元共重合ナイロン（Ｃ
Ｍ８０００、東レ社製）１０重量部の混合溶液（溶媒：
メタノール／１−ブタノール＝７／３（重量比））をス
プレー塗工及び加熱乾燥して、約０．２μｍの中間層を
設けた。さらにこの上に前記構造式（１）（化１）で表
わされるポリアリールサルホン樹脂（レーデルＡ−２０
０、アモコ・ジャパン・リミテッド社製）４０重量部に
酸化スズ微粉末（三菱マテリアル社製）６０重量部を分
散して成るテトラヒドロフラン分散液をスプレー塗工及
び加熱乾燥して、約５μｍの保護層を設け、電子写真感
光体を作成した。

【０１０９】実施例２ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を５０重
量部、酸化スズ微粉末を５０重量部とした以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１０】実施例３ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を３０重
量部、酸化スズ微粉末を７０重量部とした以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１１】実施例４ 保護層に使用される酸化スズ微粉末を酸化インジウム微
粉末（三菱マテリアル社製）に変えた以外は実施例１と
同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１２】実施例５ 保護層に使用される酸化スズ微粉末を酸化スズ被覆処理
酸化チタン微粉末（チタン工業社製）に変えた以外は実
施例１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１３】実施例６ 前記Ｎｏ．１５の単量体を重合して得た単独重合体をエ
タノール／１−ブタノール＝１／１（重量比）なる混合
溶媒に溶解した中間層用塗工液を用いてスプレー塗工及
び加熱乾燥して、約０．３μｍの中間層を設けた以外は
実施例１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１４】実施例７ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を６０重
量部、酸化スズ微粉末を４０重量部とした以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１５】実施例８ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を２０重
量部、酸化スズ微粉末を８０重量部とした以外は実施例
１と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１１６】実施例９ 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（ＶＹＨＨ、Ｕ．Ｃ．
Ｃ社製）のテトラヒドロフラン溶液をスプレー塗工及び
加熱乾燥して中間層を作成した以外は実施例１と同様に
して電子写真感光体を作成した。

【０１１７】比較例１ 中間層を設けない以外は実施例１と同様にして、電子写
真感光体を作成した。

【０１１８】比較例２ 中間層と保護層を設けない以外は実施例１と同様にし
て、電子写真感光体を作成した。

【０１１９】以上の様にして得られた電子写真感光体を
市販の複写機（リコピー ＦＴ４８２０、リコー社製）
に取り付け、１０万枚複写テストを行ない画像評価を行
なった。結果を表３に示す。

【表３】

【０１２０】実施例１０ 下記構造式（化２６）で示される電荷輸送物質（Ｄ²）
と下記構造式（化２７）で示され、粘度平均分子量２万
であるバインダー樹脂（Ｒ²）とをＤ²／Ｒ²＝１０／１
０（重量比）固形分納度１７％（溶媒：塩化メチレン）
となる様に調節した後、シリコンオイル（ＫＦ−５０、
信越シリコーン社製）を０．０２％（対Ｒ²比）加えた
電荷輸送層用塗工液を８０ｍｍφのアルミニウムシリン
ダー上に浸漬塗工及び加熱乾燥して約２２μｍの電荷輸
送層を形成した。

【化２６】

【化２７】 この上に下記（化２８）で表わされるアゾ顔料のシクロ
ヘキサノン分散液をスプレー塗工及び加熱乾燥して約
０．２μｍの電荷発生層を形成した。

【化２８】 この上に四元共重合ナイロン（ＣＭ８０００、東レ社
製）のメタノール／１−ブタノール混合溶液（メタノー
ル／１−ブタノール＝７／３（重量比））をスプレー塗
工及び加熱乾燥して０．２μｍの中間層を形成した。さ
らにこの上に前記ポリアリールサルホン樹脂３０重量部
に前記酸化スズ被覆酸化チタン微粉末７０重量部を分散
して成るテトラヒドロフラン分散液をスプレー塗工及び
加熱乾燥して３μｍの保護層を設け、電子写真感光体を
作成した。

【０１２１】実施例１１ 保護層に使用される酸化チタン微粉末を前記酸化インジ
ウム微粉末に変えた以外は実施例１０と同様にして電子
写真感光体を作成した。

【０１２２】実施例１２ 保護層に使用される酸化チタン微粉末を前記酸化スズ微
粉末に変えた以外は実施例１０と同様にして電子写真感
光体を作成した。

【０１２３】実施例１３ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を５０重
量部、酸化チタン微粉末を５０重量部とした以外は実施
例１０と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１２４】実施例１４ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を６０重
量部、酸化チタン微粉末を４０重量部とした以外は実施
例１０と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１２５】実施例１５ 前記Ｎｏ．１の単量体を重合して得た単独重合体をエタ
ノール／１−ブタノール＝１／１（重量比）なる混合溶
媒に溶解した中間層用塗工液を用いてスプレー塗工及び
加熱乾燥して膜厚０．３μｍの中間層を設けた以外は実
施例１０と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１２６】実施例１６ 保護層に使用されるポリアリールサルホン樹脂を６０重
量部、酸化スズ被覆酸化チタン微粉末を４０重量部とし
た以外は実施例１０と同様にして電子写真感光体を作成
した。

【０１２７】実施例１７ 塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体（ＶＭＣ
Ｈ、Ｕ．Ｃ．Ｃ．社製）のテトラヒドロフラン溶液をス
プレー塗工及び加熱乾燥して、中間層を形成した以外は
実施例１０と同様にして電子写真感光体を作成した。

【０１２８】比較例３ 中間層を設けない以外は実施例１０と同様にして電子写
真感光体を作成した。

【０１２９】比較例４ 中間層と保護層を設けない以外は実施例１０と同様にし
て電子写真感光体を作成した。

【０１３０】実施例１０〜１８、比較例３〜４の電子写
真感光体を市販の複写機を正帯電方式に改造した改造機
に取り付け１０万枚複写テストを行ない画像評価を行な
った。結果を表４に示す。

【表４】

【０１３１】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、前記構造式
（１）（化１）で表わされるポリアリールサルホン樹脂
に導電性微粒子を分散して成る保護層を設けているの
で、耐摩耗性に優れ、繰り返し使用しても良好な画像を
得ることができる。また、中間層としてポリアミド又は
前記一般式（２）（化２）で表わされる単量体を重合し
て得られる単独重合体又は共重合体を使用した場合、電
荷発生層や電荷輸送層をおかすことなく保護層を設ける
ことができ、その為、良好な画像を得ることができる。
更に、保護層中の導電性微粒子の含有量をバインダー樹
脂に対して５０重量％以上７０重量％以下にした場合、
特に地肌汚れや画像流れ等の異常画像のない良好な画像
を得ることができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に、必要に応じて下引き
   層を設け、この上に電荷発生層、電荷輸送層、中間層、
   保護層の順に各層を積層してなる電子写真感光体におい
   て、前記保護層が下記構造式（１）（化１）で表わされ
   るポリアリールサルホン樹脂に導電性微粒子を分散して
   なることを特徴とする電子写真感光体。 【化１】
2. 【請求項２】 導電性支持体上に、必要に応じて下引き
   層を設け、この上に電荷輸送層、電荷発生層、中間層、
   保護層の順に各層を積層してなる電子写真感光体におい
   て、前記保護層が下記構造式（１）（化１）で表わされ
   るポリアリールサルホン樹脂に導電性微粒子を分散して
   なることを特徴とする電子写真感光体。 【化１】
3. 【請求項３】 前記保護層において、導電性微粒子の含
   有量がバインダー樹脂に対して５０〜７０重量％である
   ことを特徴とする請求項１又は２記載の電子写真感光
   体。
4. 【請求項４】 前記中間層がポリアミドからなることを
   特徴とする請求項１又は２記載の電子写真感光体。
5. 【請求項５】 前記中間層が下記一般式（２）（化２）
   で表わされる単量体を重合して得られる単独重合体又は
   共重合体からなることを特徴とする電子写真感光体。 【化２】